微机械构件的制作方法

技术特征：
1.一种微机械构件(100)，所述微机械构件具有：-覆盖元件(10)；-布置在所述覆盖元件(10)的下方的腔体(20)；-至少一个垂直蚀刻通道(11)，其布置在所述覆盖元件(10)的锚固结构之外；-至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)，其从所述至少一个垂直蚀刻通道(11)出发设置在蚀刻停止层(3)的下方和所述腔体(20)的下方并布置在所述蚀刻停止层(3)与硅衬底(1)之间；和-至少一个通路蚀刻通道(3a1...3an)，其构造在所述至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)与所述腔体(20)之间。2.根据权利要求1所述的微机械构件(100)，其特征在于，所述至少一个垂直蚀刻通道(11)构造为缝隙形的或管形的。3.根据权利要求1或2所述的微机械构件(100)，其特征在于，在第一二氧化硅层(2)中构造有在横向上对所述至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)限界的至少一个能够导电的限界元件(13a...13n)和/或电绝缘的限界元件(13a...13n)。4.根据前述权利要求中任一项所述的微机械构件(100)，其特征在于，所述至少一个垂直蚀刻通道(11)构造为与所述覆盖元件(10)导电连接或与所述覆盖元件(10)电绝缘。5.根据前述权利要求中任一项所述的微机械构件(100)，其特征在于，所述至少一个垂直蚀刻通道(11)构造为与所述至少一个能够导电的限界元件(13a...13n)导电连接或与所述至少一个能够导电的限界元件(13a...13n)电绝缘。6.根据权利要求4或5所述的微机械构件(100)，其特征在于，所述至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)在第一二氧化硅层(2)中被至少一个能够导电的限界元件和/或电绝缘的限界元件(13a...13n)限界。7.根据前述权利要求中任一项所述的微机械构件(100)，其特征在于，所述至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)至少部分地构造在所述衬底(1)内或至少部分地构造在所述衬底(1)上方。8.根据前述权利要求中任一项所述的微机械构件(100)，其特征在于，从所述至少一个垂直蚀刻通道(11)出发构造有多个蚀刻通道(12a...12n)。9.根据权利要求8所述的微机械构件(100)，其特征在于，所述多个横向蚀刻通道(12a...12n)构造为网状的和/或平行的。10.一种用于制造微机械构件(100)的方法，所述方法具有以下步骤：-在覆盖元件(10)的下方构造腔体(20)；-构造至少一个垂直蚀刻通道(11)，所述至少一个垂直蚀刻通道布置在所述覆盖元件(10)的锚固结构之外；其中，借助至少一个横向蚀刻通道(12a
…
12n)并借助通入所述腔体(20)中的至少一个通路蚀刻通道(3a1
…
3an)来执行对所述腔体(20)的所述构造，所述至少一个横向蚀刻通道(12a
…
12n)从所述垂直蚀刻通道(11)出发设置在蚀刻停止层(3)的下方和所述腔体(20)的下方并布置在所述蚀刻停止层(3)与硅衬底(1)之间。

技术总结
一种微机械构件(100)，其具有：-覆盖元件(10)；-布置在所述覆盖元件(10)的下方的腔体(20)；-至少一个垂直蚀刻通道(11)，其布置在所述覆盖元件(10)的锚固结构之外；-至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)，其从所述至少一个垂直蚀刻通道(11)出发设置在蚀刻停止层(3)的下方和所述腔体(20)的下方并布置在所述蚀刻停止层(3)与硅衬底(1)之间；和-至少一个通路蚀刻通道(3a1...3an)，其构造在所述至少一个横向蚀刻通道(12a...12n)与所述腔体(20)之间。向蚀刻通道(12a...12n)与所述腔体(20)之间。向蚀刻通道(12a...12n)与所述腔体(20)之间。


技术研发人员：H
受保护的技术使用者：罗伯特
技术研发日：2021.11.25
技术公布日：2022/5/30