一种清洗用供液系统及采用该供液系统的硅片清洗机的制作方法

技术特征：
1.一种清洗用供液系统，其特征在于，包括：原液单元：配置有若干原液槽；清洗单元：构造有若干清洗槽；在原液单元和清洗单元之间还构设有中转单元，所述中转单元构造有若干独立设置的中转槽；每个所述原液槽至少与一个所述中转槽连通；每个所述中转槽对应一个所述清洗槽连通，且每个所述清洗槽至少与一个所述中转槽连通。2.根据权利要求1所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，与同一所述清洗槽连通的所有所述中转槽都相邻设置。3.根据权利要求1或2所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，所有所述中转槽均构置在同一个固定板上；所有所述中转槽的下端面与所述固定板的上端面为间隙配置。4.根据权利要求3所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，在每个所述中转槽的进液口和出液口处均设有自控阀。5.根据权利要求4所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，所述进液口被构造在所述中转槽中的侧面的上段部或其顶部。6.根据权利要求5所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，同一个所述中转槽中的所述进液口和所述出液口被构造在同一个侧面上或相邻设置的侧面和顶面上。7.根据权利要求4-6任一项所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，每个所述中转槽还配置有液位管，所述液位管被构造在所述中转槽的外壁；所述液位管所在的侧面与同一所述中转槽中所述进液口所在的侧面相背构设，且所有所述中转槽中的所述液位管均同侧面设置。8.根据权利要求7所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，每个所述液位管均与其所在的所述中转槽的高度相适配；并在每个所述液位管上还构造有液位传感器。9.根据权利要求1-2、4-6、8任一项所述的一种清洗用供液系统，其特征在于，所述原液单元还包括水源槽，所述水源槽直接与每个所述清洗槽连通设置。10.一种硅片清洗机，其特征在于，采用如权利要求1-9一项所述的供液系统。

技术总结
一种清洗用供液系统，包括：原液单元：配置有若干原液槽；清洗单元：构造有若干清洗槽；在原液单元和清洗单元之间还构设有中转单元，所述中转单元构造有若干独立设置的中转槽；每个所述原液槽至少与一个所述中转槽连通；每个所述中转槽对应一个所述清洗槽连通，且每个所述清洗槽至少与一个所述中转槽连通。还提出一种采用该供液系统的硅片清洗机。本实用新型在原液单元与清洗机之间设置一个自动供液中转站，且该中转站包括独立设置的每个含有药液的清洗槽中的溶质，整个中转站可自动存储并可自动汇入清洗槽中，保证所有清洗槽中的清洗液都是即配即新，时效性更高，从而保证每个清洗液浓度的一致性，整个系统供液安全，药液供给效率高。高。高。


技术研发人员：靳立辉 杨骅 任志高 王欢 艾传令 王大伟 武治军 岑红霞 危晨
受保护的技术使用者：天津市环欧新能源技术有限公司
技术研发日：2022.06.09
技术公布日：2022/9/9