一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

具有带有形成常开式泄漏路径的堵塞缓解管道的压力感测系统的排气系统的制作方法

2021-10-24 04:56:00 来源:中国专利 TAG:排气 压力 沉积物 堵塞 总体上

技术特征:
1.一种排气系统,包括:排气管道,在上游排气入口和下游排气出口之间延伸;排气后处理装置,流体定位在所述排气管道内,并且被构造成处理从所述上游排气入口输送到所述下游排气出口的排气;排气压力传感器;传感器管道,流体连接到所述排气管道并延伸至所述排气压力传感器,以使所述排气压力传感器暴露于所述排气的流体压力;以及堵塞缓解管道,由所述传感器管道形成常开式泄漏路径。2.根据权利要求1所述的排气系统,其中:所述传感器管道在所述排气后处理装置上游的位置处流体连接到所述排气管道;所述排气后处理装置包括颗粒物过滤器组件中的过滤介质;所述常开式泄漏路径在所述排气后处理装置下游的位置连接到所述排气管道。3.根据权利要求1或2所述的排气系统,其中:所述排气压力传感器包括压差传感器,且还包括下游传感器管道,所述下游传感器管道在所述排气后处理装置下游的位置处流体连接到所述排气管道并延伸至所述排气压力传感器;并且所述堵塞缓解管道流体连接到所述下游传感器管道。4.一种排气压力感测系统,包括:上游传感器管道,包括被构造成在上游位置处流体连接到排气管道的第一入口端和与所述第一入口端相对的第一感测端;下游传感器管道,包括被构造成在下游位置处流体连接到所述排气管道的第二入口端和与所述第二入口端相对的第二感测端;压差传感器,包括在相应的第一感测端和第二感测端处暴露于所述上游传感器管道的流体压力和所述下游传感器管道的流体压力的至少一个感测元件;以及堵塞缓解管道,流体连接到所述上游传感器管道和所述下游传感器管道,所述堵塞缓解管道包括限流部,所述限流部在所述上游传感器管道和所述下游传感器管道之间流体流动,并形成常开式泄漏路径,以将泄漏的排气流中的冷凝物从所述上游传感器管道输送到所述下游传感器管道。5.根据权利要求4所述的系统,其中:所述至少一个感测元件包括暴露于所述上游传感器管道的流体压力和所述下游传感器管道的流体压力的隔膜和可操作地耦接至所述隔膜的应变仪;并且所述堵塞缓解管道在第一连接位置处流体连接到所述上游传感器管道,与所述第一入口端相比,所述第一连接位置更靠近所述第一感测端,并且在第二连接位置处流体连接到所述下游传感器管道,与所述第二入口端相比,所述第二连接位置更靠近所述第二感测端。6.根据权利要求4或5所述的系统,还包括服务包,所述服务包包含所述上游传感器管道、所述下游传感器管道、所述压差传感器,以及所述堵塞缓解管道。7.根据权利要求4

6中任一项所述的系统,其中:所述上游传感器管道和所述下游传感器管道中的每一者具有较大的管路尺寸,而所述堵塞缓解管道具有形成流量限制的较小的管路尺寸;
所述堵塞缓解管道包括形成流量限制的孔板;并且所述较大的管路尺寸与所述较小的管路尺寸之比是至少5∶1。8.一种排气系统中的排气压力感测的方法,包括以下步骤:将传感器管道流体连接到所述排气系统中的排气管道;将堵塞缓解管道流体连接到所述传感器管道,以便由所述传感器管道形成泄漏路径;将排气从所述排气管道馈送到所述传感器管道中,使得所述排气的流体压力撞击在排气压力传感器上;通过所述排气泄漏路径将排气从所述传感器管道中泄漏出来;将冷凝物与泄漏的排气一起从所述传感器管道中排出;将所述泄漏的排气和排出的冷凝物返回到所述排气管道;以及基于所述排气的流体压力,利用所述排气压力传感器产生排气压力信号。9.根据权利要求8所述的方法,其中:所述传感器管道的流体连接包括在所述排气系统中的排气后处理装置上游的位置处将所述传感器管道流体连接到所述排气管道;所述传感器管道的流体连接还包括在所述排气后处理装置下游的位置处将所述传感器管道流体连接到所述排气管道;排气压力信号的产生还包括产生指示所述排气后处理装置上的排气压降的排气压力信号;所述堵塞缓解管道的流体连接包括将所述堵塞缓解管道流体连接到下游传感器管道。10.根据权利要求8或9所述的方法,还包括以下步骤:在所述排气后处理装置下游的位置处将所述堵塞缓解管道流体连接到所述排气管道;和在所述排气系统中,将用过的传感器管道和用过的排气压力传感器的组件替换为包括所述传感器管道、所述排气压力传感器和所述堵塞缓解管道的组件。

技术总结
一种排气系统包括排气压力感测系统,排气压力感测系统具有被构造成流体连接到排气系统中的排气管道并将排气馈送给压差传感器的传感器管道。压差传感器产生指示排气后处理元件(诸如,排气过滤器)上的压降的压力信号。堵塞缓解管道提供常开式泄漏路径,用于在传感器管道之间输送泄漏的排气流中的冷凝物,以防止形成会影响压力感测准确性的沉积物。形成会影响压力感测准确性的沉积物。形成会影响压力感测准确性的沉积物。


技术研发人员:K
受保护的技术使用者:卡特彼勒公司
技术研发日:2021.04.14
技术公布日:2021/10/23
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文献

  • 日榜
  • 周榜
  • 月榜