一种皮革用消光转移膜及其制备方法与流程
- 国知局
- 2024-08-02 13:28:08
本发明涉及皮革转移膜,尤其涉及一种皮革用消光转移膜及其制备方法。
背景技术:
1、随着时代的日益发展,早期单一款式的皮革制品已难以满足人们对皮革制品的个性化需求,因而富有多样性的皮革转移膜应运而生。将印有花纹图案的转移膜与皮革进行贴合,经过热压、冷却后,再揭开转移膜的底纸,革面上有转印墨处会将转印膜上有色料花纹的地方牢固地粘合在革面上,而革面上没有转印墨的地方,因为转印膜上的色料与革面未发生粘结作用,当转印膜被揭开离去的时候,与革面未发生粘合作用的色料就会随着转印膜被一起揭去,脱离了皮革的表面,这样就将转印膜上的色料转移到了皮革的表面。
2、近年来,人们越来越倾向于低光泽度的皮革制品,眼感柔和,具有良好的性价比。低光泽度的皮革制品是在原有的皮革制品进行消光处理,而消光转移膜不仅可以对皮革表面进行消光处理,还可以同时转印个性化图案,达到色彩丰富与低光泽度于一体的效果。但是,现有的消光转移膜消光效果不均匀、韧性差,影响了消光转移膜的应用。
技术实现思路
1、基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种皮革用消光转移膜及其制备方法。
2、本发明提出的一种皮革用消光转移膜,依次由上表层,芯层和下表层组成。
3、所述的上表层包括下列重量份原料:高密度聚乙烯40-70份,聚烯烃弹性体10-15份,改性氧化钼/二氧化硅复合材料2-5份,聚对苯二甲酸丁二醇酯2-10份,分散剂1-3份,抗氧剂0.1-1份。
4、优选地,所述的改性氧化钼/二氧化硅复合材料的制备方法为:
5、s1、将5-8质量份二氧化硅粉末、4-6质量份的四水合钼酸铵和60-80质量份的溶剂混合均匀后倒入聚四氟乙烯内衬的反应釜中,反应温度为180-200℃,反应时间20-24h,经冷却、洗涤、干燥后得到氧化钼/二氧化硅复合材料;
6、s2、将所述的氧化钼/二氧化硅复合材料与硅烷偶联剂、乙醇混合均匀,经冷却、干燥后得到改性氧化钼/二氧化硅复合材料。
7、更优选地,所述s1中,二氧化硅粉末的粒径为3-8μm。
8、更优选地,所述s1中,溶剂选自乙醇、乙二醇中的一种或多种。
9、更优选地,所述s2中,硅烷偶联剂选自γ-脲基丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种。
10、更优选地,所述s2中,氧化钼/二氧化硅复合材料:乙醇:硅烷偶联剂的质量比为1:(2-3):(0.5-1)。
11、优选地,所述的高密度聚乙烯的密度为0.940-0.955g/cm3,其在230℃、2.16kg下的熔融指数为0.2-0.4g/10min。
12、优选地,所述的聚烯烃弹性体的硬度为70-74shore d,其在230℃、2.16kg下的熔融指数为5-7g/10min。
13、优选地,所述的分散剂选自psi-500或sp-1013中的一种或多种。
14、优选地,所述的抗氧剂选自抗氧剂1010或抗氧剂168中的一种或多种。
15、优选地,所述的芯层包括下列重量份原料:聚丙烯49-51份,聚乙烯40-48份,抗静电剂1-6份,爽滑剂0.2-0.5份。
16、更优选地,所述的抗静电剂选自芥酸酰胺、乙氧基胺中的一种或多种。
17、更优选地,所述的爽滑剂为油酸酰胺。
18、优选地,所述的下表层包括下列重量份原料:聚丙烯48-65份,二氧化硅1-3份。
19、更优选地,所述的聚丙烯在230℃、2.16kg下的熔融指数为1.9-2.2g/10min。
20、本发明提出的一种皮革用消光转移膜的制备方法,包括以下步骤:
21、将上表层,芯层和下表层的原料用不同挤出机分开投料并塑化,塑化获得的熔体经过复合、纵拉、横拉处理得到皮革用消光转移膜。
22、优选地,所述的塑化温度为235-250℃。
23、优选地,所述的纵拉工艺温度为120-130℃。
24、优选地,所述的横拉工艺温度为150-170℃。
25、本发明的有益效果如下:
26、本发明通过对消光转移膜上表层的配方进行优化,引入氧化钼/二氧化硅复合材料作为无机消光粉,将具有花瓣状纳米结构的氧化钼与微米级二氧化硅进行复配,进一步提升表面粗糙程度,当光源照射消光转移膜表面发生漫反射,达到消光的效果;硅烷偶联剂一方面在氧化钼/二氧化硅复合材料表面引进氨基基团,提升氧化钼/二氧化硅复合材料分散性,使得消光转移膜应用到皮革制品上的消光均匀性得到有效改善,另一方面硅烷偶联剂在氧化钼/二氧化硅复合材料与高密度聚乙烯之间搭建“桥梁”,提高了氧化钼/二氧化硅复合材料与高密度聚乙烯的相容性,使得高密度聚乙烯与氧化钼/二氧化硅复合材料相结合形成多层网络结构,进一步提升消光转移膜的消光效果;本发明采用与高密度聚乙烯极性相近的聚烯烃弹性体与之相结合,二者之间具有良好的热力学相容性,其良好的流动性可改善改性氧化钼/二氧化硅复合材料的分散效果,另一方面高密度聚乙烯和聚烯烃弹性体协同作用,提升消光转移膜的整体韧性。本发明所制备的消光转移膜具有多层网络结构,微观表面呈凹凸结构,具有良好的消光效果,并且具有良好的韧性。
技术特征:1.一种皮革用消光转移膜依次由上表层,芯层和下表层组成,所述的上表层包括下列重量份原料:高密度聚乙烯40-70份,聚烯烃弹性体10-15份,改性氧化钼/二氧化硅复合材料2-5份,聚对苯二甲酸丁二醇酯2-10份,分散剂1-3份,抗氧剂0.1-1份。
2.根据权利要求1所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述的改性氧化钼/二氧化硅复合材料的制备方法为:
3.根据权利要求2所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述s1中,二氧化硅粉末的粒径为3-8μm;溶剂选自乙醇、乙二醇中的一种或多种。
4.根据权利要求2所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述s2中,硅烷偶联剂选自γ-脲基丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种;氧化钼/二氧化硅复合材料:乙醇:硅烷偶联剂的质量比为1:(2-3):(0.5-1)。
5.根据权利要求1所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述的高密度聚乙烯的密度为0.940-0.955g/cm3,其在230℃、2.16kg下的熔融指数为0.2-0.4g/10min;所述的聚烯烃弹性体的硬度为70-74shore d,其在230℃、2.16kg下的熔融指数为5-7g/10min。
6.根据权利要求1所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述的分散剂选自psi-500或sp-1013中的一种或多种;所述的抗氧剂选自抗氧剂1010或抗氧剂168中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述的芯层包括下列重量份原料:聚丙烯49-51份,聚乙烯40-48份,抗静电剂1-6份,爽滑剂0.2-0.5份。
8.根据权利要求1所述的一种皮革用消光转移膜,其特征在于,所述的下表层包括下列重量份原料:聚丙烯48-65份,二氧化硅1-3份。
9.根据权利要求1-8任一项所述的一种皮革用消光转移膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将上表层,芯层和下表层的原料用不同挤出机分开投料并塑化,塑化获得的熔体经过复合、纵拉、横拉处理得到皮革用消光转移膜。
10.根据权利要求9所述的一种皮革用消光转移膜的制备方法,其特征在于,所述的塑化温度为235-250℃;所述的纵拉工艺温度为120-130℃;所述的横拉工艺温度为150-170℃。
技术总结本发明公开了一种皮革用消光转移膜及其制备方法,涉及皮革转移膜技术领域。一种皮革用消光转移膜依次由上表层,芯层和下表层组成,所述的上表层包括下列重量份原料:高密度聚乙烯40‑70份,聚烯烃弹性体10‑15份,改性氧化钼/二氧化硅复合材料2‑5份,聚对苯二甲酸丁二醇酯2‑10份,分散剂1‑3份,抗氧剂0.1‑1份。本发明还公开了一种皮革用消光转移膜的制备方法。本发明所制备的消光转移膜具有多层网络结构,微观表面呈凹凸结构,具有良好的消光效果,并且具有良好的韧性。技术研发人员:王兆中,汪永,齐传俊,武立俊,陈普,雷菊香受保护的技术使用者:安徽金田高新材料股份有限公司技术研发日:技术公布日:2024/7/15本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240801/239800.html
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