一种超薄金属散热片的蚀刻工艺的制作方法

技术特征：
1.一种超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：包括以下步骤：a.对金属片涂布光刻胶，然后对金属片上的光刻胶进行掩膜曝光显影；b.对金属片进行蚀刻液的喷淋，通过蚀刻液对金属片未被光刻胶遮盖的位置进行蚀刻以获得散热结构；c.对蚀刻完毕的金属片进行清洗以及去胶；d.把经步骤c处理后的金属片固定至研磨盘中；e.通过研磨机对金属片进行研磨；f.对经研磨后的金属片进行厚度检测，若厚度与设定值之间的差值超出阈值时继续执行步骤e，否则执行步骤g；g.自研磨盘中取出金属片，然后对金属片进行清洁以获得超薄金属散热片。2.根据权利要求1所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：步骤d具体包括：d1.往研磨盘中涂覆石蜡；d2.对研磨盘中的石蜡进行加热，待石蜡软化后把金属片放置在石蜡中，使得金属片待研磨的一端朝向研磨机；d3.停止对石蜡进行加热，以使得石蜡进行冷却后固定金属片；步骤g具体为：采用湿法去蜡的方式对金属片进行清洁。3.根据权利要求2所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：在步骤d2中，金属片具有散热结构的一端面被石蜡包覆以进行固定。4.根据权利要求2所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：步骤g具体包括：g1.把金属片至于去蜡液进行清洗，该去蜡液的温度为50
±
1℃；g2.把金属片至于丙酮进行清洗，该丙酮的温度为50
±
1℃；g3.把金属片至于异丙醇进行清洗；g4.把金属片至于去离子水进行超声清洗；g5.采用氮气吹干金属片。5.根据权利要求1所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：还包括h.对经研磨后的金属片进行抛光处理。6.根据权利要求1所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：研磨前与研磨后的金属片厚度之比在25:1与4:1之间。7.根据权利要求1所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：在步骤e中，具体包括：e1.采用100-500目的研磨液对金属片进行粗磨；e2.采用1000-3000目的研磨液对金属片进行精磨。8.根据权利要求1所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：在步骤b中，蚀刻所形成的散热结构的深度与宽度之比为0.3:1-0.9:1，散热结构的深度与研磨后金属片的厚度之比为1:10-3:4。9.根据权利要求1所述的超薄金属散热片的蚀刻工艺，其特征在于：在步骤f中，当金属片的厚度与设定值之间的误差不大于10μm时，则执行步骤g。

技术总结
本发明涉及蚀刻工艺技术领域，尤其是指一种超薄金属散热片的蚀刻工艺，包括以下步骤：A.对金属片涂布光刻胶，然后对金属片上的光刻胶进行掩膜曝光显影；B.对金属片进行蚀刻液的喷淋，通过蚀刻液对金属片未被光刻胶遮盖的位置进行蚀刻以获得散热结构；C.对蚀刻完毕的金属片进行清洗以及去胶；D.把经步骤C处理后的金属片固定至研磨盘中；E.通过研磨机对金属片进行研磨；F.对经研磨后的金属片进行厚度检测，若厚度与设定值之间的差值超出阈值时继续执行步骤E，否则执行步骤G；G.自研磨盘中取出金属片并进行清洁，以获得超薄金属散热片。本发明让金属片进行先蚀刻后研磨的方式形成超薄结构，从而避免蚀刻穿孔以及变形的现象发生。生。生。


技术研发人员：王文涛 张亮旗 王世权 张帆
受保护的技术使用者：扬州赛诺高德电子科技有限公司
技术研发日：2022.04.26
技术公布日：2022/8/5