位姿图优化方法、装置、电子设备及可读存储介质与流程

本申请涉及扩展现实，更具体地，涉及一种位姿图优化方法、装置、电子设备及可读存储介质。

背景技术：

1、目前，同步定位与地图构建(simultaneous localization and mapping，slam)在扩展现实(extended reality，xr)技术领域中较为重要。然而，在同步定位与地图构建中，对相机的位姿估计会累计漂移误差。虽然，可以降低累计的漂移误差，然而，目前的方法，降低漂移误差的效果较差，且消耗资源较多。

技术实现思路

1、本申请提出了一种位姿图优化方法、装置、电子设备及可读存储介质。

2、第一方面，本申请实施例提供了一种位姿图优化方法，包括：获取待处理位姿图中的多个待处理节点；基于采样节点生成采样位姿图，所述采样节点包括目标指定参数对应的待处理节点，所述目标指定参数为满足第一预设条件的指定参数，所述指定参数包括节点角度变化参数以及节点距离变化参数中至少一个；对所述采样位姿图进行位姿图优化得到矫正位姿图，所述矫正位姿图包括多个矫正节点；基于所述矫正节点以及未采样节点生成待优化位姿图，所述未采样节点包括除所述采样节点之外的待处理节点；对所述待优化位姿图进行位姿图优化，得到目标位姿图。

3、第二方面，本申请实施例还提供了一种姿态图优化装置，包括：获取单元、采样单元、第一优化单元、生成单元以及第二优化单元。其中，获取单元，用于获取待处理位姿图中的多个待处理节点；采样单元，用于基于采样节点生成采样位姿图，所述采样节点包括目标指定参数对应的待处理节点，所述目标指定参数为满足第一预设条件的指定参数，所述指定参数包括节点角度变化参数以及节点距离变化参数中至少一个；第一优化单元，用于对所述采样位姿图进行位姿图优化得到矫正位姿图，所述矫正位姿图包括多个矫正节点；生成单元，用于基于所述矫正节点以及未采样节点生成待优化位姿图，所述未采样节点包括除所述采样节点之外的待处理节点；第二优化单元，用于对所述待优化位姿图进行位姿图优化，得到目标位姿图。

4、第三方面，本申请实施例还提供了一种电子设备，包括：一个或多个处理器；存储器；一个或多个应用程序，其中所述一个或多个应用程序被存储在所述存储器中并被配置为由所述一个或多个处理器执行，所述一个或多个程序配置用于执行第一方面所述的方法。

5、第四方面，本申请实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有程序代码，所述程序代码可被处理器调用执行上述第一方面所述的方法。

6、本申请提供的位姿图优化方法、装置、电子设备及可读存储介质，首先获取待处理位姿图中的多个待处理节点；然后基于采样节点生成采样位姿图；再对所述采样位姿图进行位姿图优化得到矫正位姿图；基于所述矫正节点以及未采样节点生成待优化位姿图；最后对所述待优化位姿图进行位姿图优化，得到目标位姿图。在同步定位与地图构建中，获取到的位姿图中的节点可能会累计漂移误差，从而造成获取到的节点准确度较低。而直接对该位姿图进行姿态图优化，不仅会耗费较多的资源，且降低漂移误差的效果也较差。而本申请中，待优化位姿图中包括有部分已经经过优化的矫正节点，后续在对所述待优化位姿图进行位姿图优化时相较于直接对待处理位姿图进行优化，可以具有较快的优化速度，从而可以提高对待处理节点进行优化的效率。并且，相较于直接对待处理位姿图进行优化，对代理处节点的漂移误差降低的效果更好。

7、本申请实施例的其他特征和优点将在随后的说明书阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本申请实施例而了解。本申请实施例的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

技术特征：

1.一种位姿图优化方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述矫正节点以及未采样节点生成待优化位姿图，包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述指定参数包括节点角度变化参数，所述基于采样节点生成采样位姿图，包括：

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述指定参数包括节点距离变化参数，所述基于采样节点生成采样位姿图，包括：

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述指定参数包括节点角度变化参数以及节点距离变化参数，所述基于采样节点生成采样位姿图，包括：

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取待处理位姿图中的多个待处理节点之前，还包括：

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述若满足，则基于多个初始节点生成所述待处理位姿图之前，还包括：

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述基于空间参数确定任意两个初始节点之间的第一匹配度，包括：

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述待优化位姿图进行位姿图优化，得到目标位姿图之后，还包括：

10.一种位姿图优化装置，其特征在于，包括：

11.一种电子设备，其特征在于，包括：一个或多个处理器；

12.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质中存储有程序代码，所述程序代码可被处理器调用执行如权利要求1-9任一项所述的方法。

技术总结本申请公开了一种位姿图优化方法、装置、电子设备及可读存储介质,包括：获取待处理位姿图中的多个待处理节点；基于采样节点生成采样位姿图，所述采样节点包括目标指定参数对应的待处理节点，所述目标指定参数为满足第一预设条件的指定参数，所述指定参数包括节点角度变化参数以及节点距离变化参数中至少一个；对所述采样位姿图进行位姿图优化得到矫正位姿图，所述矫正位姿图包括多个矫正节点；基于所述矫正节点以及未采样节点生成待优化位姿图，所述未采样节点包括除所述采样节点之外的待处理节点；对所述待优化位姿图进行位姿图优化，得到目标位姿图。本申请可以提高对待处理节点进行优化的效率，对代理处节点的漂移误差降低的效果更好。技术研发人员：林昀柔受保护的技术使用者：创峰科技技术研发日：技术公布日：2024/7/29