分解清洗组合物的制造方法与流程

技术特征：
1.一种分解清洗组合物的制造方法，所述分解清洗组合物含有(a)氢原子未直接键合于氮原子的n-取代酰胺化合物、及(b)氟化烷基季铵或其水合物，所述制造方法具有在非活性气体气氛下将所述(a)及(b)进行混合的调制工序。2.根据权利要求1所述的分解清洗组合物的制造方法，所述分解清洗组合物还含有(c)醚化合物，所述制造方法具有在非活性气体气氛下将所述(a)～(c)进行混合的调制工序。3.根据权利要求1或2所述的分解清洗组合物的制造方法，所述调制工序中的所述非活性气体为氮气。4.根据权利要求1～3中任一项所述的分解清洗组合物的制造方法，在所述调制工序之后，具有在非活性气体气氛下将所调制的所述分解清洗组合物封入容器中的封入工序。5.根据权利要求4所述的分解清洗组合物的制造方法，所述封入工序中的所述非活性气体为氮气。6.根据权利要求1～5中任一项所述的分解清洗组合物的制造方法，所述(a)n-取代酰胺化合物为式(1)表示的2-吡咯烷酮衍生物化合物，式(1)中，r1表示碳原子数1～4的烷基。7.根据权利要求6所述的分解清洗组合物的制造方法，所述(a)n-取代酰胺化合物是式(1)中r1为甲基或乙基的2-吡咯烷酮衍生物化合物。8.根据权利要求2所述的分解清洗组合物的制造方法，所述(c)醚化合物包含式(2)表示的二醇的二烷基醚，r2o(c
n
h
2n
o)
x
r3ꢀꢀꢀꢀ
(2)式(2)中，r2及r3各自独立地表示选自由甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、及叔丁基组成的组中的烷基，n为2或3，x为1～4的整数。9.根据权利要求8所述的分解清洗组合物的制造方法，所述二醇的二烷基醚为二丙二醇二甲基醚。10.根据权利要求2、8或9中任一项所述的分解清洗组合物的制造方法，所述(c)醚化合物包含式(3)表示的二烷基醚，r4or5ꢀꢀꢀꢀꢀ
(3)式(3)中，r4及r5各自独立地表示碳原子数4～8的烷基。11.根据权利要求10所述的分解清洗组合物的制造方法，所述二烷基醚为二丁基醚。12.根据权利要求1～11中任一项所述的分解清洗组合物的制造方法，所述(b)氟化烷基季铵为r6r7r8r9n

f-表示的氟化四烷基铵，r6～r9各自独立地为选自由甲基、乙基、正丙基、异丙基、及正丁基组成的组中的烷基。13.根据权利要求1～12中任一项所述的分解清洗组合物的制造方法，所述分解清洗组合物为粘接性聚合物的分解清洗组合物。14.根据权利要求13所述的分解清洗组合物的制造方法，所述粘接性聚合物为聚有机硅氧烷化合物。

技术总结
本发明提供改善蚀刻速度的保持率的分解清洗组合物的制造方法。一种分解清洗组合物的制造方法，所述分解清洗组合物含有(A)氢原子未直接键合于氮原子的N-取代酰胺化合物、及(B)氟化烷基季铵或其水合物，所述制造方法具有在非活性气体气氛下将上述(A)及(B)进行混合的调制工序。合的调制工序。


技术研发人员：中崎晋 宫原邦明
受保护的技术使用者：昭和电工株式会社
技术研发日：2020.10.23
技术公布日：2022/7/12