聚酰胺酸树脂、其制备方法及由其制备的负性光刻胶与流程

技术特征：
1.一种聚酰胺酸树脂，其化学结构如下：其中，x＝0.1-0.9；n＝5-200；ar1和ar2各自独立地选自下组：各自独立地选自下组：r1选自下组：选自下组：
其中r3可以为单键、氧原子、硫原子、苯环、(c1-c3)烷基苯环、羰基、酯基中的任意一种；k值为0-10；r4、r5、r6、r7和r8可以相同也可以不相同，且各自彼此独立的选自氢、直链或直链(c1-c16)烷基、(c6-c10)芳基、(c6-c10)芳基(c1-c3)烷基、全氟(c1-c16)烷基、全氟(c6-c10)芳基、全氟(c6-c10)芳基(c1-c3)烷基；。r2选自下组：选自下组：2.根据权利要求1所述的聚酰胺酸树脂，其中：x＝0.5，n＝20，r1为r2为ar1为ar2为或x＝0.83，n＝10，r1为r2为ar1为ar2为或
x＝0.36，n＝50，r1为r2为ar1为ar2为或x＝0.75，n＝15，r1为r2为ar1为ar2为或x＝0.15；n＝100；r1为r2为ar1为ar2为或x＝0.2，n＝15，r1为r2为ar1为ar2为或x＝0.81，n＝25，r1为r2为ar1为
ar2为或x＝0.5，n＝150，r1为r2为ar1为ar2为或x＝0.5；n＝50；r1为r2为ar1为ar2为3.负性光刻胶，其特征在于，按重量份计，其包括：100重量份的溶剂；10-40重量份的如权利要求1或2所述的聚酰胺酸树脂；和1-10重量份的产酸剂。4.根据权利要求3所述的负性光刻胶，其特征在于，所述溶剂选自nmp、γ-丁内酯、丙二醇甲醚醋酸酯和γ-丁内酯中的一种或多种。5.根据权利要求4所述的负性光刻胶，其特征在于，所述产酸剂选自tme-三嗪、piw-501(heraeus)、三氟甲基磺酸基三苯基硫鎓盐、n-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲基苯磺酸酯中的一种或多种。6.根据权利要求1或2所述的聚酰胺酸树脂在制备负性光刻胶中的用途。

技术总结
本公开涉及一种负性光刻胶用聚酰胺酸树脂，其通过使支链含有苯并咪唑基的二胺、不含咪唑基的二胺以及二酐单体反应得到。所述聚酰胺酸树脂可用于进一步制备可低温亚胺化的负性光刻胶。性光刻胶。


技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：上海极紫科技有限公司
技术研发日：2021.09.26
技术公布日：2022/1/10