一种室温红外敏感薄膜的图案化方法

技术特征：
1.一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，包括：在衬底上依次旋涂聚甲基丙烯酸甲酯层、可溶性光刻胶层和正性光刻胶层；采用掩模曝光，显影，反应离子刻蚀，在衬底上制作出三层胶结构；用化学浴沉积法在衬底上沉积室温红外敏感薄膜；用丙酮剥离剩余的胶，得到图案化的室温红外敏感薄膜。2.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述衬底至少包括硅片、读出电路中的一种。3.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述可溶性光刻胶层为不溶于丙酮，但易溶于碱性显影液的光刻胶层。4.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述采用掩模曝光，显影，反应离子刻蚀，在衬底上制作出三层胶结构，具体包括：采用掩模曝光，显影，得到可溶性光刻胶层和正性光刻胶层形成的双层结构，采用反应离子刻蚀去除裸露的聚甲基丙烯酸甲酯层，形成三层胶结构。5.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述可溶性光刻胶层相对于所述正性光刻胶层在碱性显影液中具有更快的显影速率，在显影时，形成上宽下窄的倒梯形结构，以利于溶脱剥离。6.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，在进行反应离子刻蚀操作时，反应离子刻蚀气体为氧气，功率为30-100w，刻蚀时间为几分钟。7.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述室温红外敏感薄膜至少包括pbs薄膜、pbse薄膜中的一种。8.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，用化学浴沉积法在衬底上沉积室温红外敏感薄膜时，所述化学浴沉积法的前驱体溶液为碱性。9.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述室温红外敏感薄膜的厚度小于1微米。

技术总结
本发明公开了一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，包括下列步骤：在衬底上依次旋涂聚甲基丙烯酸甲酯层、可溶性光刻胶层和正性光刻胶层，然后曝光显影，反应离子刻蚀，制作出三层胶结构。然后采用化学浴沉积法在衬底上沉积室温红外敏感薄膜，最后用丙酮去胶，剥离得到图案化的室温红外敏感薄膜。本发明采用聚甲基丙烯酸甲酯层，克服了光刻胶溶于碱性化学浴前驱体溶液的不足。采用丙酮剥离，避免了湿法腐蚀时强酸对衬底的腐蚀，以及干法刻蚀气体物理轰击对金属电极的刻蚀。本发明方法简便，尤其适用于碱性化学浴沉积室温红外敏感薄膜的图案化。化。化。


技术研发人员：张之胜 申钧 史浩飞 聂长斌 冷重钱
受保护的技术使用者：重庆大学
技术研发日：2022.03.08
技术公布日：2022/6/7