阵列基板、显示装置的制作方法

技术特征：
1.一种阵列基板，包括显示区，其特征在于，所述阵列基板还包括：衬底基板；第一导电层，设置于所述衬底基板的一侧，包括至少一条低电平电源线，所述低电平电源线至少部分位于显示区；层间功能层，设置于所述第一导电层背离所述衬底基板的一侧；公共阴极，设置于所述层间功能层背离所述衬底基板的一侧，位于所述显示区的所述公共阴极通过贯穿所述层间功能层的过孔与所述低电平电源线电连接。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一导电层包括多条所述低电平电源线；多条所述低电平电源线沿第一方向延伸且沿第二方向间隔分布。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述低电平电源线在其延伸方向上包括多几间隔设置的连接部，多个所述连接部分别通过过孔与位于显示区的所述公共阴极连接。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括沿所述第一方向、第二方向行列分布的多个子像素单元，所述第一方向为列方向所述第二方向为行方向；相邻所述低电平电源线之间设置有相同列的所述子像素单元，同一条所述低电平电源线上相邻的连接部之间具有相同距离。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，相邻所述低电平电源线上的连接部在行方向上交错设置。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述层间功能层包括：像素定义层，包括遮挡部，所述遮挡部形成用于设置发光单元的开口，所述遮挡部上还设置有第一过孔，所述第一过孔用于组成所述过孔；显示区中所述低电平电源线在所述衬底基板的正投影位于所述遮挡部在所述衬底基板的正投影上。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述层间功能层还包括：钝化层，设置于所述第一导电层与所述像素定义层之间，所述钝化层上设置有第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔连通，用于组成所述过孔。8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述层间功能层还包括：平坦层，设置于所述钝化层和所述像素定义层之间，所述平坦层上设置有第三过孔，所述第三过孔与所述第一过孔、第二过孔连通，用于组成所述过孔。9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第二过孔在所述衬底基本的正投影位于所述第三过孔在所述衬底基板的正投影上，且第三过孔在衬底基板上的正投影面积大于第二过孔在衬底基板上的正投影面积；所述第二过孔在所述衬底基本的正投影位于所述第一过孔在所述衬底基板的正投影上，且第一过孔在衬底基板上的正投影面积大于第二过孔在衬底基板上的正投影面积。10.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第二过孔、第三过孔在所述衬底基板的正投影位于所述低电平电源线在所述衬底基板的正投影上。11.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第一导电层还包括感测信号线，所述第一过孔在所述衬底基板的正投影至少部分与所述感测信号线在所述衬底基板的正
投影重合。12.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第三过孔在所述衬底基本的正投影与所述第二过孔在所述衬底基板的正投影重合；所述第二过孔在所述衬底基本的正投影位于所述第一过孔在所述衬底基板的正投影上，且第一过孔在衬底基板上的正投影面积大于第二过孔在衬底基板上的正投影面积。13.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第三过孔在所述衬底基本的正投影、所述第二过孔在所述衬底基板的正投影以及所述第一过孔在所述衬底基板的正投影完全重合。14.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：阳极层，设置于所述平坦层和所述公共阴极之间，包括位于所述第一过孔中的层间连接部，所述层间连接部面向所述衬底基板的一侧通过所述第二过孔、第三过孔与所述低电平电源线电连接，所述层间连接部背离所述衬底基板的一侧通过第一过孔与所述公共阴极连接。15.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-14任意一项所述的阵列基板。

技术总结
本发明涉及显示技术领域，提出一种阵列基板、显示装置，该阵列基板包括显示区，阵列基板还包括衬底基板、第一导电层、公共阴极、层间功能层。第一导电层设置于所述衬底基板的一侧，包括至少一条低电平电源线，所述低电平电源线至少部分位于显示区；层间功能层，设置于所述第一导电层背离所述衬底基板的一侧；公共阴极设置于所述第一导电层背离所述衬底基板的一侧，位于所述显示区的所述公共阴极通过贯穿所述层间功能层的过孔与所述低电平电源线电连接。本阵列基板中公共阴极上的电位较为均匀。本阵列基板中公共阴极上的电位较为均匀。本阵列基板中公共阴极上的电位较为均匀。


技术研发人员：李蒙 吴仲远 李永谦 袁粲 袁志东 刘烺 张大成
受保护的技术使用者：合肥鑫晟光电科技有限公司
技术研发日：2020.05.21
技术公布日：2021/11/25