一种抛光液供给装置和化学机械抛光设备的制作方法

技术特征：
1.一种抛光液供给装置，其特征在于，包括：转轴，其连接驱动机构以实现双向的自动旋转；基座组件，套设于所述转轴的外周侧，起到支撑固定作用；摆臂，其连接于所述转轴的顶部并可由转轴驱动实现双向摆动；抛光液供给管，其经由所述转轴向上延伸并沿所述摆臂的长度方向设置；限位组件，用于在工作位和维护位限定所述摆臂的位置；标尺机构，用于在所述摆臂位于工作位时指示由所述抛光液供给管流下的抛光液落点的位置信息。2.如权利要求1所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述基座组件具有沿其长度方向贯通的基座孔，转轴同轴设置于所述基座孔中，转轴的顶部伸出所述基座孔并具有向外延伸的悬臂，悬臂与摆臂连接。3.如权利要求1所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述限位组件包括用于在工作位限定所述摆臂的第一限位机构和用于在维护位限定所述摆臂的第二限位机构。4.如权利要求3所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述第一限位机构包括定位件和落点调节件，落点调节件为可调件，通过调节落点调节件与定位件之间的相对位置能够改变摆臂的旋转角度。5.如权利要求4所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述落点调节件可调节伸缩量从而调节转轴的旋转范围进而改变抛光液的落点。6.如权利要求4所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述定位件固定于所述基座组件的顶部，落点调节件与所述悬臂连接并可随转轴旋转，落点调节件移动至与定位件接触以进行限位。7.如权利要求4所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述落点调节件安装在所述基座组件的顶部，定位件与所述悬臂连接。8.如权利要求1所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述标尺机构包括分别设于所述摆臂和基座组件上的指示线和刻度线。9.如权利要求1至8任一项所述的抛光液供给装置，其特征在于，所述驱动机构为气动摆台。10.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括：抛光盘、粘接在抛光盘上的抛光垫、吸附晶圆并带动晶圆旋转的承载头、修整抛光垫的修整器、以及向抛光垫表面提供抛光液的如权利要求1至9任一项所述的抛光液供给装置。

技术总结
本发明公开了一种抛光液供给装置和化学机械抛光设备，其中抛光液供给装置包括：转轴，其连接驱动机构以实现双向的自动旋转；基座组件，套设于所述转轴的外周侧，起到支撑固定作用；摆臂，其连接于所述转轴的顶部并可由转轴驱动实现双向摆动；抛光液供给管，其经由所述转轴向上延伸并沿所述摆臂的长度方向设置；限位组件，用于在工作位和维护位限定所述摆臂的位置；标尺机构，用于在所述摆臂位于工作位时指示由所述抛光液供给管流下的抛光液落点的位置信息。位置信息。位置信息。


技术研发人员：梁清波 王春龙
受保护的技术使用者：华海清科（北京）科技有限公司
技术研发日：2021.10.28
技术公布日：2022/1/21