压印光刻缺陷减轻方法和经掩模的压印光刻模具与流程

背景技术：

1、电子显示器是用于向各种设备和产品的用户传送信息的几乎无处不在的介质。最常见的电子显示器是阴极射线管(crt)、等离子体显示面板(pdp)、液晶显示器(lcd)、电致发光显示器(el)、有机发光二极管(oleds)和有源矩阵oled(amoled)显示器、电泳显示器(ep)和采用机电或电流体光调制的各种显示器(例如，数字微镜设备、电润湿显示器等)。许多这些现代显示器需要高精度制造来制造各种显示结构和元件。

2、压印光刻(包括压印光刻)是用于生产与现代电子显示器相关联的各种结构和元件的多种制造技术之一。特别地，压印光刻通常在提供具有非常高精度的亚微米或纳米级特征方面表现出色，并且易于适应大规模生产。例如，压印光刻可以用于通过将具有纳米级压印图案的晶片聚集在一起或拼接具有纳米级压印图案的晶片来产生具有纳米级特征的印模(stamp)或模具。模具母版可以用于压印光刻以将图案压印到接收衬底上。此外，各种大批量制造方法，包括但不限于卷对卷压印，可以与压印光刻和用于大规模生产的模具母版结合使用。然而，在大面积模具母版上提供亚微米或纳米级特征精度可能是有问题的。特别地，在实践中，如果纳米级特征延伸超出单个晶片或设备的边界，则可能妨碍在大面积模具母版上保持纳米级精度。

技术实现思路

技术特征：

1.一种压印光刻模具缺陷减轻的方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中沉积所述掩模层以选择性地覆盖缺陷包括：

3.根据权利要求2所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中施加所述光致抗蚀剂包括将所述光致抗蚀剂涂覆在所述压印光刻模具的所述表面上。

4.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中沉积所述掩模层以选择性地覆盖缺陷包括：

5.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中形成所述阴型压印光刻模具包括使用压印光刻将所述经掩模的压印光刻模具压制入衬底上的接收层中，在压制之后，所述衬底和接收层变成所形成的阴型压印光刻模具。

6.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，还包括使用压印光刻形成图案化的设备衬底，所述压印光刻采用所述阴型压印光刻模具来压印所述图案化的设备衬底的接收层。

7.根据权利要求6所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中所述接收层包括作为层沉积在所述图案化的设备衬底的玻璃衬底的表面上的紫外线可固化(uv可固化)杂化聚合物。

8.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，还包括使用所述阴型压印光刻模具形成阳型压印光刻模具以压印所述阳型压印光刻模具的接收层。

9.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中所述缺陷在所述压印光刻模具的纳米级特征之间。

10.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中所述掩模层还限定所述压印光刻模具的纳米级特征。

11.根据权利要求1所述的压印光刻模具缺陷减轻的方法，其中所述缺陷是相邻压印光刻母版衬底之间的边界处的缝合线的结果。

12.一种压印光刻中表面缺陷减轻的方法，所述方法包括：

13.根据权利要求12所述的压印光刻中的表面缺陷减轻的方法，还包括采用使用所述阴型压印光刻模具的压印光刻来形成图案化的设备衬底。

14.根据权利要求12所述的压印光刻中的表面缺陷减轻的方法，还包括：

15.根据权利要求12所述的压印光刻中的表面缺陷减轻的方法，其中所述图案化的掩模层包括图案化的光致抗蚀剂，选择性地覆盖所述表面缺陷包括：

16.根据权利要求12所述的压印光刻中的表面缺陷减轻的方法，其中，所述图案化的掩模层包括图案化的预成型膜，选择性地覆盖所述表面缺陷包括将所述图案化的掩模层与具有所述表面缺陷的所述压印光刻模具对准并将所述图案化的预成型膜施加到所述表面。

17.根据权利要求12所述的压印光刻中的表面缺陷减轻的方法，还包括：

18.一种经掩模的压印光刻模具，包括：

19.根据权利要求18所述的经掩模的压印光刻模具，其中，所述图案化的掩模层包括图案化的光致抗蚀剂和图案化的预成型膜中的一种，所述图案化的光致抗蚀剂和图案化的预成型膜设置在所述压印光刻模具的表面上。

20.根据权利要求18所述的经掩模的压印光刻模具，其中所述压印光刻模具包括一对压印光刻母版衬底，并且其中所述缺陷对应于所述一对压印光刻母版衬底之间的边界。

技术总结一种压印光刻模具缺陷减轻的方法和经掩模的压印光刻模具，其采用掩模层来选择性地覆盖表面缺陷。压印光刻模具缺陷减轻的方法包括在压印光刻模具的表面上沉积掩模层，以选择性地覆盖表面上的缺陷并形成经掩模的压印光刻模具。压印光刻模具缺陷减轻的方法还包括根据经掩模的压印光刻模具形成阴型压印光刻模具。经掩模的压印光刻模具包括压印光刻模具，所述压印光刻模具具有带缺陷的表面和附连到所述表面并被配置为选择性地覆盖缺陷的图案化的掩模层。选择性地覆盖缺陷的图案化的掩模层被配置为当经掩模的压印光刻模具用于压印光刻时减轻缺陷的影响。技术研发人员：K·曹,F·姆布加,Q·杨,S·沃受保护的技术使用者：镭亚股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/1