一种衍射抑制光学元件及其制造方法与流程

技术特征：
1.一种衍射抑制光学元件的制造方法，所述衍射抑制光学元件包括透明基底和形成在所述透明基底上的多个遮光区域，所述方法包括：提供压印模版，所述压印模版形成有对应于所述多个遮光区域的多个凸起结构；利用所述压印模版对涂覆于所述透明基底上的透明材料进行压印，从而在所述透明材料上形成对应于所述多个凸起结构的多个凹槽；以及在压印之后的所述透明材料上施加吸光材料，使得吸光材料填充在所述多个凹槽中并且露出其余部位的所述透明材料。2.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述吸光材料为吸光油墨。3.如权利要求2所述的制造方法，其中，所述吸光材料为对可见光的吸收系数α≥104cm
‑1的吸光油墨。4.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述透明材料为能够被热固化或紫外固化的聚合物材料。5.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述透明基底为玻璃或pet基底。6.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述多个凹槽中的至少两个凹槽具有不同的深度，使得所述吸光材料填充在所述至少两个凹槽中所形成的遮光区域具有不同的透过率。7.如权利要求1至6中任一项所述的制造方法，其中，所述多个凹槽中的至少一个凹槽的底面是倾斜的，使得所述吸光材料填充在所述至少一个凹槽中形成的遮光区域具有变化的透过率。8.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述在压印之后的所述透明材料上施加吸光材料包括：将吸光材料涂覆在所述透明材料的表面上，形成连续的涂层；以及，去除所述连续的涂层，使得所述吸光材料只存留在所述多个凹槽中，而将其余部位的所述透明材料露出。9.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述压印模版为硅基模版。10.如权利要求1所述的制造方法，其中，所述压印模版为基于一硅基模版通过压印或浇注工艺形成的柔性模版。11.如权利要求9或10所述的制造方法，其中，所述提供压印模版包括利用半导体光刻和刻蚀工艺制作所述硅基模版。12.如权利要求9或10所述的制造方法，其中，所述提供压印模版包括利用激光直写曝光制作所述硅基模版。13.一种衍射抑制光学元件，包括透明基底和形成在所述透明基底上的透明材料，所述透明材料上形成有多个凹槽，所述多个凹槽中填充有吸光材料，以形成多个遮光区域。14.如权利要求13所述的衍射抑制光学元件，其中，所述吸光材料只填充在所述多个凹槽中，而将其余部位的所述透明材料露出。15.如权利要求13所述的衍射抑制光学元件，其中，所述吸光材料为吸光油墨。16.如权利要求13所述的衍射抑制光学元件，其中，所述透明材料为能够被热固化或紫外固化的聚合物材料。

技术总结
本申请公开了一种衍射抑制光学元件及其制造方法，所述衍射抑制光学元件包括透明基底和形成在所述透明基底上的多个遮光区域，所述方法包括：提供压印模版；利用压印模版对涂覆于透明基底上的透明材料进行压印，从而在透明材料上形成多个凹槽；以及在压印之后的透明材料上施加吸光材料，使得吸光材料填充在多个凹槽中并且露出其余部位的透明材料。根据本发明实施例，只需要一片压印模版就可以使用微纳米压印复制工艺不断地生产产品，可以实现批量、快速生产，产能易提升；而且，可以避免使用超高平整度玻璃以及昂贵的半导体工艺所需设备，有利于大大降低成本。利于大大降低成本。利于大大降低成本。


技术研发人员：赵辉
受保护的技术使用者：嘉兴驭光光电科技有限公司
技术研发日：2021.07.12
技术公布日：2021/10/15