微纳制备方法及装置

1.本发明涉及半导体器件制备领域，尤其涉及一种微纳制备方法及装置。背景技术：2.微纳制备技术涵盖纳米元件的刻蚀、检测、组装等，例如，在刻蚀领域，通过纳米级尺度的扫描探针尖端与样品发生作用，从而在样品上刻蚀所需要的图案。在微纳元件组装领域，将微纳尺度的样品元件的分体进行整合组装，以构成一个完整的微纳元件。3.现有技术中，应用于纳米制备领域的微纳制备装置主要包括扫描探针及运动台，扫描探针的运动行程可直接影响制备的范围的大小，当制备样品的范围较大时，需要对制备图案进行区域拆分，运动台依次将拆分后的制备图案移至扫描探针的制备范围内完成小范围样品制备，最终以拼接的方式实现大范围样品的制备。4.上述微纳制备装置受限于运动台重复定位精度等因素的影响，存在制备拼接误差以及制备效率低的问题。技术实现要素：5.为了解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题，本发明提供了一种微纳制备方法及装置，可以实现大范围微纳制备，提高制备效率及制备精度。具体技术方案如下：本发明提供的微纳制备方法，包括：获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果；基于所述对比结果，调整第一运动模块和/或第二运动模块的运动状态。6.根据本发明的一个实施例，所述获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：确定所述目标制备范围小于或等于所述预设制备范围；所述基于所述对比结果，调整第一运动模块和/或第二运动模块的运动状态的步骤，包括：调整所述第一运动模块和所述第二运动模块中的一个运动。7.根据本发明的一个实施例，所述获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：确定所述目标制备范围大于所述预设制备范围；所述基于所述对比结果，调整第一运动模块和/或第二运动模块的运动状态的步骤，包括：调整所述第二运动模块相对于所述第一运动模块运动。8.根据本发明的一个实施例，所述获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：确定所述目标制备范围大于所述预设制备范围；所述基于所述对比结果，调整第一运动模块和/或第二运动模块的运动状态的步骤，包括：调整所述第一运动模块和所述第二运动模块同时运动。9.根据本发明的一个实施例，所述获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：识别与所述目标制备范围对应的制备路径；所述基于所述对比结果，调整第一运动模块和/或第二运动模块的运动状态的步骤，包括：基于所述制备路径，确定所述第一运动模块和所述第二运动模块的运动路径。10.根据本发明的一个实施例，所述基于所述对比结果，调整第一运动模块和/或第二运动模块的运动状态的步骤，包括：调整所述第一运动模块沿第一路径运动，调整所述第二运动模块沿第二路径运动；其中，所述第一路径的最大曲率半径小于所述第二路径的最小曲率半径。11.本发明提供了一种微纳制备装置，包括：处理器，执行计算机程序时实现如上所述的微纳制备方法；驱动件，用于调整所述第一运动模块和/或所述第二运动模块的运动状态；所述处理器基于所述目标制备范围与所述预设制备范围的所述对比结果，确定所述驱动件的驱动方式。12.根据本发明的一个实施例，所述微纳制备装置还包括视觉观测模块，所述视觉观测模块设置在所述第一运动模块朝向所述第二运动模块上的样品的一侧。13.根据本发明的一个实施例，所述微纳制备装置还包括调节组件，所述调节组件设置在所述第一运动模块上。14.根据本发明的一个实施例，所述微纳制备装置还包括x向辅助定位器和y向辅助定位器，所述x向辅助定位器和所述y向辅助定位器均与所述第二运动模块连接。15.根据本发明的一个实施例，所述第一运动模块至少包括扫描探针，所述第二运动模块包括柔性纳米运动台。16.根据本发明的一个实施例，所述扫描探针通过力刻蚀、电刻蚀、氧化刻蚀、热化学刻蚀、近原子尺度刻蚀或热刻蚀的方式对样品进行刻蚀。17.本发明提供了一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现如上所述的微纳制备方法。18.本发明提供了一种非暂态计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的微纳制备方法。19.本发明提供的微纳制备方法及装置，通过获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果，并基于对比结果，调整第一运动模块和第二运动模块的运动状态以完成对样品制备。具体地，目标制备范围小于或等于预设制备范围的时候，可以保持第二运动模块保持静止，第一运动模块相对于第二运动模块运动，第一运动模块运动可以在样品上留下运动轨迹以对样品直接进行刻蚀，从而完成样品制备，或者，保持第一运动模块静止，第二运动模块承载样品相对于第一运动模块运动，样品相对于第一运动模块运动的轨迹被刻蚀在样品上，从而完成样品制备；当目标制备范围大于预设制备范围的时候，可以保持第一运动模块静止，第二运动模块承载样品相对于第一运动模块运动，第二运动模块可以实现较大范围的运动，因而，进一步地，第二运动模块上承载的样品相对于第一运动模块运动的轨迹范围也较大，从而可以实现对样品的大范围刻蚀或者将不同规格范围的样品分体拼装为一个整体，以实现对样品的大范围制备，或者，可以调整第一运动模块和第二运动模块同时运动，第一运动模块运动可以产生一个范围相对较小的运动轨迹，第二运动模块承载样品运动可以产生一个范围相对较大的运动轨迹，这两个运动轨迹可以同时被刻蚀在样品上以完成大范围样品制备，也可以通过使第一运动模块和第二运动模块承载不同规格范围的样品分体进行拼装，从而可以较快地完成对样品的大范围制备。因此，应用本发明提供的技术方案，可以实现大范围微纳制备，提高制备效率及制备精度。附图说明20.为了更清楚地说明本发明或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。21.图1是本发明实施例提供的微纳制备方法的流程示意图；图2是本发明实施例提供的微纳制备装置的结构示意图；图3是图2提供的微纳制备装置的局部结构放大示意图；图4是本发明实施例提供的第一运动模块的结构示意图；图5是本发明实施例提供的第二运动模块的结构示意图；图6是本发明实施例提供的扫描探针和样品的位置关系示意图。22.附图标记：1、微纳制备装置；10、第一运动模块；11、扫描探针；12、扫描探针支架；13、扫描探针扫描器；14、扫描探针固定主体部；15、第一扫描探针激光调节旋钮；16、第二扫描探针激光调节旋钮；20、第二运动模块；21、纳米运动台；22、扫描探针组件固定平台；23、样品支架；30、视觉观测模块；31、相机镜头；32、相机立柱；33、相机升降旋钮；34，相机；40、x向辅助定位器；50、y向辅助定位器；1000、样品。具体实施方式23.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明中的附图，对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。24.在本发明实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。25.在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明实施例中的具体含义。26.在本发明实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。27.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明实施例的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。28.相关技术中，应用于纳米制备领域的微纳制备装置主要包括扫描探针及运动台，扫描探针的运动行程可直接影响制备的范围的大小，当制备样品的范围较大时，需要对制备图案进行区域拆分，运动台依次将拆分后的制备图案移至扫描探针的制备范围内完成小范围图案制备，最终以拼接的方式实现大范围样品的制备。由于微纳制备装置受限于运动台重复定位精度等因素的影响，存在制备拼接误差以及制备效率低的问题。29.为了解决上述问题，本发明提供了一种微纳制备方法及装置，以实现大范围微纳制备，提高制备效率及制备精度。30.如图1所示，本发明提供了一种微纳制备方法，微纳制备方法包括：s100、获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果。目标制备范围即为当前实际要进行制备的范围，预设制备范围即为微纳制备系统预先设定的一个定性的制备范围，通常，预设制备范围可以定义为是第一运动模块10的运动范围，以刻蚀领域为例，预设制备范围通常不大于104平方微米，预设制备范围可以根据实际需求进行调整。31.s200、基于对比结果，调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态。目标制备范围可以与预设制备范围相等，目标制备范围可以大于预设制备范围，目标制备范围也可以小于预设制备范围。32.本发明实施例中，第一运动模块10和第二运动模块20各自的运动状态是基于目标制备范围而确定的。以刻蚀领域为例，第一运动模块10通过作用于样品以完成对样品的刻蚀，第一运动模块10在样品上运动，运动划过的轨迹留在样品上，形成刻蚀图案。样品放置在第二运动模块20上，第二运动模块20可以将样品置于第一运动模块10的运动范围之内，以便第一运动模块10可以对样品产生刻蚀力。33.在本发明的一些实施例中，获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：确定目标制备范围小于或等于预设制备范围；基于对比结果，调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态的步骤，包括：调整第一运动模块10和第二运动模块20中的一个运动。34.当目标制备范围小于等于预设制备范围时，可以有两种制备方式：一种制备方式可以包括：调整第一运动模块10运动，第二运动模块20保持静止，第一运动模块10的机动性能比较灵活，尤其适于运动出变化比较多样的轨迹，预设制备范围通常是一个相对较小的制备范围，第一运动模块10可以较好地实现小范围的制备，保证制备的精度。35.另外一种制备方式可以包括：保持第一运动模块10静止，第二运动模块20相对于第一运动模块10运动，第二运动模块20将样品置于第一运动模块10的制备范围内，第二运动模块20承载着样品相对于第一运动模块10按照制备图案轨迹运动，也可以实现制备。36.在本发明的一些实施例中，获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：确定目标制备范围大于预设制备范围；基于对比结果，调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态的步骤，包括：调整第二运动模块20相对于第一运动模块10运动。37.当目标制备范围大于预设制备范围时，以刻蚀领域为例，即目标刻蚀范围大于104平方微米，可以保持第一运动模块10静止，第二运动模块20相对于第一运动模块10运动，第二运动模块20上承载的样品也随第二运动模块20相对于第一运动模块10运动，样品随第二运动模块20按照刻蚀图案的线条轨迹运动，第一运动模块10可以在样品上刻蚀出相应的图案。第二运动模块20可以具有较大的运动范围，进而可以承载样品运动较大的范围，第二运动模块20的动力较强，可以保证运动平稳，进而保证大范围微纳制备的精度。38.在本发明的一些实施例中，获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：确定目标制备范围大于预设制备范围；基于对比结果，调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态的步骤，包括：调整第一运动模块10和第二运动模块20同时运动。39.当目标制备范围大于预设制备范围时，以刻蚀领域为例，即目标刻蚀范围大于104平方微米，可以调整第一运动模块10和第二运动模块20同时运动，第一运动模块10运动的轨迹可以刻蚀在样品上，第二运动模块20运动的轨迹可以刻蚀在样品上，第一运动模块10运动的轨迹和第二运动模块20运动的轨迹可以组成最终的刻蚀图案。第一运动模块10和第二运动模块20同时运动，可以有效提高制备的效率，同时，制备过程中，无需图案拼接，无需重复定位制备的起始点，有效提高了制备精度。40.在本发明的一些实施例中，获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果的步骤，包括：识别与目标制备范围对应的制备路径；基于对比结果，调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态的步骤，包括：基于制备路径，确定第一运动模块10和第二运动模块20的运动路径。41.以刻蚀领域为例，刻蚀图案的形状特征多种多样，例如，既可以包括复杂曲线特征，也可以包括平滑曲线特征，通过对刻蚀范围内的复杂曲线和平滑曲线进行识别，可以确定复杂曲线和平滑曲线所在的位置区域，进而可以将不同位置处的刻蚀图案的曲线特征分配至第一运动模块10和第二运动模块20各自的运动路径中。42.在本发明的一些实施例中，基于对比结果，调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态的步骤，包括：调整第一运动模块10沿第一路径运动，调整第二运动模块20沿第二路径运动；其中，第一路径的最大曲率半径小于第二路径的最小曲率半径。43.第一运动模块10机动灵活，在小范围内可以实现快速、高精度的复杂曲线运动，第二运动模块20运动范围大，动力大且输出稳定，以刻蚀领域为例，刻蚀图案的形状多种多样，既可以包括平直的线条特征，也可以包括复杂的曲线特征，因而，根据第一运动模块10和第二运动模块20的运动特点，调整第一运动模块10走曲率小的运动路径，调整第二运动模块20走曲率大的运动路径，可以保证刻蚀精度，同时，第一运动模块10和第二运动模块20分工明确，可以提高刻蚀效率。44.本发明提供了一种微纳制备装置1，微纳制备装置1包括：处理器，执行计算机程序时实现如上所述中的微纳制备方法；驱动件，用于调整第一运动模块10和/或第二运动模块20的运动状态；处理器基于目标制备范围与预设制备范围的对比结果，确定驱动件的驱动方式。45.第一运动模块10可以包括扫描刻蚀探针或激光振镜等，第二运动模块20可以包括纳米运动台，纳米运动台可以在xy平面内运动，也可以包括旋转台，旋转台在xy平面内绕旋转中心轴旋转。46.在本发明的一些实施例中，微纳制备装置1还包括视觉观测模块，视觉观测模块30设置在第一运动模块10朝向第二运动模块20上的样品1000的一侧。以刻蚀领域为例，具体地，第一运动模块10可以设置在第二运动模块20和视觉观测模块30的中间位置。另外，视觉观测模块30中可以设置显微镜头，显微镜头可以设置在靠近样品1000的位置，当第一运动模块10在样品1000上进行刻蚀时，视觉观测模块可以将第一运动模块10的刻蚀过程实时采集下来，同时，视觉观测模块可以观测到样品1000的刻蚀状态。47.在本发明的一些实施例中，微纳制备装置1还包括调节组件，调节组件设置在第一运动模块10上。调节组件用于对第一运动模块10的运动状态进行辅助调整，例如，通过调节组件，可以进一步对第一运动模块10的运动起始点进行精准定位，进而提高微纳制备装置1的制备精度。48.如图2所示，在本发明的一些实施例中，微纳制备装置1还包括x向辅助定位器40和y向辅助定位器50，x向辅助定位器40和y向辅助定位器50均与第二运动模块20连接。第二运动模块20在xy平面内运动至某一位置时，通过x向辅助定位器40对第二运动模块20在x向的位置进行微调，以使第二运动模块20在x向的定位基准更准确，通过y向辅助定位器50对第二运动模块20在y向的位置进行微调，以使第二运动模块20在y向的定位基准更准确。例如，x向辅助定位器40和y向辅助定位器50可以包括螺旋微调部件，通过手动微调的方式对第二运动模块20进行调整，本发明对此不作限定。在本发明的一些实施例中，第一运动模块10至少包括扫描探针，第二运动模块20包括柔性纳米运动台。扫描探针是微纳制备中常用的器件，以刻蚀领域为例，可以设置多个扫描探针同时对样品进行刻蚀，这样可以提高刻蚀的效率。柔性纳米运动台通常包括基座、终端平台，柔性导向件、柔性解耦件以及驱动器等，柔性纳米运动台可以达到毫米级的大行程，纳米级的精度，刚度非线性度小，解耦误差小。49.在本发明的一些实施例中，扫描探针通过力刻蚀、电刻蚀或热刻蚀的方式对样品进行刻蚀。力刻蚀，即扫描探针与样品1000接触并对样品1000的表面产生作用力，扫描探针运动过程中可以在样品1000上印刻出其运动轨迹以完成对样品1000的刻蚀。电刻蚀，即扫描探针与样品1000不直接接触，扫描探针末端可以产生电流并与样品1000的表面发生电化学反应，进而完成在样品1000表面蚀刻出所需的图形或文字。进一步地，热刻蚀可以理解为扫描探针的末端与样品1000的表面发生热化学反应，进而完成在样品1000表面蚀刻出所需的图形或文字。50.下面，本发明实施例结合一个具体的微纳制备装置1的结构对上述技术方案进行说明。51.如图2至图6所示，本发明提供了一种微纳制备装置1，微纳制备装置1包括扫描探针11和纳米运动台21，扫描探针11适于对预设刻蚀范围内的样品1000进行刻蚀，纳米运动台21适于承载样品1000，纳米运动台21与扫描探针11相对设置，纳米运动台21可以将样品1000定位至预设刻蚀范围内。52.具体地，扫描探针11刻蚀样品1000的模式有多种，可以是力刻蚀、电刻蚀、氧化刻蚀、热化学刻蚀、近原子尺度刻蚀或热刻蚀等。如图3和图4所示，微纳制备装置1的第一运动模块10为扫描探针组件，其中，扫描探针组件包括扫描探针11、扫描探针支架12、扫描探针扫描器13、扫描探针固定主体部14、第一扫描探针激光调节旋钮15和第二扫描探针激光调节旋钮16等。扫描探针11安装在扫描探针支架12上，扫描探针支架12安装在扫描探针扫描器13上，扫描探针扫描器13安装在扫描探针固定主体部14上，扫描探针组件分级装配，可以便于调整扫描探针11的运动状态，保证扫描探针11刻蚀的高精度要求。第一扫描探针激光调节旋钮15和第二扫描探针激光调节旋钮16安装在扫描探针固定主体部14上，第一扫描探针激光调节旋钮15用于调节激光打在扫描探针11上的位置，第二扫描探针激光调节旋钮16用于调节接收器的位置，目标是使激光器发射的激光，经过扫描探针11的发射，落在接收器的合适的位置，从而实现扫描探针11的传感与控制。53.另外，在刻蚀过程中，还可以实时调整扫描探针11的电压等工艺参数。54.微纳制备装置1的第二运动模块20为纳米运动台组件，如图5所示，纳米运动台组件包括纳米运动台21、扫描探针组件固定平台22、样品支架23等。其中，扫描探针组件安装在扫描探针组件固定平台22上，样品支架23上用于承载样品1000，扫描探针11与样品1000相对设置。在刻蚀过程中，纳米运动台21相对于扫描探针11的运动范围可以达到毫米级，运动精度为纳米级，可以有效保证扫描探针11的刻蚀精度。55.纳米运动台21适于沿第一方向和第二方向运动，其中第一方向和第二方向垂直。具体地，第一方向和第二方向在水平面内构建出xy坐标系，其中第一方向可以作为x方向坐标轴，第二方向可以作为y方向坐标轴，纳米运动台21带动样品1000在xy平面空间调整刻蚀范围，有效增大刻蚀范围。56.纳米运动台21还适于沿第三方向运动，其中第三方向与第一方向和第二方向均垂直。例如，第三方向可以作为z方向坐标轴，z方向坐标轴与x方向坐标轴、y方向坐标轴均垂直。纳米运动台21可以在第三方向上进行高度升降调整，结合纳米运动台21在xy平面内的运动，纳米运动台21可以在三维空间内带动样品1000调整，因此，纳米运动台21不仅可以调整刻蚀范围，还可以满足扫描探针11对样品1000刻蚀的深度调整的要求。57.当扫描探针11与纳米运动台21同时运动时，扫描探针11的运动路径为第一路径，纳米运动台21的运动路径为第二路径，第一路径的最大曲率半径小于第二路径的最小曲率半径。纳米运动台21和扫描探针11同时位置调整。为了保证刻蚀的精度，扫描探针11在刻蚀时要进行小曲率的运动，纳米运动台21要进行大曲率的运动。扫描探针11机动灵活，纳米运动台21可以较快地将样品1000上的待刻蚀区域定位至扫描探针11的刻蚀范围之内，既可以保证刻蚀精度，也可以提高刻蚀效率。58.扫描探针11还可以对样品1000的刻蚀区域进行扫描，并获取扫描信息。微纳制备装置1还包括成像模块，扫描探针11与成像模块通讯连接，扫描探针11将扫描信息传递至成像模块，成像模块适于将扫描信息转化为可读取信息。也就是说，扫描探针11除可以实现对样品1000刻蚀外，还具有扫描功能，基于扫描信息，可以对刻蚀后的样品1000进行检测。59.刻蚀完后，纳米运动台21固定，可以实现样品1000原位检测，检测小范围内的刻蚀效果，如样品1000表面的样貌，还可以实现大范围样品1000原位检测，划分扫描场，纳米运动台21带动样品1000逐一移动至扫描探针的扫描范围内，通过拼接扫描大范围样品1000的形貌。扫描探针11将扫描的信息传输至成像模块，成像模块将扫描信息转化成适于直接观察的图片等，以便于直观获取刻蚀效果。60.纳米运动台21包括基于柔性板簧的柔性纳米运动台。具体地，基于柔性板簧的柔性纳米运动台包括基座、终端平台，柔性导向件、柔性解耦件以及驱动器等，柔性纳米运动台可以达到毫米级的大行程，纳米级的精度，刚度非线性度小，解耦误差小。在纳米运动台21的x向侧边和y向侧边分别设置x向辅助定位器40和y向辅助定位器50，可以进一步提高纳米运动台21的定位精度，从而提高刻蚀精度。61.扫描探针11的数量可以为多个。布置多个扫描探针11可以同时对一个或多个样品1000进行刻蚀，提高刻蚀效率。62.微纳制备装置1还包括视觉观测模块30，视觉观测模块30设置在扫描探针11背离样品1000的一侧。视觉观测模块30用于实时观测扫描探针11刻蚀的工作状态以及样品1000的状态。视觉观测模块30包括相机34、相机镜头31、相机立柱32和相机升降旋钮33等，相机镜头31置于扫描探针11的上方，以便于获取更好的观测效果，调整相机升降旋钮33，相机镜头31可以沿相机立柱32升降，以便于对焦、调整视野。63.本发明提供了一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行程序时实现上述中的微纳制备方法。64.本发明提供了一种非暂态计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现上述中的微纳制备方法。65.综上所述，本发明提供的微纳制备方法及装置，通过获取目标制备范围与预设制备范围的对比结果，并基于对比结果，调整第一运动模块10和第二运动模块20的运动状态以完成对样品1000制备。具体地，目标制备范围小于或等于预设制备范围的时候，可以保持第二运动模块20保持静止，第一运动模块10相对于第二运动模块20运动，第一运动模块10运动可以在样品1000上留下运动轨迹以对样品1000直接进行刻蚀，从而完成对样品1000的制备，或者，保持第一运动模块10静止，第二运动模块20承载样品1000相对于第一运动模块10运动，样品1000相对于第一运动模块10运动的轨迹被刻蚀在样品1000上，从而完成样品1000的制备；当目标制备范围大于预设制备范围的时候，可以保持第一运动模块10静止，第二运动模块20承载样品相对于第一运动模块10运动，第二运动模块20可以实现较大范围的运动，因而，进一步地，第二运动模块20上承载的样品1000相对于第一运动模块10运动的轨迹范围也较大，从而可以实现对样品1000的大范围刻蚀或者将不同规格范围的样品1000的分体拼装为一个整体，以实现对样品1000的大范围制备，或者，可以调整第一运动模块10和第二运动模块20同时运动，第一运动模块10运动可以产生一个范围相对较小的运动轨迹，第二运动模块20承载样品1000运动可以产生一个范围相对较大的运动轨迹，这两个运动轨迹可以同时被刻蚀在样品1000上以完成大范围样品1000的制备，也可以通过使第一运动模块10和第二运动模块20承载不同规格范围的样品1000的分体进行拼装，从而可以较快地完成对样品1000的大范围制备。因此，应用本发明提供的技术方案，可以实现大范围微纳制备，提高制备效率及制备精度。66.最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。