原子层沉积镀膜设备及其电感耦合线圈的制作方法

技术特征：
1.一种电感耦合线圈，其特征在于，包括并联设置的第一柱状螺旋线圈(221)与第二柱状螺旋线圈(222)；所述第一柱状螺旋线圈(221)与所述第二柱状螺旋线圈(222)在空间呈上下排布设置；所述第一柱状螺旋线圈(221)的输入端(2211)和所述第二柱状螺旋线圈(222)的输入端(2221)均连接在同一定位板(223)上，所述定位板(223)设有功率馈入部(224)；所述第一柱状螺旋线圈(221)的输出端(12)和所述第二柱状螺旋线圈(222)的输出端(2222)均连接在同一固定板(225)上，以形成接地部。2.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述第一柱状螺旋线圈(221)与所述第二柱状螺旋线圈(222)同轴设置。3.根据权利要求2所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述第一柱状螺旋线圈(221)的轴线与所述第二柱状螺旋线圈(222)的轴线错开设置。4.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述第一柱状螺旋线圈(221)与所述第二柱状螺旋线圈(222)的节距相等。5.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述第一柱状螺旋线圈(221)与所述第二柱状螺旋线圈(222)的圈数相等。6.根据权利要求1-5任一项所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述第一柱状螺旋线圈(221)的横截面为圆形、方形或三角形；所述第二柱状螺旋线圈(222)的横截面为圆形、方形或三角形。7.根据权利要求6所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述第一柱状螺旋线圈(221)与所述第二柱状螺旋线圈(222)的横截面为圆形，且二者的直径相等。8.一种原子层沉积镀膜设备，其特征在于，包括镀膜反应腔(1)、等离子体发生器(2)以及将所述等离子体发生器(2)与所述镀膜反应腔(1)相连接的扩散装置(3)，还包括与扩散装置(3)相连接的源进气装置(4)；所述等离子体发生器(2)包括等离子体反应腔(21)、与所述等离子体反应腔(21)配合的电感耦合线圈(22)以及与所述等离子体反应腔(21)相连通的等离子体进气装置(23)；所述电感耦合线圈(22)为上述权利要求1-7任一项所述的电感耦合线圈。9.根据权利要求8所述的原子层沉积镀膜设备，其特征在于，所述原子层沉积镀膜设备还包括设置于所述镀膜反应腔(1)和所述扩散装置(3)之间的扩散板(5)。10.根据权利要求8所述的原子层沉积镀膜设备，其特征在于，所述镀膜反应腔(1)内设有供基片放置的承载台(6)。

技术总结
本实用新型公开了一种原子层沉积镀膜设备及其电感耦合线圈，该电感耦合线圈包括并联设置的第一柱状螺旋线圈与第二柱状螺旋线圈；所述第一柱状螺旋线圈与所述第二柱状螺旋线圈在空间呈上下排布设置；所述第一柱状螺旋线圈的输入端和所述第二柱状螺旋线圈的输入端均连接在同一定位板上，所述定位板设有功率馈入部；所述第一柱状螺旋线圈的输出端和所述第二柱状螺旋线圈的输出端均连接在同一固定板上，以形成接地部。该电感耦合线圈可以提高耦合效率，降低启辉初始功率，可扩宽射频启辉窗口，扩宽等离子体源的产生面积。扩宽等离子体源的产生面积。扩宽等离子体源的产生面积。


技术研发人员：陈文翰 李哲峰
受保护的技术使用者：深圳市原速科技有限公司
技术研发日：2021.11.30
技术公布日：2022/5/17