入口头部组件的制作方法

本发明的领域涉及一种用于减排设备的入口头部组件。

背景技术：

1、减排设备是已知的，并且通常用于处理来自例如半导体或平板显示器制造行业中使用的制造加工工具的流出气体流。在这种制造期间，从加工工具泵出的流出气体流中存在残留的全氟化合物(pfc)和其他化合物。pfc很难从流出气体中去除，并且不希望将它们释放到环境中，因为已知它们具有相对高的温室活动。

2、已知的减排设备使用燃烧来从流出气体流中去除pfc和其他化合物。通常，流出气体流是含有pfc和其他化合物的氮气流。燃料气体与流出气体流混合，并且使用入口组件将该气体流混合物输送到减排室中以在其中进行减排。

3、尽管存在用于处理流出气体流的技术，但它们各自具有其自身的缺点。因此，希望提供一种用于处理流出气体流的改进技术。

技术实现思路

1、根据第一方面，提供了一种用于减排设备的入口头部组件，该减排设备用于对来自半导体加工工具的流出流(effluent stream)进行减排，该入口头部组件包括：入口头部；轴向取向的先导喷嘴，其在入口头部内延伸并被构造成向减排设备的下游减排室供应至少一个先导燃烧试剂流；以及多个入口喷嘴，每个入口喷嘴在所述入口头部内延伸、相对于所述先导喷嘴的轴向取向以介于5°和60°之间、优选地介于5°和45°之间且更优选地5°和20°之间的角度成角度，并且被构造成在所述减排室内供应相关联的流出流以进行减排，所述多个入口喷嘴围绕先导喷嘴定位。

2、第一方面认识到，现有布置的问题是：为达到流出流内一些化合物的特定破坏率效率(dre)而产生的燃烧试剂消耗量会高于所希望的。因此，提供了一种入口头部组件。入口头部组件可用于减排设备。减排设备可对来自半导体加工工具的流出流进行减排。入口头部组件可包括入口头部。入口头部组件可包括先导喷嘴。先导喷嘴可在入口头部内延伸或延伸穿过入口头部。先导喷嘴可被构造成向减排设备的下游减排室供应至少一个先导燃烧试剂流。入口头部组件可包括多个入口喷嘴。每个入口喷嘴可在入口头部内延伸或延伸穿过入口头部。每个入口喷嘴可被构造成在减排室内供应要减排的相关联的流出流。入口喷嘴可围绕先导喷嘴定位。入口喷嘴可相对于所述先导喷嘴的轴向取向以介于5°和60°之间、优选地介于5°和45°之间且更优选地5°和20°之间的角度成角度。以这种方式，流出流围绕先导喷嘴更紧密地群集和聚拢(pack)在一起并被引导朝向先导喷嘴，这改进了对流出流的加热，从而改进dre并减少热量损失，这使得能够减少需要供应的燃烧试剂。

3、所述多个入口喷嘴可各自被构造成在减排室内供应不同的相关联的流出流以进行减排。因此，入口喷嘴可向减排室供应不同的、潜在地化学上不相容的流出流。这有助于确保那些不相容的流出流在减排室的外部保持分离，从而最小化在减排室上游的任何不受欢迎的且潜在地危险的化学反应。

4、所述多个入口喷嘴可各自被构造成将流出流与至少内燃烧试剂流一起供应以提供内氧化焰，并且包括外环形喷嘴，该外环形喷嘴被构造成供应外燃烧试剂流以提供同轴焰来稳定内氧化焰。因此，入口喷嘴可产生利用同轴扩散焰来稳定的内氧化焰。通常，这些扩散焰较冷，其中燃料气体的核心扩散到富含氧化剂的周围环境中，这些焰具有容易锚定到表面上的益处。将那些入口喷嘴中的每个围绕先导聚拢有助于在流出流之间共享热量并减少热量损失，这使得能够以较少的量供应外燃烧试剂以提供同轴焰，同时仍保持所需的dre。

5、所述多个入口喷嘴可定位成至少部分地包围先导喷嘴。

6、所述多个入口喷嘴可定位成周向地围绕先导喷嘴。

7、所述多个入口喷嘴可围绕先导喷嘴周向地等距间隔。

8、所述多个入口喷嘴可围绕先导喷嘴定位在节距圆上。

9、所述多个入口喷嘴和先导喷嘴可定位成彼此邻接，以流量稳定性和燃烧试剂供应距离中的至少一者间隔开。因此，喷嘴可定位成彼此相邻或接近，其之间具有微小的间隙或间距。

10、先导喷嘴可被构造成起始所述至少一个先导燃烧试剂流的燃烧，所述多个入口喷嘴被构造成供应至少一个燃烧试剂流与流出流并定位成从所述至少一个先导燃烧试剂流传播由每个入口喷嘴供应的燃烧试剂流的燃烧。换句话说，由入口喷嘴中的每个供应的流出流可各自从由先导喷嘴提供的点燃流直接点燃。

11、先导喷嘴可包括：内喷嘴，其被构造成供应第一燃烧试剂流；以及外喷嘴，其被构造成将第二燃烧试剂流作为环形帘幕供应，该环形帘幕至少部分地包围第一燃烧试剂流。因此，先导喷嘴可具有内流和同轴的环形外流。

12、入口头部组件可包括进一步的燃烧试剂喷嘴，该进一步的燃烧试剂喷嘴在入口头部内延伸并被构造成向减排设备的下游减排室供应至少一个进一步的燃烧试剂流。因此，可提供供应进一步的燃烧试剂的至少一个进一步的或附加的燃烧试剂喷嘴。

13、根据第二方面，提供了一种用于减排设备的入口头部组件，该减排设备用于对来自半导体加工工具的流出流进行减排，所述入口头部组件包括：入口头部；先导喷嘴，其在所述入口头部内延伸并被构造成向所述减排设备的下游减排室供应至少一个先导燃烧试剂流；以及

14、多个入口喷嘴，每个入口喷嘴在所述入口头部内延伸并被构造成在所述减排室内供应相关联的流出流以进行减排，所述多个入口喷嘴围绕所述先导喷嘴定位；所述入口头部组件包括进一步的燃烧试剂喷嘴，该进一步的燃烧试剂喷嘴在所述入口头部内延伸并被构造成向所述减排设备的下游减排室供应至少一个进一步的燃烧试剂流，其中，所述多个入口喷嘴和所述进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者取向成相对于所述先导喷嘴成角度，并且优选地其中，所述多个入口喷嘴和所述进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者取向成供应相对于所述先导燃烧试剂流成角度的所述流出流和所述进一步的燃烧试剂流中的至少一者。

15、除非另有陈述，否则对下文所描述的燃烧试剂喷嘴的提及指代本发明的第一方面和第二方面两者。

16、燃烧试剂喷嘴可被构造成供应所述至少一个进一步的燃烧试剂流以至少部分地包围由所述多个入口喷嘴向减排室供应的那些多个流出流。因此，可围绕所述多个流出流提供进一步的燃烧试剂。这有助于保持流出流在减排室内的温度以改进dre，同时减少热量损失并减少燃烧试剂用量。

17、进一步的燃烧试剂喷嘴可被构造成将所述至少一个进一步的燃烧试剂流作为环形帘幕供应，该环形帘幕至少部分地包围由所述多个入口喷嘴向减排室供应的那些多个流出流。

18、进一步的燃烧试剂喷嘴可定位成从由每个入口喷嘴供应的燃烧试剂流传播所述至少一个进一步的燃烧试剂流的燃烧。换句话说，进一步的燃烧试剂可通过由入口喷嘴提供的流出流而直接点燃，流出流可进而从由先导喷嘴提供的燃烧试剂流直接点燃。

19、进一步的燃烧试剂喷嘴可包括：第一燃烧试剂喷嘴，其被构造成供应第一燃烧试剂流；以及第二燃烧试剂喷嘴，其被构造成供应第二燃烧试剂流。

20、第一燃烧试剂喷嘴可包括第一环形喷嘴，该第一环形喷嘴被构造成将第一燃烧试剂流作为第一环形帘幕供应，该第一环形帘幕至少部分地包围由所述多个入口喷嘴向减排室供应的那些多个流出流，并且第二燃烧试剂喷嘴包括第二环形喷嘴，该第二环形喷嘴至少部分地包围第一环形喷嘴并被构造成将第二燃烧试剂流作为第二环形帘幕供应，该第二环形帘幕至少部分地包围第一环形帘幕。

21、进一步的燃烧试剂喷嘴可至少部分地包围所述多个入口喷嘴。因此，由入口喷嘴提供的流出流可被由进一步的燃烧试剂喷嘴提供的燃烧试剂流和由先导喷嘴提供的燃烧试剂流两者共同地包围。这有助于保持流出流在减排室内的温度以改进dre，同时减少热量损失并减少燃烧试剂用量。

22、进一步的燃烧试剂喷嘴可与先导喷嘴同心地定位。

23、第一燃烧试剂流可包括燃料，并且第二燃烧试剂流可包括氧化剂。

24、根据第二方面，所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可取向成与先导喷嘴平行。

25、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可取向成供应与先导燃烧试剂流平行的流出流和进一步的燃烧试剂流中的至少一者。

26、根据第一方面，进一步的燃烧试剂喷嘴可取向成相对于先导喷嘴成角度。

27、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可取向成供应可相对于先导燃烧试剂流成角度的流出流和进一步的燃烧试剂流中的至少一者。

28、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可朝向先导喷嘴取向。

29、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可取向成供应流出流和进一步的燃烧试剂流中的至少一者以与先导燃烧试剂流会聚。

30、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可取向成远离先导喷嘴。

31、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可取向成供应流出流和进一步的燃烧试剂流中的至少一者以从先导燃烧试剂流发散。

32、所述多个入口喷嘴和进一步的燃烧试剂喷嘴中的至少一者可以高达60°、优选地高达45°、优选地高达20°、优选地高达15°、优选地高达12.5°以及优选地高达10°的角度取向。

33、根据第三方面，提供了一种方法，其包括：提供一种用于减排设备的入口头部组件，该减排设备用于对来自半导体加工工具的流出流进行减排，所述入口头部组件包括：入口头部；先导喷嘴，其在所述入口头部内延伸并被构造成向所述减排设备的下游减排室供应至少一个先导燃烧试剂流；以及多个入口喷嘴，每个入口喷嘴在所述入口头部内延伸并被构造成在所述减排室内供应相关联的流出流以进行减排，所述多个入口喷嘴围绕所述先导喷嘴定位。

34、该方法可包括与上文陈述的入口头部组件的特征相对应的特征。

35、在所附独立权利要求和从属权利要求中陈述了进一步的特定和优选方面。从属权利要求的特征可在适当情况下与独立权利要求的特征组合，以及以不同于在权利要求中明确陈述的组合来组合。

36、在设备特征被描述为可操作以提供功能的情况下，将了解的是，这包括提供该功能或者被适配或构造成提供该功能的设备特征。