硅外延炉装置的制作方法

技术特征：
1.硅外延炉装置，其特征在于，包括：壳体，外周环设有冷却水结构，具有反应腔，所述壳体设有进气孔、出气孔以及第一穿孔；石墨基座，转动设置于所述反应腔内；保温隔热托盘，固设于所述反应腔内，位于所述石墨基座和所述壳体之间并与所述石墨基座间隔设置，具有第二穿孔；加热器，位于所述反应腔的外侧，且位于临近所述保温隔热托盘一侧；旋转结构，位于所述反应腔外，包括电机以及旋转轴，所述旋转轴的一端与所述电机的输出轴相连，另一端穿过所述第一穿孔和所述第二穿孔；转接件，用于连接所述旋转轴和所述石墨基座。2.如权利要求1所述的硅外延炉装置，其特征在于，所述石墨基座临近所述保温隔热托盘的一侧设有安装凹槽，所述转接件包括套设于所述旋转轴外周的连接套，所述连接套固设于所述安装凹槽内。3.如权利要求1所述的硅外延炉装置，其特征在于，所述加热器为感应加热线圈。4.如权利要求1-3任一项所述的硅外延炉装置，其特征在于，所述转接件的材质为石英。5.如权利要求4所述的硅外延炉装置，其特征在于，所述保温隔热托盘临近所述壳体的一侧设有若干间隔设置的支撑柱，所述支撑柱与所述反应腔的内壁抵接。6.如权利要求1-3任一项所述的硅外延炉装置，其特征在于，所述保温隔热托盘的外周环设有周圈立壁，所述周圈立壁形成容置腔，所述石墨基座位于所述容置腔内。7.如权利要求1所述的硅外延炉装置，其特征在于，所述保温隔热托盘的材质为石英。

技术总结
本实用新型提供了一种硅外延炉装置，所述硅外延炉装置包括壳体、石墨基座、保温隔热托盘、加热器、旋转结构以及转接件，所述壳体外周环设有冷却水结构，具有反应腔，所述壳体上设有进气孔、出气孔以及第一穿孔，所述石墨基座转动设置在所述反应腔内，所述保温隔热托盘位于所述石墨基座与所述壳体之间并与所述石墨基座间隔设置，所述加热器用于对所述石墨基座进行加热，所述旋转结构包括电机和旋转轴，所述电机位于所述反应腔外，所述旋转轴与所述电机输出轴相连并通过所述转接件连接所述石墨基座。本实用新型提供的硅外延炉装置可大幅降低能耗。低能耗。低能耗。


技术研发人员：高勇 薛宏伟 袁肇耿 仇根忠 吴子凡 杜雷雨 魏桂忠 任永升
受保护的技术使用者：河北普兴电子科技股份有限公司
技术研发日：2022.01.06
技术公布日：2022/5/15