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显示面板和显示装置的制作方法

2022-11-14 15:14:01 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种显示面板,其特征在于,包括:第一透光区、第二透光区、第一非显示区、第二非显示区和显示区,所述第一非显示区围绕所述第一透光区,所述第二非显示区围绕所述第二透光区,所述显示区围绕所述第一非显示区和所述第二非显示区,所述显示区包括第一显示区和第二显示区,所述第一显示区围绕所述第一非显示区,所述第二显示区围绕所述第二非显示区,所述第一透光区沿第一方向延伸,所述第二透光区沿第二方向延伸,其中,所述第一方向和所述第二方向相交;所述显示面板还包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,所述彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设有多个支撑柱,所述支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱,所述第一支撑柱位于所述第一显示区,所述第二支撑柱位于所述第二显示区;所述阵列基板包括第一衬底基板和平坦化层,所述平坦化层位于所述第一衬底基板靠近所述彩膜基板的一侧,所述平坦化层的涂布方向与所述第二方向相平行;至少部分所述第一支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度小于所述第二支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,沿所述第二方向上,位于所述第一透光区两侧的所述第一支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度小于所述第二支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度。3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,各所述第一支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度相同。4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,沿所述第一方向上,位于所述第一透光区两侧的所述第一支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度与所述第二支撑柱沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度相同。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一显示区中所述第一支撑柱的单位密度小于所述第二显示区中所述第二支撑柱的单位密度。6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的胶框,所述胶框包括第一胶框和第二胶框,所述第一胶框位于所述第一非显示区,所述第二胶框位于所述第二非显示区;所述第一胶框包括第一侧壁,所述第一侧壁位于所述第一胶框远离所述第一透光区的一侧;所述第一显示区和所述第一非显示区的相交界的边缘为第一边缘;所述第二胶框包括第二侧壁,所述第二侧壁位于所述第二胶框远离所述第二透光区的一侧;所述第二显示区和所述第二非显示区的相交界的边缘为第二边缘;所述第一侧壁和所述第一边缘之间的间距小于所述第二侧壁和所述第二边缘之间的间距。7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述显示面板还包括位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的胶框,所述胶框包括第一胶框和第二胶框,所述第一胶框位于所述第一非显示区,所述第二胶框位于所述第二非显示区;所述胶框内设有支撑颗粒;所述第一胶框内所述支撑颗粒的体积大于所述第二胶框内所述支撑颗粒的体积。8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的胶框,所述胶框包括第一胶框和第二胶框,所述第一胶框位于所述第一非显示区,所述第二胶框位于所述第二非显示区;所述胶框内设有支撑颗粒;所述第一胶框内所述支撑颗粒的单位密度大于所述第二胶框内所述支撑颗粒的单位密度。9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括第二衬底基板和色阻层,所述色阻层位于所述第二衬底基板靠近所述阵列基板的一侧,所述支撑柱位于所述色阻层远离所述第二衬底基板的一侧;所述色阻层包括多个色阻,部分位于所述第一支撑柱和所述第二衬底基板之间的色阻沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度小于位于所述第二支撑柱和所述第二衬底基板之间的色阻沿垂直于所述阵列基板所在平面的方向上的高度。10.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板包括多条沿所述第二方向延伸的数据线和多条沿所述第一方向延伸的第一走线,所述数据线和所述第一走线同层设置,且所述数据线和所述第一走线相绝缘;所述第一走线位于所述显示区,且所述第一走线沿与所述平坦化层的涂布方向相反的方向位于所述第一透光区的一侧。11.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1-10任一项所述的显示面板。

技术总结
本发明涉及显示技术领域,公开了一种显示面板和显示装置,显示面板包括第一透光区、第二透光区、第一非显示区、第二非显示区和显示区,第一透光区沿第一方向延伸,第二透光区沿第二方向延伸,第一方向和第二方向相交;显示面板还包括阵列基板和彩膜基板,彩膜基板靠近阵列基板的一侧设有多个支撑柱,支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱,第一支撑柱位于第一显示区,第二支撑柱位于第二显示区;阵列基板包括第一衬底基板和平坦化层,平坦化层的涂布方向与第二方向相平行;至少部分第一支撑柱沿垂直于阵列基板所在平面的方向上的高度小于第二支撑柱沿垂直于阵列基板所在平面的方向上的高度。本发明有利于提高显示效果。本发明有利于提高显示效果。本发明有利于提高显示效果。


技术研发人员:凌安恺 沈柏平
受保护的技术使用者:厦门天马微电子有限公司
技术研发日:2022.09.15
技术公布日:2022/11/11
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