技术新讯 > 照明工业产品的制造及其应用技术 > 一种太阳模拟器的制作方法  >  正文

一种太阳模拟器的制作方法

  • 国知局
  • 2024-06-21 09:58:28

本技术涉及光谱,尤其是涉及一种太阳模拟器。

背景技术:

1、太阳模拟器是一种模拟太阳照射的设备。由于太阳模拟器本身体积较小,测试过程不受环境、气候、时间等因素影响,从而避免了室外测量的各种因素限制,广泛应用于太阳能电池特性测试,光电材料特性测试,生物化学相关测试,光学催化降解加速研究,皮肤化妆用品检测和环境研究等。现有的稳态太阳模拟器为了获得较大的辐照面积,它的光学系统,以及光源的供电系统非常庞大,而且对均匀性要求很高的光源很难满足要求;现有的脉冲太阳模拟器由于测试工作在极短的时间内进行,因此数据采集系统相当复杂。

2、因此,亟需一种易满足光斑均匀性的太阳模拟器。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种太阳模拟器,解决了现有技术中存在的结构复杂而不易获取均匀光斑的技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。

2、为实现上述目的,本实用新型提供了以下技术方案:

3、本实用新型提供的一种太阳模拟器,包括:

4、壳体总成;

5、接收面,所述接收面与所述壳体总成可拆卸连接;

6、光学系统,所述光学系统安装在所述壳体总成内,且与所述接收面对应设置;

7、调节组件,所述调节组件安装在壳体总成内,且与所述光学系统的光源连接。

8、优选的,所述光学系统包括依次安装在所述壳体总成内的所述光源、第一反射镜、滤光片、复眼、第二反射镜以及准直透镜,所述准直透镜与所述接收面对应设置。

9、优选的,所述光源至所述第一反射镜的距离为199.5mm-200.5mm。

10、优选的,所述第一反射镜与所述滤光片的距离为147mm-148mm。

11、优选的,所述滤光片与所述第二反射镜的距离为254.5mm-255.5mm。

12、优选的,所述第二反射镜与所述准直透镜的距离为165mm-166mm。

13、优选的,所述准直透镜与所述接收面的距离为399.5mm-400.5mm。

14、优选的,还包括:

15、风扇,若干所述风扇安装在所述壳体总成的侧壁上,且靠近所述光学系统的光源设置。

16、优选的,所述调节组件包括:

17、三轴手动精密滑台,所述三轴手动精密滑台的固定端固定连接在所述壳体总成的内侧壁上,所述三轴手动精密滑台的活动端与所述光源固定连接。

18、优选的,还包括:

19、反光罩,所述反光罩的大径端固定连接在所述壳体总成内,所述光源伸入所述反光罩的小径端。

20、现有的稳态太阳模拟器为了获得较大的辐照面积,它的光学系统,以及光源的供电系统非常庞大,而且对均匀性要求很高的光源很难满足要求;现有的脉冲太阳模拟器由于测试工作在极短的时间内进行,因此数据采集系统相当复杂。本实用新型提供的技术方案中,光学系统安装在壳体总成内,形成相对封闭的环境,再通过调节组件驱动光源上下、左右、前后移动,便于选择合适的光源位置,从而有利于获得均匀度更高的光斑;整体上,本申请结构简单,易获得均匀度更高的光斑。

技术特征:

1.一种太阳模拟器,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的太阳模拟器,其特征在于,所述光学系统包括依次安装在所述壳体总成(1)内的所述光源、第一反射镜(9)、滤光片(10)、复眼(11)、第二反射镜(4)以及准直透镜(12),所述准直透镜(12)与所述接收面(3)对应设置。

3.根据权利要求2所述的太阳模拟器,其特征在于,所述光源至所述第一反射镜(9)的距离为199.5mm-200.5mm。

4.根据权利要求2所述的太阳模拟器,其特征在于,所述第一反射镜(9)与所述滤光片(10)的距离为147mm-148mm。

5.根据权利要求2所述的太阳模拟器,其特征在于,所述滤光片(10)与所述第二反射镜(4)的距离为254.5mm-255.5mm。

6.根据权利要求2所述的太阳模拟器,其特征在于,所述第二反射镜(4)与所述准直透镜(12)的距离为165mm-166mm。

7.根据权利要求2所述的太阳模拟器,其特征在于,所述准直透镜(12)与所述接收面(3)的距离为399.5mm-400.5mm。

8.根据权利要求1所述的太阳模拟器,其特征在于,还包括:

9.根据权利要求1所述的太阳模拟器,其特征在于,所述调节组件包括:

10.根据权利要求1所述的太阳模拟器,其特征在于,还包括:

技术总结本技术提供了一种太阳模拟器,涉及光谱技术领域。该装置包括壳体总成;接收面,所述接收面与所述壳体总成可拆卸连接;光学系统,所述光学系统安装在所述壳体总成内,且与所述接收面对应设置;调节组件,所述调节组件安装在壳体总成内,且与所述光学系统的光源连接。本申请结构简单,易获得均匀度更高的光斑。技术研发人员:李威,房智峰,宋丹受保护的技术使用者:努美(天津)科技有限公司技术研发日:20231019技术公布日:2024/5/8

本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240618/17486.html

版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至 YYfuon@163.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。