背光模块的制作方法

技术特征：
1.一种背光模块，其包括：一光源阵列，该光源阵列包括多个光源分别沿一第一方向及一第二方向排列；以及一反射片模块，其具有多个反射单元分别沿该第一方向及该第二方向排列并分别与多个所述光源关联，每一该反射单元具有：一平面部，其中与该反射单元关联的该光源设置于该平面部；一第一墙部，自该平面部朝向该第一方向延伸并相对该平面部抬升；以及一角落墙部，邻接于该第一墙部，并于朝远离该平面部且介于该第一方向及该第二方向间的一第三方向延伸时相对该平面部抬升；其中，以该平面部为基准，该第一墙部远离该平面部的一第一墙缘具有一第一高度，该角落墙部远离该平面部的一角落墙缘具有一第二高度，且该第二高度不小于该第一高度。2.如权利要求1所述的背光模块，其中，该光源具有一发光单元与一透镜单元，该透镜单元分别设置于该发光单元上。3.如权利要求1所述的背光模块，其中，该平面部具有一开孔，该开孔能容置该光源容纳于开孔中。4.如权利要求1所述的背光模块，其中，该反射片模块进一步包括一第二墙部，自该平面部朝向该第二方向延伸并相对该平面部抬升。5.如权利要求4所述的背光模块，其中该角落墙部以不同侧边分别与该第一墙部及该第二墙部邻接。6.如权利要求1所述的背光模块，进一步包含：一光学膜片，该光源阵列设置于该反射片模块与该光学膜片之间，该光学膜片朝向反射片模块的该平面部，且该光学膜片平行于该平面部；以及其中，该底面与该平面部之间间隔一混光距离，且符合以下关系式：0.4*h≤h2≤0.8*h；其中关系式中h为该混光距离，h2为该第二高度。7.如权利要求6所述的背光模块，其中，每一该光源在该第一方向上与相邻的该光源之间具有一间距，且该间距及该混光距离之间符合以下关系式：0.125≤h/p≤0.17；其中关系式中h为该混光距离，p为该间距。8.如权利要求1所述的背光模块，其中至少部分该角落墙部位于在该第三方向上相邻的二该光源之间。9.如权利要求1所述的背光模块，该光源具有一发光单元与一透镜单元，该透镜单元进一步包含：一本体；一透镜底面，该透镜底面至少部分内凹入该本体以形成一入光面，该入光面围设出用以容置该发光单元的一容置空间；以及一透镜顶面，该透镜顶面至少部分内凹入该本体以形成一出光面，该出光面相对于该入光面；其中，该出光面突向该入光面的部分具有一粗糙区域；该粗糙区域在该平面部所在平面的投影范围具有一第一最大宽度；该容置空间在该平面部所在平面的投影范围具有一第二最大宽度，且该第一最大宽度不大于该第二最大宽度。
10.如权利要求9所述的背光模块，其中，在垂直该平面部的一虚拟径向截面上，该出光面的一顶缘与该粗糙区域的边缘连线与该平面部夹一第一夹角，该第一夹角介于29度至37度之间。11.如权利要求10所述的背光模块，其中，在该虚拟径向截面上，该入光面突向该出光面的中心与该粗糙区域边缘于该入光面上的投影位置连线与该平面部夹一第二夹角，且该第二夹角不小于该第一夹角。12.如权利要求9所述的方法，其中，该粗糙区域具有一平均粗糙度(ra)，且0.3μm≤ra≤1.5μm。13.如权利要求9所述的方法，其中，该粗糙区域具有一材料雾度值(z)，且5％≤z≤90％。14.如权利要求1所述的背光模块，该光源具有一发光单元与一透镜单元，该透镜单元进一步包含：一本体；一透镜底面，该透镜底面至少部分内凹入该本体以形成一入光面，该入光面围设出用以容置该发光单元的一容置空间；以及一透镜顶面，该透镜顶面至少部分内凹入该本体以形成一出光面，该出光面相对于该入光面；其中，该出光面突向该入光面的部分具有一平坦区域，该平坦区域平行于该平面部；该平坦区域在该平面部所在平面的投影范围具有一第三最大宽度；该容置空间在该平面部所在平面的投影范围具有一第四最大宽度，且该第三最大宽度不大于该第四最大宽度。15.如权利要求14所述的背光模块，其中，在垂直该平面部的一虚拟径向截面上，该出光面的一顶缘与该平坦区域的边缘连线与该平面部夹一第三夹角，该第三夹角介于33度至45度之间。16.如权利要求14所述的背光模块，其中，在该虚拟径向截面上，该入光面突向该出光面的中心与该平坦区域边缘于该入光面上的投影位置连线与该平面部夹一第四夹角，且该第四夹角不小于该第三夹角。17.如权利要求14所述的背光模块，其中该平坦区域上任一点的一虚拟切面与该平面部形成的夹角小于等于20度。

技术总结
本发明公开一种背光模块。背光模块包括光源阵列、反射片模块以及光学膜片。光源阵列包括多个光源，通过光源内部的透镜单元使得光源所发出的光线可通过透镜单元折射得到特定的出光角度和均匀度；反射片模块包括多个反射单元，每一反射单元包括平面部、第一墙部以及角落墙部，彼此以不同的高度差能达到光源呈现出较少暗影和对比率较佳的显示效果。较少暗影和对比率较佳的显示效果。较少暗影和对比率较佳的显示效果。


技术研发人员：陈明伦 田堃正 林义文 陈政传
受保护的技术使用者：友达光电股份有限公司
技术研发日：2021.11.12
技术公布日：2022/2/6