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一种无残留可转贴硅胶保护膜及其制备方法与流程

  • 国知局
  • 2024-08-02 17:25:48

本发明涉及硅胶保护膜制备,具体涉及一种无残留可转贴硅胶保护膜及其制备方法。

背景技术:

1、在当前市场上,硅胶保护膜被广泛应用于电子产品、医疗器械、汽车内饰等多种领域,以保护表面免受刮擦、灰尘和其他潜在损伤。然而,这些保护膜的一个普遍问题是在移除后往往会在物品表面留下残留的粘合剂,这不仅影响美观,而且可能会损害到被保护的表面。常规的硅胶保护膜虽然具有一定的透明性和保护作用,但因为其黏性特性和粘合剂的选择,使得这些产品在重复使用方面存在限制。

2、现有的硅胶保护膜一般缺乏有效的重复粘贴功能,这限制了它们的使用范围,尤其是在需要频繁更换位置或临时保护时。用户在尝试重新定位或重新使用这些保护膜时会遇到困难,因为一旦粘合剂接触空气或污染物,其粘性就会大大降低,导致保护膜无法再次牢固贴合。因此,市场上迫切需要一种能够无残留并可多次重新定位的硅胶保护膜,以提高使用便利性和成本效益。

技术实现思路

1、针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本发明提供了一种无残留可转贴硅胶保护膜及其制备方法,采用pet薄膜作为基材层,引入改性生物质碳纳米管和硅量子点,增强了整体的结构完整性和紫外抵抗能力,能够在被重复贴合与剥离过程中保持良好的物理性质,不易变形或破损,且制备方法简便有效,易于工业化生产。

2、为了实现上述目的,本发明采取的技术方案如下:本发明提出了一种无残留可转贴硅胶保护膜,所述硅胶保护膜包括基材层、粘结层,所述基材层为光学级透明pet薄膜,透过率在90%以上,所述粘结层由粘结剂涂覆在基材层固化组成,所述粘结剂由以下重量份的原料组成:乙烯基聚二甲基硅氧烷30~40份、丙烯酸甲酯30~40份、聚乙烯醇10~15份、甲基丙烯酰胺10~15份、改性生物质碳纳米管3~5份、硅量子点溶液1~3份、过硫酸钠引发剂0.4~0.6份、去离子水50~70份。

3、优选地,所述pet薄膜的厚度为80 μm,所述粘结层的厚度为14 μm。

4、进一步地,所述改性生物质碳纳米管的制备方法,包括以下步骤:

5、①、将生物质废料用水清洗干净,放入烘箱中80℃烘干24 h,再放入粉碎机中粉碎得到直径1±0.2 mm的生物质粉末;

6、②、称取5 g步骤①所制生物质粉末加入100 ml蒸馏水中,混合均匀后转移至反应釜中放置在烘箱中,在nh3气氛中加热至180℃反应12 h,升温速率和降温速率均为5℃/min,得到生物质多孔碳;

7、③、将步骤②所制生物质多孔碳分散在200 ml蒸馏水中,150 w超声30 min分散均匀,加入30 mg fecl3和30 mg nicl2,继续超声60 min混合均匀,抽滤后将滤饼放入烘箱中80℃烘干24 h,然后置于管式炉中,在nh3气氛中,以8 ℃/min的速率升温至900~1000℃,保持30~60 min,以5 ℃/min的速率冷却至室温,得到生物质碳纳米管;

8、④、将步骤③所制生物质碳纳米管置于200 ml乙醇中,150 w超声分散30 min,加入2 ml kh-570,再次超声10 min,置于加热套中,400~500 rpm磁力搅拌条件下90℃加热回流12 h,反应结束后,用乙醇、乙腈交替洗涤沉淀三次,置于烘箱中60℃干燥12 h,得到改性生物质碳纳米管。

9、优选地,所述步骤①中生物质废料为玉米秸秆、棉花秸秆、小麦秸秆、木屑、稻壳中的任何一种。

10、优选地,所述硅量子点溶液的制备方法,包括以下步骤:

11、(1)、将40 ml蒸馏水加入烧杯中,加热至40℃保持30 min,加入8~10 ml 3-氨丙基三乙氧基硅烷,300~400 rpm搅拌10~20 min,得到硅烷偶联剂溶液;

12、(2)、在步骤(1)所制的硅烷偶联剂溶液中加入10~14 ml的0.1 mol/l 抗坏血酸溶液,混合400 rpm搅拌20 min,冷却至室温静置24 h,得到硅量子点溶液。

13、本发明还提出一种无残留可转贴硅胶保护膜的制备方法,具体包括以下步骤:

14、s1、按重量份称取乙烯基聚二甲基硅氧烷、丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、甲基丙烯酰胺、改性生物质碳纳米管、硅量子点溶液置于去离子水中,300~500 rpm转速搅拌60 min混合均匀,得到混合液;

15、s2、在步骤s1所制的混合液中加入过硫酸钠引发剂,加热至50℃,继续搅拌60min,得到粘结剂;

16、s3、将步骤s2所制的粘结剂涂布在基材层的单面,固化后,在粘结剂表面形成粘结层,得到无残留可转贴硅胶保护膜。

17、本发明取得的有益效果如下:

18、本发明提出的无残留可转贴硅胶保护膜及其制备方法成功解决了市场上常见的硅胶保护膜移除后留下粘合剂残留的问题。首先,通过采用光学级透明pet薄膜作为基材层,并精确控制粘结层的成分与厚度,该保护膜能够具有较高的透光率,有效保持被保护物品的原始外观。其次,改性生物质碳纳米管通过在粘结层中形成一个高强度的网络结构,增强了整体的结构完整性,从而使保护膜能够在被重复贴合与剥离过程中保持良好的物理性质,不易变形或破损;此外,这种网络结构还有助于保护膜在面对温度变化时保持稳定,防止因热胀冷缩而导致的损害或性能下降。硅量子点则在提升保护膜的环境稳定性和光学性能方面发挥作用。硅量子点能提高保护膜对紫外线的抵抗能力,增强其在不同环境条件下的稳定性,延长保护膜的使用寿命。本发明所述制备方法简便有效,易于工业化生产,具有很高的实用价值和市场前景。这种无残留可转贴的硅胶保护膜对于需要频繁更换或临时保护的场合尤其有益,它不仅提升了使用便利性,同时也极大地减少了对被保护表面的潜在损害,满足了市场对高性能保护膜的需求。

技术特征:

1.一种无残留可转贴硅胶保护膜,其特征在于,所述硅胶保护膜包括基材层、粘结层,所述基材层为光学级透明pet薄膜,透过率在90%以上,所述粘结层由粘结剂涂覆在基材层固化组成,所述粘结剂由以下重量份的原料组成:乙烯基聚二甲基硅氧烷30~40份、丙烯酸甲酯30~40份、聚乙烯醇10~15份、甲基丙烯酰胺10~15份、改性生物质碳纳米管3~5份、硅量子点溶液1~3份、过硫酸钠引发剂0.4~0.6份、去离子水50~70份。

2. 根据权利要求1所述的一种无残留可转贴硅胶保护膜,其特征在于,所述pet薄膜的厚度为80 μm,所述粘结层的厚度为14 μm。

3.根据权利要求2所述的一种无残留可转贴硅胶保护膜,其特征在于,所述改性生物质碳纳米管的制备方法,包括以下步骤:

4.根据权利要求3所述的一种无残留可转贴硅胶保护膜,其特征在于,所述步骤①中生物质废料为玉米秸秆、棉花秸秆、小麦秸秆、木屑、稻壳中的任何一种。

5.根据权利要求4所述的一种无残留可转贴硅胶保护膜,其特征在于,所述硅量子点溶液的制备方法,包括以下步骤:

6.一种如权利要求1-5任一项所述的无残留可转贴硅胶保护膜的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

技术总结本发明涉及硅胶保护膜制备技术领域,具体是提供了一种无残留可转贴硅胶保护膜及其制备方法,所述硅胶保护膜包括基材层、粘结层,所述基材层为光学级透明PET薄膜,透过率在90%以上,所述粘结层由粘结剂涂覆在基材层固化组成,所述粘结剂由以下重量份的原料组成:乙烯基聚二甲基硅氧烷30~40份、丙烯酸甲酯30~40份、聚乙烯醇10~15份、甲基丙烯酰胺10~15份、改性生物质碳纳米管3~5份、硅量子点溶液1~3份、过硫酸钠引发剂0.4~0.6份、去离子水50~70份。本发明引入改性生物质碳纳米管和硅量子点,增强了保护膜的结构完整性和紫外抵抗能力,使其不易变形或破损,提高了耐用性。技术研发人员:钱晓春,秦晶晶受保护的技术使用者:苏州美艾仑新材料科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/2

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