一种用于纺织品光谱分析的辅助装置的制作方法

技术特征：
1.一种用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于包括：底座，所述底座包括设于所述底座的上表面且朝下凹陷的定位腔和设于所述底座的上表面且朝下凹陷的可供手指通过的取放槽，所述取放槽位于定位腔的侧面且与所述定位腔相通；样品杯，其放置于所述定位腔内，且所述样品杯置于所述定位腔时，其上端的高度高于所述取放槽底部的高度，所述样品杯的上表面朝下凹陷形成有样品容置腔。2.根据权利要求1所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述样品杯的高度与所述定位腔的高度相同。3.根据权利要求1所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述取放槽穿透所述底座的侧面。4.根据权利要求1所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述用于纺织品光谱分析的辅助装置还包括设于所述底座上的用于定位光谱分析仪检测头的定位装置。5.根据权利要求4所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述定位装置包括：定位槽，其包括至少三个，所述定位槽设于所述底座侧面，其环绕所述定位腔设置且所述定位槽的上端贯穿所述底座的上表面；定位部，其下端定位于所述定位槽内且可相对所述定位槽移动，所述定位部的上端伸出所述定位槽。6.根据权利要求5所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述定位槽呈“凸”字型；所述定位部呈“t”型，其包括位于底端的定位块和设于所述定位块上方的定位柱。7.根据权利要求6所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述定位柱呈圆柱形。8.根据权利要求5所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述用于纺织品光谱分析的辅助装置还包括设于所述底座上表面且位于所述定位槽一侧的刻度尺，所述刻度尺以所述定位腔的中心为基准。9.根据权利要求6所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述底座的上表面还设有与所述定位槽平行设置且朝下穿透至所述定位槽底部的固定槽。10.根据权利要求1所述的用于纺织品光谱分析的辅助装置，其特征在于：所述用于纺织品光谱分析的辅助装置还包括套于光谱分析仪检测头底部外侧的配重块，所述配重块的中央设置有通孔。

技术总结
本实用新型公开一种用于纺织品光谱分析的辅助装置，包括：底座，所述底座包括设于所述底座的上表面且朝下凹陷的定位腔和设于所述底座的上表面且朝下凹陷的可供手指通过的取放槽，所述取放槽位于定位腔的侧面且与所述定位腔相通；样品杯，其放置于所述定位腔内，且所述样品杯置于所述定位腔时，其上端的高度高于所述取放槽底部的高度，所述样品杯的上表面朝下凹陷形成有样品容置腔。本实用新型可用于纺织品的光谱分析。织品的光谱分析。织品的光谱分析。


技术研发人员：赵珍玉
受保护的技术使用者：中山海关技术中心
技术研发日：2021.07.09
技术公布日：2022/1/11