阳极氧化膜结构物的制造方法及阳极氧化膜结构物与流程

本发明涉及一种阳极氧化膜结构物的制造方法及阳极氧化膜结构物。

背景技术：

在高温的气氛中热变形小的阳极氧化膜材质的原坯可以各种结构制作，且可在半导体或显示器领域等中用作一种构成。

阳极氧化膜材质的原坯可通过制作原坯的工艺来制作。阳极氧化膜材质的原坯可概略性地通过如下所述的过程制作而成。

首先，可配置铝母材并执行阳极氧化的过程。通过如上所述的过程，在母材的表面形成阳极氧化膜铝(al2o3)材质的阳极氧化膜。阳极氧化膜分为内部不形成气孔的阻挡层与内部形成有气孔的多孔层。阻挡层位于母材的上部，多孔层位于阻挡层的上部。如此，可执行从表面形成有具有阻挡层与多孔层的阳极氧化膜的母材除去母材的过程。通过如上所述的过程，留下阳极氧化膜铝(al2o3)材质的阳极氧化膜。

可通过执行包括上述过程的许多过程来制作阳极氧化膜材质的原坯。

作为一例，阳极氧化膜材质的原坯可形成由蚀刻工艺形成的孔，以便用作特定领域的一种构成。但是，在形成孔的过程中，未按照设计图案(例如，孔形成位置、孔尺寸及孔形状等)形成孔的情况，则可能产生孔不良问题。原坯中产生的孔不良可被视为原坯本身的不良。

如上所述，在将微小部分(例如，孔不良)的不良视为原坯本身的不良的情况下，可能会产生阳极氧化膜材质的原坯的生产产率明显下降的问题。

因此，需要开发一种技术，所述技术能够修复阳极氧化膜材质的原坯的微小不良部位并解决原坯的生产产率下降的问题。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]韩国注册专利第10-0664900号

技术实现要素：

[发明所要解决的问题]

本发明是为了解决所述问题而提出的，其目的在于提供一种能够使不良区域良好化并提高生产产率的阳极氧化膜结构物的制造方法及阳极氧化膜结构物。

[解决问题的技术手段]

根据本发明一特征的阳极氧化膜结构物的制造方法，包括：检查阳极氧化膜板是否存在不良区域的步骤；以及使存在于所述阳极氧化膜板的所述不良区域良好化的修复步骤。

另外，包括：通过配置在所述阳极氧化膜板的至少一面的接合层进行接合的步骤。

另外，所述阳极氧化膜板包括分割为多个的分割板，所述修复步骤是如下步骤：以良好的分割板替换包括所述不良区域的分割板，以将所述不良区域良好化。

另外，所述修复步骤是如下步骤：将包括所述不良区域的一部分区域切割并以良好区域替换切割的所述一部分区域，以使所述不良区域良好化。

另外，所述修复步骤是如下步骤：向所述不良区域所包括的不良贯通孔的内部填充填充物来使所述不良区域良好化。

根据本发明另一特征的阳极氧化膜结构物，包括：阳极氧化膜板，包括多个分割板；以及接合层，配置在所述阳极氧化膜板的至少一面并将所述分割板一体化。

另外，所述阳极氧化膜板上下层叠多个来配置，所述分割板之间的边界在相邻的上分割板、下分割板中彼此并不对应。

根据本发明另一特征的阳极氧化膜结构物，包括：阳极氧化膜板，配置有切割区域；修复板，配置在所述切割区域；以及接合层，配置在所述阳极氧化膜板与所述修复板的至少一面，并将所述阳极氧化膜板与所述修复板一体化。

根据本发明另一特征的阳极氧化膜结构物，在阳极氧化膜板处配置有良好的贯通孔及修复孔，且包括配置在所述修复孔周边的修复部。

[发明的效果]

本发明可防止将发生微小不良的阳极氧化膜板视为整体不良而丢弃的问题。因此，可通过有效地制作良好的阳极氧化膜结构物来提高阳极氧化膜结构物的生产产率。

附图说明

图1是概略性地示出根据本发明阳极氧化膜结构物的制造方法的第一实施例的修复步骤的图。

图2的(a)到图2的(c)及图3的(a)到图3的(d)示出构成本发明的阳极氧化膜结构物的阳极氧化膜板的各种实施例的图。

图4是示出本发明的阳极氧化膜结构物的层叠结构的实施例的图。

图5是概略性地示出根据本发明阳极氧化膜结构物的制造方法的第二实施例的修复步骤的图。

图6是将图5的第二实施例的修复步骤放大概略性地示出的图。

图7是概略性地示出根据本发明阳极氧化膜结构物的制造方法的第三实施例的修复步骤的图。

具体实施方式

以下的内容仅例示发明的原理。因此即便未在本说明书中明确地进行说明或示出，相应领域的技术人员也可实现发明的原理并发明包含于发明的概念与范围内的各种装置。另外，本说明书所列举的所有条件部用语及实施例在原则上应理解为仅是作为明确地用于理解发明的概念的目的，并不限制于如上所述特别列举的实施例及状态。

所述的目的、特征及优点通过与附图相关的下文的详细说明而进一步变明了，因此在发明所属的技术领域内技术人员可容易地实施发明的技术思想。

将参照作为本发明的理想例示图的剖面图和/或立体图来说明本说明书中记述的实施例。为了有效地说明技术内容，夸张表示这些附图中所示出的膜及区域的厚度及孔洞的直径等。例示图的形态可由于制造技术和/或公差等而变形。因此，本发明的实施例并不限定于示出的特定形态，还包括根据制造工艺生成的形态的变化。

在对各种实施例进行说明时，为了方便起见，即使实施例不同，针对执行相同功能的构成要素也赋予相同的名称及相同的参考编号。另外，为了方便起见，将省略已在其他实施例中说明的构成及操作。

以下，参照附图对本发明的优选实施例进行详细说明，如下所示。

本发明的阳极氧化膜结构物的制造方法可包括以下构成：检查阳极氧化膜板ap是否存在不良区域pf的步骤；以及将存在于阳极氧化膜板ap的不良区域pf良好化的修复步骤。

阳极氧化膜板ap的不良区域pf可为在阳极氧化膜板ap的制作过程中产生的微小裂纹(crack)或凹部等。另外，不良区域pf可意味着包括与设计图案不同地形成的不良贯通孔110。在下文中，作为一例，对不良区域pf是与设计图案不同地形成的不良贯通孔110的情形进行说明。

本发明可在执行检查是否存在不良区域pf的步骤之前执行配置阳极氧化膜板ap的步骤。

在本发明中，可分别制作相对小的大小的分割板dp以可构成阳极氧化膜板ap的原坯大小。然后，多个分割板dp可以构成原坯大小的阳极氧化膜板ap的方式进行布置。在此情况下，分割板dp可配置在与原坯大小的阳极氧化膜板ap对应的大小的接合层60上。

然后，在本发明中，作为一例，由于不良区域pf是不良贯通孔110，因此可执行在阳极氧化膜板ap形成贯通孔100的过程。

在此情况下，本发明可根据配置阳极氧化膜板ap的步骤的实施形态形成贯通孔100。

具体来说，在本发明中，在分别制作并配置小的大小的分割板dp的情况下，各个分割板dp中可形成有贯通孔100。

另一方面，在本发明中，在配置未分割的原坯的阳极氧化膜板ap的情况下，阳极氧化膜板ap中可形成有贯通孔100。

优选为，形成贯通孔100的过程可在阳极氧化膜板ap的至少一面配置能够进行光刻(photolithography)工艺的感光性材料之后执行。感光性材料可作为用于在阳极氧化膜板ap形成贯通孔100的掩模发挥功能。

可通过光刻工艺来图案化感光性材料的至少一部分。可通过利用图案化过程去除的区域对阳极氧化膜板ap执行蚀刻工艺。因此，可形成贯通孔100。然后可去除感光性材料。

另一方面，在阳极氧化膜板ap通过稍后描述的分割步骤配置为分割的结构的情况下，贯通孔100也可通过在分割步骤之前执行的接合步骤形成。关于此的详细说明稍后将在分割步骤之前执行接合步骤的说明中描述。

然后，可执行检查阳极氧化膜板ap是否存在不良区域pf的步骤(以下，称为“检查步骤”)。检查步骤可通过适合于检查并判断阳极氧化膜板ap的不良区域pf的检查单元执行。

本发明可在由多个分割板dp形成阳极氧化膜板ap之后执行一次检查步骤。

与此不同，本发明还可在制作各个分割板dp并形成贯通孔100之后各别地执行检查步骤。

本发明通过检查步骤可检查阳极氧化膜板ap是否存在不良区域pf，且可判断不良区域pf的存在。

本发明可在执行检查步骤之后执行使不良区域pf良好化的修复步骤(以下，称为“修复步骤”)。

可通过各种实施例执行修复步骤。在此情况下，阳极氧化膜板ap可根据修复步骤的执行过程而以合适的结构配置。因此，可在执行修复步骤之前执行附加的步骤。

图1是概略性地示出根据本发明第一实施例的修复步骤的图。如图1所示，在第一实施例的修复步骤中，可执行如下过程：将被分割为多个的阳极氧化膜板ap的包括不良区域pf的分割板dp替换为良好的分割板dp。

在第一实施例的修复步骤中，阳极氧化膜板ap可由被分割为多个的分割板dp形成。在第一实施例的修复步骤中，将包括不良区域pf的分割板dp替换为良好的分割板dp，从而可使不良区域pf良好化。

本发明可在阳极氧化膜板ap的配置步骤中配置原坯的阳极氧化膜板ap。在此情况下，本发明可在执行第一实施例的修复步骤之前执行将原坯的阳极氧化膜板ap分割为多个的步骤(以下，称为“分割步骤”)。

可通过分割步骤以构成阳极氧化膜板ap的原坯大小的方式一次性配置分割板dp。优选为，可在检查步骤以后执行分割步骤。

在本发明中，通过检查步骤，可在预先设计出最大程度利用不包括不良区域pf的原本良好区域gf的分割结构之后执行分割步骤。原本良好区域gf可为由良好的贯通孔100形成的区域。因此，可使分割板dp之间的边界50以最小限度配置在阳极氧化膜板ap。

然后，可执行分割步骤以执行第一实施例的修复步骤。通过分割步骤分割的分割板dp中的至少任一者可包括不良区域pf。

本发明可在阳极氧化膜板ap的配置步骤中根据配置阳极氧化膜板ap的实施形态选择性地执行分割步骤。

具体来说，本发明在分别制作分割板dp并配置阳极氧化膜板ap的情况下可省略分割步骤。

另一方面，本发明当在阳极氧化膜板ap的配置步骤中配置未经分割的原坯的阳极氧化膜板ap的情况下可执行分割步骤。在此情况下，本发明可优选为以在分割步骤中可最大程度利用阳极氧化膜板ap的原本良好区域gf的方式对阳极氧化膜板ap进行分割。

作为一例，如图1所示，在将阳极氧化膜板ap分割为横向带形态的情况下，包括不良区域pf的分割板dp可以比不包括不良区域pf的其他分割板dp小的面积被分割。因此，最大程度利用了阳极氧化膜板ap的原本良好区域gf，且可有效地替换仅不良区域pf而实现良好化。

在本发明中，作为一例，对不良区域pf仅在一处发生的情形进行了图示说明，但是不良区域pf可在一个阳极氧化膜板ap中在多处产生。即使在此情况下，本发明也可通过分割步骤以最小的面积仅分割不良区域pf。

作为一例，阳极氧化膜板ap可通过分割步骤被分割为横向带形态、垂直带形态、多边形态及仅至少一部分区域被分割的形态等。阳极氧化膜板ap的分割形态不限于此。

然后，可附加执行通过配置在阳极氧化膜板ap的至少一面的接合层60进行接合步骤(以下，称为“接合步骤”)。经分割的阳极氧化膜板ap可通过接合层60而一体化。

另一方面，接合步骤也可在分割步骤之前执行。在此情况下，优选为阳极氧化膜板ap可以不形成贯通孔100的状态配置。阳极氧化膜板ap可在至少一面配置有接合层60。然后，可通过光刻工艺将接合层60的至少一部分图案化。可通过利用图案化过程去除的区域来对阳极氧化膜板ap执行蚀刻工艺。因此，可形成贯通孔100。

与此不同，本发明在分别制作分割板dp来配置阳极氧化膜板ap的情况下，可在阳极氧化膜板ap的配置步骤中配置与原坯大小的阳极氧化膜板ap对应的大小的接合层60。在此情况下，本发明可在阳极氧化膜板ap的配置步骤中执行将分割板dp一体化的接合步骤。

在本发明中，当在阳极氧化膜板ap的配置步骤中执行接合步骤的情况下，可在分割板dp形成贯通孔100之后执行。

与此不同，本发明也可在分割板dp形成贯通孔100之前执行接合步骤。在此情况下，在所述配置贯通孔100的过程中，接合层60可用作用于配置贯通孔100的感光性材料。因此，接合层60可执行提供用于形成贯通孔100的区域的功能。

由于接合层60需要通过光刻工艺来图案化，因此保有感光性特性且需要执行接合功能，因此可由保有接合特性的构成来形成。

在分割步骤之前执行接合步骤的情况，接合层60可执行提供用于形成贯通孔100的区域的功能。另外，接合层60可执行将通过在接合步骤以后执行的分割步骤分割的阳极氧化膜板ap一体化的功能。因此，当在分割步骤之前执行接合步骤的情况下，接合层60可同时执行提供用于形成贯通孔100的区域的功能及将分割板dp一体化的功能。

在本发明中，当在接合步骤以后执行分割步骤的情况下，可使用能够仅分割除接合层60之外的阳极氧化膜板ap的单元来分割阳极氧化膜板ap。

然后，可执行如图1所示的第一实施例的修复步骤。在图1中，作为一例，对阳极氧化膜板ap被分割为横向带形态的情形进行图示说明。在此情况下，阳极氧化膜板ap的分割个数并不限制。

在图1中，作为一例，阳极氧化膜板ap可包括第一分割板dp1、第二分割板dp2及第三分割板dp3，且第一分割板dp1可包括不良区域pf。因此，从图1的图中，从最上部开始可依次定位第一分割板dp1、第二分割板dp2及第三分割板dp3。

在第一实施例的修复步骤中，可执行从接合层60分离包括不良区域pf的分割板dp的过程。因此，第一分割板dp1可从接合层60分离。在如上所述的过程中，可使用能够将分割板dp从接合层60分离并移送的合适的移送单元。

在第一实施例的修复步骤中，可配置包括包括不良区域pf的第一分割板dp1与替换的良好的分割板dp的临时阳极氧化膜板ap'。临时阳极氧化膜板ap'可以与包括第一分割板至第三分割板dp1、dp2、dp3的阳极氧化膜板ap相同的结构被分割并配置。

移送单元可将良好的分割板dp从临时阳极氧化膜板ap'的接合层60分离。然后，可将良好的分割板dp移送到移除了第一分割板dp1的位置。然后可执行接合步骤。良好的分割板dp可通过阳极氧化膜板ap的接合层60而与阳极氧化膜板ap的其余的分割板(例如，第二分割板dp2、第三分割板dp3)一体化。

如此，本发明可分割阳极氧化膜板ap以可仅去除特定部分(具体来说包括不良区域pf的部分)并容易进行替换来构成，从而执行第一实施例的修复步骤。

通过第一实施例的修复步骤，照原样使用阳极氧化膜板ap的原本良好区域(例如，第二分割板dp2、第三分割板dp3)，且可仅替换不良区域(例如，第一分割板dp1)以进行局部良好化。因此，可防止因产生微小部分的不良而将阳极氧化膜板ap视为不良并丢弃的问题。因此，可提高包括阳极氧化膜板ap的阳极氧化膜结构物的整体产品的制造产率。

图2的(a)到图2的(c)及图3的(a)到图3的(d)是从上方观察并概略性地示出构成本发明的阳极氧化膜结构物1的阳极氧化膜板ap的各种实施例的图。

阳极氧化膜板ap可被分割为各种形态且包括多个分割板dp。图2的(a)到图2的(c)及图3的(a)到图3的(d)所示的分割板dp的个数作为一例进行图示，因此不限制分割板dp的个数。

可在阳极氧化膜板ap的至少一面配置将分割板dp一体化的接合层60。在此情况下，阳极氧化膜板ap可为通过第一实施例的修复步骤将不良区域pf修复并使整体区域良好化的状态。

本发明可执行分割阳极氧化膜板ap的步骤以执行第一实施例的修复步骤。执行了分割步骤的阳极氧化膜板ap可根据在分割步骤中被分割的结构具有不同的边界50。

因此，如图2的(a)到图2的(c)及图3的(a)到图3的(d)所示，已执行了第一实施例的修复步骤的阳极氧化膜板ap可在构成阳极氧化膜板ap的分割板dp之间存在边界50。

在图2的(a)到图2的(c)及图3的(a)到图3的(d)中示出了阳极氧化膜板ap的分割结构的各种实施例。

如图2的(a)所示，阳极氧化膜板ap可包括被分割为垂直带形态的分割板dp。阳极氧化膜板ap可通过区分分割板dp之间的边界50由垂直带形态的多个区域形成。在此情况下，至少一个以上的分割板dp可为通过第一实施例的修复步骤替换的良好的分割板dp。

如图2的(b)所示，阳极氧化膜板ap可包括被分割为多边形态的分割板dp。在本发明中，作为一例，阳极氧化膜板ap可由多个矩形形态的分割板dp形成。

矩形形态的分割板dp可通过在阳极氧化膜板ap形成横向带形态的分割板dp并形成垂直带形态的分割板dp而构成。因此，在阳极氧化膜板ap中，可以横向方向的边界50与垂直方向的边界50彼此交叉的结构配置。

如图2的(b)所示，在将分割板dp分割为矩形剖面的情况下，可以棋盘排列的方式布置在阳极氧化膜板ap上。在此情况下，至少一个以上的分割板dp可为通过第一实施例的修复步骤替换的良好的分割板dp。

如图2的(c)所示，阳极氧化膜板ap可以通过边界50仅分割一部分区域10的形态形成。在图2的(c)中，作为一例，可配置具有比阳极氧化膜板ap的整体面积小的面积的矩形剖面的一部分区域10。还可以具有多边形态的剖面的方式配置一部分区域10。在此情况下，被边界50分割的两个区域中的至少任一区域可为通过第一实施例的修复步骤而实现良好化的区域。

图3的(a)到图3的(d)示出其中将阳极氧化膜板ap分为存在贯通孔100的贯通孔存在区域130与不存在贯通孔100的边缘区域120来分割的实施例的图。在此情况下，贯通孔存在区域130或边缘区域120中的至少任一区域可为通过第一实施例的修复步骤而实现良好化的区域。

如图3的(a)到图3的(d)所示，阳极氧化膜板ap可包括贯通孔存在区域130及边缘区域120。

边缘区域120是不存在贯通孔100的区域，且不执行单独的附加工艺(例如，用于形成贯通孔100的蚀刻工艺)，因此不良产生率会低。

因此，本发明可通过将仅由良好区域形成的可能性高的边缘区域120与贯通孔存在区域130单独地分割，从而提高对良好区域的利用度。

贯通孔存在区域130是执行用于形成贯通孔100的单独的蚀刻工艺的区域，且可为产生不良区域pf的可能性相对高的区域。在本发明中，此种贯通孔存在区域130可包括多个分割板dp。

贯通孔存在区域130可包括各种形态的分割板dp。

如图3的(a)所示，贯通孔存在区域130可被分割为垂直带形态。因此，贯通孔存在区域130可具有垂直方向的边界50。

贯通孔存在区域130产生不良区域pf的可能性可能相对高。因此，如图3的(a)到图3的(d)所示，本发明通过将贯通孔存在区域130分割为多个的结构可有效地修复产生不良部分的可能性高的区域。

与此不同，如图3的(b)所示，贯通孔存在区域130可被分割为横向带形态。在此情况下，阳极氧化膜板ap可具有将边缘区域120与贯通孔存在区域130分割的边界50以及将贯通孔存在区域130分割为多个的横向方向的边界50。

与此不同，如图3的(c)所示，贯通孔存在区域130可被分割为多边形形态。作为一例，贯通孔存在区域130可被分割为具有矩形剖面的形态。因此，可在贯通孔存在区域130中配置具有矩形剖面的多个分割板dp。

通过如上所述的结构，阳极氧化膜板ap可具有将贯通孔存在区域130分割为棋盘排列形式的横向方向的边界50及垂直方向的边界50。

与此不同，如图3的(d)所示，贯通孔存在区域130可仅分割一部分区域10。作为一例，在图3的(d)中，一部分区域10可为以比贯通孔存在区域130的面积小的面积形成的矩形剖面区域。

通过如上所述的结构，阳极氧化膜板ap可具有将边缘区域120与贯通孔存在区域130分开的边界50。另外，阳极氧化膜板ap可具有边界50，所述边界50将面积比贯通孔存在区域130的面积小的一部分区域10与除一部分区域10之外的其余贯通孔存在区域130分开。

如图3的(a)至图3的(d)所示，贯通孔存在区域130可通过存在于贯通孔存在区域130的边界50而被分割为各种形态。

如此，本发明可将不良产生率相对高的贯通孔存在区域130分割为多个来配置分割板dp。因此，本发明在第一实施例的修复步骤中，可使用良好的分割板dp容易地替换仅包括不良区域pf的分割板dp。

如上所述，本发明的阳极氧化膜结构物的制造方法可通过第一实施例的修复步骤以良好的分割板dp替换存在微小不良部分的分割板dp。因此，阳极氧化膜板ap可仅由良好的分割板dp形成。

通过如上所述的制造方法制作的阳极氧化膜结构物1可包括如下来构成：阳极氧化膜板ap，包括多个分割板dp；以及接合层60，配置在阳极氧化膜板ap的至少一面，以将分割板dp一体化。

本发明的制造方法可仅部分地修复阳极氧化膜板ap的不良区域pf以使阳极氧化膜板ap良好化。因此，本发明的制造方法可省略将在微小部分发生不良的阳极氧化膜板ap整体丢弃并重新制作配置的过程。

由于阳极氧化膜板ap是通过许多工艺制作的，因此可能需要花费很长的制作时间。本发明的制造方法可制作小的大小的分割板dp以构成原坯大小的阳极氧化膜板ap。或者，本发明可在制作原坯大小的阳极氧化膜板ap之后进行分割来构成分割板dp。然后，本发明可仅部分地修复阳极氧化膜板ap的不良部分以实现良好化。

因此，可省略重新制作并配置存在不良部分的阳极氧化膜板ap的过程。因此，可快速且有效地制作良好的阳极氧化膜结构物1，且提高生产产率。

图4是以剖面示出阳极氧化膜结构物1的层叠结构的实施例的图。如图4所示，阳极氧化膜结构物1被配置为层叠有多个的结构，且可用于半导体或显示器领域。

作为一例，阳极氧化膜结构物1可包括由多个分割板dp形成的阳极氧化膜板ap构成。如图4所示，层叠有多个的阳极氧化膜结构物1可具有如下结构：阳极氧化膜板ap上下层叠多个且通过接合层60彼此接合。

上下层叠的阳极氧化膜板ap可以构成每一者的分割板dp之间的边界50彼此不对应的方式配置。

具体来说，层叠有多个的阳极氧化膜结构物1从图4的图中，从最下部开始可由第一阳极氧化膜板ap1、第二阳极氧化膜板ap2及第三阳极氧化膜板ap3形成并依次定位。

如图4所示，作为一例，第二阳极氧化膜板ap2可包括垂直带形态的分割板dp。因此，在第二阳极氧化膜板ap2的分割板dp之间可在竖直方向上存在边界50。

在如上所述的结构中，层叠在第二阳极氧化膜板ap2的上部、下部的第三阳极氧化膜板ap3及第一阳极氧化膜板ap1可以与第二阳极氧化膜板ap2不同的分割结构配置。

第三阳极氧化膜板ap3可以与具有垂直方向的边界50的第二阳极氧化膜板ap2具有不同方向的边界50的方式配置。作为一例，第三阳极氧化膜板ap3可以具有横向方向边界50的方式配置且配置在上部。换句话说，第三阳极氧化膜板ap3可包括横向带形态的分割板dp。因此，在第三阳极氧化膜板ap3的分割板dp之间可存在横向方向的边界50。

与此不同，第三阳极氧化膜板ap3可以仅分割一部分区域10的形态形成。在此情况下，作为一例，一部分区域10可为如下区域：具有以比第三阳极氧化膜板ap3的整体面积小的面积形成的矩形剖面。

因此，在第三阳极氧化膜板ap3中可存在将一部分区域10与其余区域分割开的边界50。在一部分区域10以矩形剖面形成的情况下，在第三阳极氧化膜板ap3的至少一部分区域中可存在形成矩形剖面的外廓的边界50。

层叠的阳极氧化膜结构物1可在第二阳极氧化膜板ap2的上部配置如上所述结构的第三阳极氧化膜板ap3。因此，层叠的阳极氧化膜结构物1可以其中各层的分割板dp之间的边界50彼此不对应的结构配置。

另一方面，第一阳极氧化膜板ap1可具有与第二阳极氧化膜板ap2的垂直方向边界50不同方向的边界50且配置在下部。

作为一例，第一阳极氧化膜板ap1可由横向带形态的分割板dp形成且具有横向方向的边界50。

与此不同，第一阳极氧化膜板ap1可以仅分割一部分区域10的形态形成。作为一例，一部分区域10可为如下区域：具有以比第一阳极氧化膜板ap1的整体面积小的面积形成的矩形剖面。

层叠的阳极氧化膜结构物1可在第二阳极氧化膜板ap2的下部配置如上所述结构的第一阳极氧化膜板ap1。因此，第二阳极氧化膜板ap2的分割板dp之间的边界50可能与第一阳极氧化膜板ap1的分割板dp之间的边界50彼此并不对应。

如此层叠的阳极氧化膜结构物1可形成为各层的阳极氧化膜板ap1、ap2、ap3的分割板dp之间的边界50彼此并不对应的结构。具体来说，相邻的阳极氧化膜板ap之间可具有彼此并不对应的边界50。因此，层叠的阳极氧化膜结构物1可形成为相邻的阳极氧化膜板ap之间的边界50至少一部分不交叉或重叠的结构。如上所述的结构可提高层叠有多个的结构的阳极氧化膜结构物1的耐久性。

另一方面，在不相邻的阳极氧化膜板ap间还可配置彼此对应的边界50。作为参照图4的一例，第一阳极氧化膜板ap1、第三阳极氧化膜板ap3可在其之间配置第二阳极氧化膜板ap2。因此，可为不相邻的阳极氧化膜板ap。第一阳极氧化膜板ap1、第三阳极氧化膜板ap3可具有彼此对应的边界50。换句话说，第一阳极氧化膜板ap1、第三阳极氧化膜板ap3可包括相同形态的分割板dp。

分别与第一阳极氧化膜板ap1、第三阳极氧化膜板ap3相邻的阳极氧化膜板ap可为第二阳极氧化膜板ap2。层叠的阳极氧化膜结构物1可为相邻层的阳极氧化膜板ap之间的边界50彼此并不对应的结构。因此，第二阳极氧化膜板ap2可具有分别与第一阳极氧化膜板ap1、第三阳极氧化膜板ap3彼此并不对应的边界50。因此，即使第一阳极氧化膜板ap1、第三阳极氧化膜板ap3具有彼此对应的边界50，也可通过第二阳极氧化膜板ap2防止强度下降的问题。

另一方面，如图4所示，在层叠的阳极氧化膜结构物1中，将分割板dp一体化的接合层60可配置在各层的阳极氧化膜板ap1、ap2、ap3之间。通过如上所述的结构，可将各层所具有的边界50的至少一面接合到接合层60。因此，接合层60可将各层的分割板dp一体化，从而可提高一次层叠的阳极氧化膜结构物1的强度。

如此，本发明的阳极氧化膜结构物1可以在层叠多个的结构中使相邻层的阳极氧化膜板ap之间的边界50彼此不对应的方式配置。因此，可防止在层叠结构中阳极氧化膜结构物1的强度下降的问题。

图5是概略性地示出本发明的阳极氧化膜结构物的制造方法的第二实施例的修复步骤的图，图6是将执行第二实施例的修复步骤的不良区域pf放大而概略性示出的图。

如图5及图6所示，在第二实施例的修复步骤中可执行如下过程：将包括不良区域pf的一部分区域10切割，且以良好区域gf替换被切割的一部分区域10。一部分区域10包括不良区域pf，且可包括与不良区域pf相邻的良好区域gf的至少一部分区域。

如图5及图6所示，阳极氧化膜板ap可通过检查步骤而暴露出不良区域pf。

然后，可执行切割包括不良区域pf的一部分区域10的过程。在切割过程中一部分区域10被切割的区域可为切割区域20。

在本发明中，作为一例，对切割区域20以矩形剖面形成的情形进行了图示，但是切割区域20还可以其他剖面形态形成。

如图6所示，在阳极氧化膜板ap中可以相同的节距间隔p配置贯通孔100。贯通孔100以微细的内径形成且可具有狭窄的节距间隔。在此情况下，在阳极氧化膜板ap中可能具有并未按照设计图案形成的不良贯通孔110。此种不良贯通孔110可为不良区域pf。另一方面，按照设计图案形成的贯通孔100可为良好区域gf。

不良区域pf可为具有微小面积的一部分。因此，阳极氧化膜板ap优选为可一次性切割不良区域pf及与不良区域pf的周边相邻的至少一部分良好区域gf。因此，可防止阳极氧化膜板ap在切割微小面积的过程中可能发生的其他不良问题。

如图5所示，在第二实施例的修复步骤中可配置修复板drp。修复板drp可为面积小于或等于切割区域20的面积的分割板。在本发明中，作为一例，对修复板drp的面积小于切割区域20的面积的情形进行说明。

修复板drp可以个数与在阳极氧化膜板ap中切割的一部分区域10的个数相同的结构配置良好贯通孔100。

具体来说，修复板drp可以与阳极氧化膜板ap的一部分区域10所包括的不良贯通孔110及良好的贯通孔100的个数相同的结构、包括良好的贯通孔100的方式从原坯的修复板drp中切割。此可用于使在执行第二实施例的修复步骤之前的阳极氧化膜板ap的贯通孔100与执行第二实施例的修复步骤之后的阳极氧化膜板ap的贯通孔100之间的节距间隔p相同地配置。

如图6所示，修复板drp可配置在阳极氧化膜板ap的切割区域20。在此情况下，可通过配置在阳极氧化膜板ap的至少一面的接合层60将修复板drp接合到切割区域20来配置。此时，接合层60可将阳极氧化膜板ap与配置在切割区域20的修复板drp一体化。

修复板drp可以如下方式配置：具有与对阳极氧化膜板ap执行修复步骤之前的贯通孔100的节距间隔p相同的节距间隔p。

因此，已执行了第二实施例的修复步骤的阳极氧化膜板ap可为如下结构：修复板drp的贯通孔100与相邻的阳极氧化膜板ap的贯通孔100隔以与原坯的阳极氧化膜板ap的贯通孔100的节距间隔p相同的节距间隔p进行配置。

阳极氧化膜板ap可通过第二实施例的修复步骤来使不良区域pf良好化。此时，阳极氧化膜板ap可以保持原坯的贯通孔100之间的节距间隔p的方式配置修复板drp。因此，即使阳极氧化膜板ap通过修复步骤具有由同种或不同材质形成的其他板(具体来说，修复板)，也可毫无错误地执行使用贯通孔100的功能。

如此，本发明的阳极氧化膜结构物的制造方法可通过第二实施例的修复步骤切割存在不良区域pf的部分，且以良品替换所切割的部分。

通过如上所述的制造方法制作的阳极氧化膜结构物可包括如下来构成：阳极氧化膜板ap，配置有切割区域20；修复板drp，配置在切割区域20；以及接合层60，配置在阳极氧化膜板ap与修复板drp的至少一面，以将阳极氧化膜板ap与修复板drp一体化。

如图6所示，在修复板drp的面积以比切割区域20的面积小的面积配置的情况下，阳极氧化膜结构物1可被形成为在修复板drp的周边暴露出接合层60的一部分的结构。

阳极氧化膜结构物1可通过将包括不良区域pf的一部分区域10与原本良好区域gf分割来切割一部分区域10，从而配置切割区域20。可在此种切割区域20中配置修复板drp。因此，阳极氧化膜结构物1可具有在修复板drp与原本良好区域gf之间具有边界50的结构。

本发明的制造方法可通过如上所述的修复步骤仅部分地修复阳极氧化膜板ap的不良部分。因此，阳极氧化膜结构物1可通过仅配置良好的阳极氧化膜板ap来制作。因此，可提高阳极氧化膜结构物1整体的生产产率。

图7是概略性地示出根据本发明第三实施例的修复步骤的图。在第三实施例的修复步骤中，可执行以下过程：对不良区域pf所包括的不良贯通孔110的内部填充填充物40以使不良区域pf良好化。

如图7所示，阳极氧化膜板ap可能会形成与设计图案不同的贯通孔100而产生不良区域pf。不良区域pf可包括不良贯通孔110。

首先，可执行对不良贯通孔110填充填充物40的过程。因此，可在贯通孔100的内部中填充填充物40。填充到不良贯通孔110的填充物40可为具有无机陶瓷性质的填充物，且可为由粉末形态的氧化铝(al2o3)形成的填充物。

阳极氧化膜板ap可通过对不良贯通孔110内部填充填充物40来配置修复部80。修复部80可为用于对修复孔70进行加工的部分。

然后，可执行用于在修复部80中对修复孔70进行加工的孔加工工艺。作为孔加工工艺，可使用激光、钻孔(drilling)或蚀刻加工中的至少一种加工方法。对修复孔70进行加工的工艺可为使不良贯通孔110良好化的过程。

如图7所示，修复孔70可形成在修复部80的范围内。因此，在修复部80中形成修复孔70之后，至少一部分的修复部80可照原样保留。阳极氧化膜结构物1可由于保留的至少一部分修复部80而被形成为在修复孔70周边配置有至少一部分修复部80的结构。

通过执行如上所述的第三实施例的修复步骤的制造方法制作的阳极氧化膜结构物1可在阳极氧化膜板ap配置有良好的贯通孔100及修复孔70，且包括配置在修复孔70周边的修复部80来构成。

此种阳极氧化膜结构物1可配置有多个并层叠。在此情况下，可在阳极氧化膜板ap的至少一面附加配置接合层60。

层叠的阳极氧化膜结构物1可能在彼此对应的位置处具有不良贯通孔110。在此情况下，层叠的阳极氧化膜结构物1由于不良贯通孔110而性能可能下降。

如此，本发明通过第三实施例的修复步骤可使各层的所有不良贯通孔110良好化。

另一方面，本发明通过第三实施例的修复步骤也可使在不良贯通孔110的上下相邻的不良贯通孔110良好化。

层叠的阳极氧化膜结构物1在不良贯通孔110的上、下配置良好的贯通孔100的情况下，可执行其功能。因此，本发明在第三实施例的修复步骤中，仅在不良贯通孔110存在于上下两方的情况下才可修复不良贯通孔110中的任一个以实现良好化。

本发明可在第三实施例的修复步骤中将层叠的阳极氧化膜结构物1所包括的不良贯通孔110中的仅一部分良好化。优选为，良好化的不良贯通孔110可为配置在形成层叠的阳极氧化膜结构物1的表面的阳极氧化膜板ap的不良贯通孔110。因此，未被修复的不良贯通孔110可位于已经良好化的贯通孔100之间。

如此，本发明通过包括第三实施例的修复步骤的制造方法可有效地制作可提供高质量功能的阳极氧化膜结构物1。

本发明的阳极氧化膜结构物1可包括具有经修复的区域的阳极氧化膜板ap来构成。经修复的区域可为通过本发明的制造方法的修复步骤而良好化的区域。

本发明可通过修复步骤使由于微小不良而被视为整体不良的阳极氧化膜板ap良好化。此时，阳极氧化膜板ap可仅修复不良部分并照原样利用原本良好区域gf。因此，本发明可防止将产生微小不良的阳极氧化膜板ap视为整体不良而丢弃的问题。

另外，本发明可通过修复步骤省略对被视为不良的阳极氧化膜板ap再制作的过程。因此，可通过有效地制作良好的阳极氧化膜结构物1来提高阳极氧化膜结构物1的生产产率。

如上所述，尽管已参照本发明的优选实施例进行了说明，但是相应技术领域的普通技术人员可在不脱离以上权利要求中所记载的本发明的思想及领域的范围内对本发明实行各种修改或变形。