涂层及其制备方法和显示装置与流程

本申请涉及显示，具体地，涉及一种涂层及其制备方法和显示装置。

背景技术：

1、显示器在使用过程中，经常会受到刮擦，图像清晰度也会受到外部光源的影响，因此需对显示器表面进行处理，以减少外部光源的反射来提升图像清晰度。

2、另外，当显示器用于室外时，室外灰尘颗粒可能会堆积到显示器表面影响显示效果，因此需要显示器外表面具有自清洁的功能。

技术实现思路

1、本申请提供一种涂层及其制备方法和显示装置，所述涂层兼具自清洁和减反射的功能。

2、本申请提供一种涂层，具有相背的第一表面和第二表面，所述第一表面为粗糙表面，液体在所述第一表面的接触角范围为0°～10°；

3、其中，所述涂层的材料包括亲水性树脂和无机颗粒，所述亲水性树脂包括酯基、酰胺基、醚基、羧酸根离子及铵根离子。

4、在一实施例中，所述亲水性树脂包括式(i)所示的化合物，

5、

6、在一实施例中，所述涂层的第一表面的粗糙度因子范围为1～5。

7、在一实施例中，所述无机颗粒为中空纳米颗粒，所述无机颗粒的中空率范围为50％～70％。

8、在一实施例中，所述无机颗粒的折射率范围为1.25～1.45。

9、在一实施例中，所述涂层的材料中所述无机颗粒的添加量为30％～80％。

10、在一实施例中，所述涂层的反射率范围为0％～0.5％。

11、在一实施例中，所述涂层的材料还包括光固化单体、光引发剂以及溶剂。

12、本申请提供一种涂层的制备方法，包括：

13、将涂层材料涂布在基材上，其中，所述涂层材料包括亲水性树脂和无机颗粒，所述亲水性树脂包括酯基、酰胺基、醚基、羧酸根离子及铵根离子；

14、将涂布在所述基材上的涂层材料烘干；

15、将烘干后的涂层材料进行光照固化，形成涂层，其中，所述涂层远离所述基材的表面为第一表面，所述第一表面为粗糙表面，液体在所述第一表面的接触角范围为0°～10°。

16、本申请还提供一种显示装置，包括如上任一实施例所述的涂层。

17、本申请提供一种涂层及其制备方法和显示装置，所述涂层包括亲水性树脂材料，亲水性树脂材料中包含酯基、酰胺基、醚基、带负电荷的羧酸根离子及带正电荷的铵根离子，这些极性基团均具有亲水性，因此成膜后的表面与液体的接触角低，另外，所述涂层还包括无机颗粒，使得涂层具有粗糙表面，该粗糙表面上的液体接触角小于10°，具有超亲水性，因而具有较好的自清洁效果，同时无机粒子可以用来调节涂层的折射率，降低成膜后涂层的反射率，具有增透效果。本申请的涂层兼具自清洁和减反射的功能，应用于显示装置时，可提升显示装置表面的自清洁效果，同时减少表面反射率。

技术特征：

1.一种涂层，其特征在于，具有相背的第一表面和第二表面，所述第一表面为粗糙表面，液体在所述第一表面的接触角范围为0°～10°；

2.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述亲水性树脂包括式(i)所示的化合物，

3.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述涂层的第一表面的粗糙度因子范围为1～5。

4.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述无机颗粒为中空纳米颗粒，所述无机颗粒的中空率范围为50％～70％。

5.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述无机颗粒的折射率范围为1.25～1.45。

6.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述涂层的材料中所述无机颗粒的添加量为30％～80％。

7.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述涂层的反射率范围为0％～0.5％。

8.根据权利要求1-7任一项所述的涂层，其特征在于，所述涂层的材料还包括光固化单体、光引发剂以及溶剂。

9.一种涂层的制备方法，其特征在于，包括：

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的涂层。

技术总结本申请提供一种涂层及其制备方法和显示装置，所述涂层具有相背的第一表面和第二表面，所述第一表面为粗糙表面，液体在所述第一表面的接触角范围为0°～10°；其中，所述涂层的材料包括亲水性树脂和无机颗粒，所述亲水性树脂包括酯基、酰胺基、醚基、羧酸根离子及铵根离子。技术研发人员：鲍爱兵,周淼,陈黎暄受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/30