图像虚化方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质与流程

技术特征：
1.一种图像虚化方法，其特征在于，包括：提供目标yuv图像中的y通道图像；根据所述y通道图像中各像素点的像素值确定所述目标yuv图像中各像素点的虚化权重系数；根据所述虚化权重系数对所述目标yuv图像进行虚化处理，得到目标虚化图像。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述y通道图像中各像素点的像素值确定所述目标yuv图像中各像素点的虚化权重系数，包括：根据所述y通道图像中各像素点的像素值和预设的光源分割阈值，确定所述目标yuv图像中的光源区域；设定所述光源区域之外各像素点的虚化权重系数；设定所述光源区域内各像素点的虚化权重系数。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述y通道图像中各像素点的像素值和预设的光源分割阈值，确定所述目标yuv图像中的光源区域，包括：根据所述y通道图像中各像素点的像素值和预设的光源分割阈值的大小关系，对所述y通道图像进行分割，得到所述y通道图像中的至少一个候选光源区域；所述候选光源区域内各像素点的像素值均大于所述光源分割阈值；确定各所述候选光源区域对应的最小外接矩形区域；分别获取各所述候选光源区域和对应的所述最小外接矩形区域的像素点个数；分别计算各所述候选光源区域的像素点个数和对应的所述最小外接矩形区域的像素点个数的比值，得到各所述候选光源区域的光源占比，并将所述光源占比高于预设占比阈值的候选光源区域确定为所述目标yuv图像中的光源区域。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述设定所述光源区域内各像素点的虚化权重系数，包括：根据所述光源区域内各像素点的像素值和所述光源分割阈值之间的差值，计算所述光源区域内各像素点的虚化权重修正系数；根据所述光源区域内各像素点的虚化权重修正系数和所述光源区域之外各像素点的虚化权重系数，设定所述光源区域内各像素点的虚化权重系数。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述y通道图像中各像素点的像素值确定所述目标yuv图像中各像素点的虚化权重系数，包括：获取所述y通道图像中各像素点对应的深度值以及所述y通道图像的焦点深度值；根据所述y通道图像中各像素点对应的深度值以及所述焦点深度值，确定所述目标yuv图像中的背景区域；根据所述背景区域内各像素点的像素值确定所述目标yuv图像中各像素点的虚化权重系数。6.根据权利要求1～5任一所述的方法，其特征在于，所述根据所述虚化权重系数对所述目标yuv图像进行虚化处理，得到目标虚化图像，包括：获取所述y通道图像中背景区域内目标像素点对应的目标虚化半径参数；根据所述目标虚化半径参数确定所述目标像素点对应的邻域像素点；其中，所述邻域像素点与所述目标像素点的横坐标之差或纵坐标之差小于所述目标虚化半径参数；
根据所述邻域像素点对应的虚化权重系数，对所述邻域像素点的像素值进行加权求和，得到所述目标像素点对应的虚化像素值；将所述目标yuv图像中各像素点的像素值调整为与各像素点分别对应的虚化像素值，得到目标虚化图像。7.根据权利要求1～5任一所述的方法，其特征在于，所述根据所述虚化权重系数对所述目标yuv图像进行虚化处理，得到目标虚化图像，包括：根据所述虚化权重系数对所述目标yuv图像进行虚化处理，得到所述目标yuv图像对应的初始虚化图像；根据所述y通道图像中各像素点对应的深度值，确定所述初始虚化图像中的突变区域；对所述突变区域进行平滑处理，得到平滑后的虚化图像，所述平滑后的虚化图像为目标虚化图像。8.一种图像虚化装置，其特征在于，包括：提供模块，用于提供目标yuv图像中的y通道图像确定模块，用于根据所述y通道图像中各像素点的像素值确定所述目标yuv图像中各像素点的虚化权重系数；虚化模块，用于根据所述虚化权重系数对所述目标yuv图像进行虚化处理，得到目标虚化图像。9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括处理器、存储器以及存储于所述存储器中并可在所述处理器上运行的图像虚化程序，所述处理器执行所述图像虚化程序以实现权利要求1至7任一项所述的图像虚化方法中的步骤。10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有图像虚化程序，所述图像虚化程序被处理器执行以实现权利要求1至7任一项所述的图像虚化方法中的步骤。

技术总结
本申请实施例提供一种图像虚化方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质，方法包括：提供目标YUV图像中的Y通道图像；根据Y通道图像中各像素点的像素值确定目标YUV图像中各像素点的虚化权重系数；根据虚化权重系数对目标YUV图像进行虚化处理，得到目标虚化图像。本申请实施例提供的图像虚化方法是单独提取并利用Y通道图像中各像素点的像素值去对图像进行虚化处理，在进行光斑虚化或其他与亮度有关的虚化时，具有很好的虚化效果，同时有效降低了虚化处理过程中的计算量。虚化处理过程中的计算量。虚化处理过程中的计算量。


技术研发人员：李鹏 任世强 刘阳兴
受保护的技术使用者：武汉TCL集团工业研究院有限公司
技术研发日：2021.08.06
技术公布日：2023/2/17