内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法与流程

技术特征：
1.一种内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，包括基板、无机层、掩膜层以及微透镜阵列；所述基板的一侧面上形成所述无机层，所述无机层上与所述基板相背离的一侧面上形成所述掩膜层；所述掩膜层上与所述基板相背离的一侧面上形成所述微透镜阵列；所述掩膜层上的镂空与所述微透镜阵列上的微透镜一一对应；所述掩模层位于所述微透镜阵列入射光方向的焦点深度位置。2.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述镂空为圆形，所述镂空的直径a与所述微透镜的焦距和通光孔径之间的关系，需满足如下条件式：其中，λ为入射光的波长，f为微透镜的焦距，d为微透镜的通光孔径。3.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜的厚度与所述微透镜的焦距相等。4.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，每一所述微透镜与对应镂空之间的对准偏差不超所述镂空直径的10％。5.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列中微透镜排列方式包括满铺式和非满铺式；所述满铺式为相邻的微透镜之间不具有间隙，所述非满铺式为相邻的微透镜之间具有间隙。6.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜的曲面面型为非球面，每一所述微透镜的曲面面型公式z为：其中，c是曲面的曲率，r是微透镜的径向坐标，k是圆锥系数。7.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述无机层采用二氧化硅层。8.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述基板采用光学玻璃或光学塑料。9.根据权利要求1所述的内嵌掩模的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列的排布方式包括三角形、四边形、六边形以及八边形中的任一形状。10.一种权利要求1至9任一项所述的内嵌掩模的微透镜阵列的使用方法，其特征在于，包括如下步骤：将多束准直光束入射所述微透镜阵列；所述微透镜阵列使得所述准直光束聚焦于所述掩模层的镂空内，以通过所述掩模层进行次级衍射光和杂散光的过滤；过滤后的所述准直光束从基板中出射。

技术总结
本发明提供了一种内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法，包括基板、无机层、掩膜层以及微透镜阵列；基板的一侧面上形成无机层，无机层上与基板相背离的一侧面上形成掩膜层；掩膜层上与基板相背离的一侧面上形成微透镜阵列；掩膜层上的镂空与微透镜阵列上的微透镜一一对应；掩模层位于微透镜阵列入射光方向的焦点深度位置。本发明中在基板的一侧面上形成掩膜层，在掩膜层上与基板相背离的一侧面上形成微透镜阵列，同时控制连续微透镜表面的面型，能够使得经过微透镜阵列系统的光束得到约束，有效地过滤掉次级衍射和杂散光，进而提高有效光的利用率，提高了散斑状结构光投射后中光斑点的对比度，便于在光斑点图像中进行光斑点的提取。取。取。


技术研发人员：张天舒 黄瑞彬 朱力 吕方璐 汪博
受保护的技术使用者：深圳市光鉴科技有限公司
技术研发日：2020.11.18
技术公布日：2022/5/31