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一种碳化硅MOSFET晶体管器件

2023-01-05 17:28:17 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,包括:衬底(10),所述衬底(10)具有第一导电类型;外延层(20),所述外延层(20)设置于所述衬底(10)之上,且所述外延层(20)具有第一导电类型;有源区(30),形成于所述外延层(20)的顶面;所述有源区(30)包括:多个元胞结构(300),所述多个元胞结构(300)阵列排布于所述外延层(20)的顶面;所述元胞结构(300)的形状为圆形或多边形;每一个元胞结构(300)包括:阱区(310),所述阱区(310)具有第二导电类型;源极区(320),高掺杂第一导电类型,位于所述阱区(310)内;掺杂区(330),设置于所述阱区(310)内,高掺杂第二导电类型;所述源极区(320)位于所述掺杂区(330)的四周;jfet区域(340),设置于所述阱区(310)的四周;在一直线方向上,两个相邻的元胞结构(300)的jfet区域(340)相接;每一个元胞结构(300)的掺杂区(330)和与该元胞结构(300)相邻的n个元胞结构(300)的掺杂区(330)通过互联结构(350)分别相互连接,n为自然数,且至少存在一对掺杂区(330)相互连接的元胞结构(300)。2.根据权利要求1所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,所述互联结构(350)和所述掺杂区(330)通过离子注入方式同时形成于所述外延层(20)的顶面,所述互联结构(350)和所述掺杂区(330)的掺杂浓度相同,掺杂深度相同。3.根据权利要求1所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,所述有源区(30)包括:多个元胞行(360),每个元胞行(360)包括排列为一行的多个元胞结构(300);多个元胞列(370),每个元胞列(370)包括排列为一列的多个元胞结构(300);所述多个元胞行(360)和所述多个元胞列(370)排布于所述有源区(30)内形成阵列。4.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,相邻两个元胞列(370)呈错列排布。5.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,相邻两个元胞列(370)呈对齐排布。6.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,还包括:过渡区(40),通过离子注入方式形成于外延层(20)的顶面;所述过渡区(40)设置于所述有源区(30)的外围,且包围所述有源区(30)。7.根据权利要求6所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,靠近所述过渡区(40)的掺杂区(330)通过互联结构(350)与所述过渡区(40)连接。8.根据权利要求1所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,所述互联结构(350)为条状,沿所述互联结构(350)的长度方向延伸。9.根据权利要求1所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,所述阱区(310)在所述外延层(20)表面的投影形状为多边形,所述互联结构(350)的长度方向与所述阱区(310)
的边(311)的延长方向平行或所述互联结构(350)的长度方向与所述阱区(310)的边(311)的延长方向垂直或所述互联结构(350)的长度方向与所述阱区(310)的对角线方向平行。10.根据权利要求1所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,所述阱区(310)在所述外延层(20)表面的投影形状为圆形,所述互联结构(350)的长度方向与所述阱区(310)的外接正六边形的对角线方向平行。11.根据权利要求1所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,在每一个元胞结构(300)内,以该元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为2个或4个或6个。12.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,在每一个元胞行(360)内每相邻的两个元胞结构(300)中,以一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为2个,以另一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为0个。13.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,在每一个元胞列(370)内每相邻的两个元胞结构(300)中,以一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为4个,以另一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为2个。14.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,在相邻的两个元胞行(360)中,一个元胞行(360)内每相邻的两个元胞结构(300)中,以一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为4个,以另一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为2个,另一个元胞行(360)内每相邻的两个元胞结构(300)中,以一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为2个,以另一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为0个。15.根据权利要求3所述的碳化硅mosfet晶体管器件,其特征在于,在每一个元胞行(360)内每相邻的两个元胞结构(300)中,以一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为4个,以另一个元胞结构(300)的掺杂区(330)为起点的互联结构(350)的数量为0个。

技术总结
本申请涉及一种碳化硅MOSFET晶体管器件,在相邻的两个元胞结构之间设计了一个互联结构,使得相邻的两个元胞结构通过互联结构相连接,在浪涌冲击或短路故障发生的瞬间,可以使等离子体迅速地从一个元胞结构扩散到相邻的元胞结构中,从而获得载流子浓度和电流密度的均匀分布,避免器件内部发生局部热量集中和温升严重的现象,提高器件的浪涌与短路可靠性。提高器件的浪涌与短路可靠性。提高器件的浪涌与短路可靠性。


技术研发人员:任娜 盛况
受保护的技术使用者:浙江大学
技术研发日:2022.11.25
技术公布日:2022/12/30
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