一种用于OLED面板制程的显影液及其制备方法与流程

本技术涉及显影技术的领域，尤其是涉及一种用于oled面板制程的显影液及其制备方法。

背景技术：

1、oled面板制程常使用tmah作为光刻线路显影液，tmah是一种有机碱，具备强碱性，并具备独特的特性；与无机碱不同，tmah在使用过程中不会产生金属离子，并且在加热时能够分解成三甲胺气体和甲醇气体而无残留，这使得tmah在现代电子行业中被广泛应用。

2、显影液主要成分是碱，以前常使用无机碱koh，然而，随着集成电路制造工艺的复杂化，对化学品杂质的要求也越来越高；以前使用的无机碱显影液在显影后需要大量用水冲洗基板，但仍无法完全去除金属离子残留，残留的金属离子会限制电子行业发展；而tmah的出现解决了koh的问题，因为它不含金属离子，且在高温下分解后不留任何残留物。

3、因此，tmah成为目前最常用且性能优越的显影液，取代了以前广泛使用的无机碱；tmah广泛应用于集成电路行业、液晶显示器行业、光电子行业等领域；然而，在oled面板制程制程中，由于tmah具有强碱性和化学活性，当tmah与金属铝接触时，tmah中的氢氧根离子会与铝发生化学反应生成氢气和铝氢氧化物，导致金属铝的表面受损和溶解，导致铝的表面被侵蚀和腐蚀，从而破坏oled面板制程制程中的金属结构。

技术实现思路

1、为了改善显影液对oled面板制程上金属铝的腐蚀的问题，本技术提供一种用于oled面板制程的显影液及其制备方法。

2、本技术提供的一种用于oled面板制程的显影液及其制备方法采用如下的技术方案：

3、一种用于oled面板制程的显影液，所述显影液包括季铵盐碱液、缓蚀剂与水；所述缓蚀剂为硫脲或苯并三氮唑；所述缓蚀剂的重量百分含量为0.08％-0.15％。

4、通过采用上述技术方案，本技术通过添加缓缓蚀剂防止显影液中的金属成分与感光材料接触而发生的腐蚀反应，延长显影液的使用寿命，0.08％-0.15％的缓蚀剂足以提供有效的缓蚀效果，同时又不会影响显影液的显影性能；

5、利用硫脲和苯并三氮唑分子中含有一定的官能团，这些官能团可以与金属表面的活性位点形成化学键或吸附力，使缓蚀剂分子在金属表面形成一个紧密而稳定的吸附层，吸附在金属表面的硫脲或苯并三氮唑分子可以形成一层致密的保护膜，阻隔氧、水和其他腐蚀介质对金属表面的接触，减缓金属表面的腐蚀反应，还可以阻碍电子在金属表面和溶液中的传递，降低金属的电化学活性，从而减缓腐蚀反应的进行；

6、当金属表面的保护膜受到破坏时，硫脲或苯并三氮唑分子可以迅速扩散到破损处重新形成保护膜，具有一定的自修复能力，达到防腐蚀的效果，从而延长显影液和设备的使用寿命，减少金属腐蚀可以降低维护成本，提高设备的稳定性和可靠性，同时减少对环境的污染。

7、在一个具体的可实施方案中，所述季铵盐碱液重量百分含量为5-10％。

8、通过采用上述技术方案，季铵盐碱液提供显影液的主要显影成分，用于加速感光材料上的暗部图像的显影，在5％-10％的范围内，可以调整显影液的显影速度和影调，可以控制显影速率和显影效果的平衡，确保显影过程充分而不过度，保证显影速率的同时，获得清晰、均匀的显影效果，满足不同场景下的需求。

9、在一个具体的可实施方案中，所述季铵盐碱液为tmah水溶液，所述tmah水溶液的碱浓度为25％。

10、通过采用上述技术方案，tmah水溶液在半导体和显示器制造等领域常用作显影剂，其高浓度的碱性能够有效地去除光刻胶等有机材料，同时保持对硅等半导体材料的选择性显影特性，25％浓度的tmah水溶液在oled面板制程制造过程中用于显影步骤，确保所需的图案和结构能够清晰地形成。

11、在一个具体的可实施方案中，所述显影液的碱浓度为2％-3％。

12、通过采用上述技术方案，显影液的碱浓度为2％到3％，这种浓度范围相对较低，但足以提供良好的显影效果，同时避免过度腐蚀或损伤oled面板制程制造中使用的材料，通过将tmah水溶液稀释到适当的浓度，可以确保在制造过程中对材料和设备的影响最小化，同时保持显影液的有效性和效率。

13、在一个具体的可实施方案中，所述显影液还包括表面活性剂。

14、通过采用上述技术方案，利用表面活性剂可以降低液体的表面张力，使显影液更容易与底片表面接触，确保显影液能够均匀覆盖底片表面，从而实现更均匀的显影效果。

15、在一个具体的可实施方案中，所述表面活性剂为非离子表面活性剂，所述表面活性剂的重量百分含量为0.1％-0.5％。

16、通过采用上述技术方案，利用非离子表面活性剂可以降低液体的表面张力，提高显影液对底片表面的湿润性，使显影液更容易均匀覆盖在底片表面，确保显影的均匀性；通过减少表面张力，非离子表面活性剂可以减少显影液在底片表面形成的水滴，有助于避免水滴留下的斑点或不均匀显影，提高显影的均匀性和稳定性，确保高质量的显影效果。

17、在一个具体的可实施方案中，所述显影液还包括消泡剂。

18、通过采用上述技术方案，利用消泡剂，抑制显影液中产生的气泡，确保显影液在使用过程中保持平稳，消泡剂可以有效地降低液体表面的表面张力，从而防止气泡的形成或减少气泡的数量，有助于确保显影过程的顺利进行，减少气泡对显影效果的影响，从而获得更加清晰和均匀的显影结果。

19、在一个具体的可实施方案中，所述消泡剂为聚醚类消泡剂，所述消泡剂的重量百分含量为0.01％-0.05％。

20、通过采用上述技术方案，利用聚醚类消泡剂具有很好的消泡性能，能够有效地抑制显影液中气泡的形成，从而确保显影液在使用过程中不会出现气泡，从而减少气泡对显影效果的影响；并且通过添加适量的聚醚类消泡剂，可以保持显影液的流动性和均匀性，避免因气泡形成而导致的流体不稳定或底片表面的不均匀显影。

21、一种显影液制备方法，用于制备上述所述的用于oled面板制程的显影液，所述方法包括以下步骤：

22、s1、使用tmah水溶液作为配比原液，接入一定比例的水将原液碱浓度稀释到2-3％；

23、s2、按照显影液总量的0.1％-0.5％的比例加入表面活性剂，将表面活性剂逐渐加入到显影液中，并充分搅拌混合，直到完全溶解；

24、s3、按照显影液总量的0.08％-0.15％的比例加入硫脲或苯并三氮唑作为缓蚀剂，将缓蚀剂逐渐加入到显影液中，并充分搅拌混合，直到完全溶解；

25、s4、按照显影液总量的0.01％-0.05％的比例加入消泡剂，将消泡剂逐渐加入到显影液中，并充分搅拌混合，制备得到所述显影液。

26、通过采用上述技术方案，利用上述方法制得显影液，通过稀释tmah水溶液、加入表面活性剂、缓蚀剂和消泡剂等步骤，可以增强显影液的稳定性和可控性，确保显影过程的顺利进行，表面活性剂的加入有助于提高显影液的润湿性和分散性，缓蚀剂的加入可以抑制氧化反应，消泡剂的加入则有助于抑制气泡形成，这些因素共同作用可以优化显影效果，使底片显影更加均匀和清晰，并且缓蚀剂的加入可以延长显影液的使用寿命，减少显影液的过早失效，从而降低了成本和频繁更换显影液的需求；上述制备过程中的步骤清晰明了，操作简便，不需要复杂的设备或特殊的环境，适用于实验室或工业生产中的常规操作；并且采用这种方法制备的显影液成本相对较低，且显影效果良好，能够满足一般应用的需求，因此具有较高的成本效益比。

27、在一个具体的可实施方案中，所述s1中的tmah水溶液的初始碱浓度为25％。

28、综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：

29、1.本技术通过本技术通过添加缓缓蚀剂防止显影液中的金属成分与感光材料接触而发生的腐蚀反应，延长显影液的使用寿命，0.08％-0.15％的缓蚀剂足以提供有效的缓蚀效果，同时又不会影响显影液的显影性能；通过硫脲和苯并三氮唑分子中含有一定的官能团，这些官能团可以与金属表面的活性位点形成化学键或吸附力，使缓蚀剂分子在金属表面形成一个紧密而稳定的吸附层，吸附在金属表面的硫脲或苯并三氮唑分子可以形成一层致密的保护膜，阻隔氧、水和其他腐蚀介质对金属表面的接触，减缓金属表面的腐蚀反应，还可以阻碍电子在金属表面和溶液中的传递，降低金属的电化学活性，从而减缓腐蚀反应的进行。

30、2.本技术的显影液具备良好的防腐蚀特性，能够在不损害金属表面的情况下准确地形成图案，本技术的显影液对铝基底金属无腐蚀，有效改善对碱敏感金属显影后产生的不良图案，延长显影液和设备的使用寿命，减少金属腐蚀可以降低维护成本，提高设备的稳定性和可靠性，同时减少对环境的污染；同时确保显影液的优异性能，减少未曝光区域的损失，可以控制显影速率和显影效果的平衡，确保显影过程充分而不过度，保证显影速率的同时，获得清晰、均匀的显影效果。