低反射率的UV固化膜、组件及设备的制作方法

本发明是关于光学膜技术，特别是关于一种低反射率的uv固化膜、组件及设备。

背景技术：

1、电子设备丰富了我们的生活，手机、平板、ipad、儿童手表等电子设备成为不可或缺的设备。然对于这些设备的使用过程中，我们往往会选择贴膜的方式保护屏幕防止划伤或摔伤等。手机贴膜行业应运而生，外屏保护膜成为手机行业竞相研发的产品之一。现有的各种钢化膜、防指纹膜、抗反射膜、防摔防爆膜等种类繁多，但功能性比较单一，一些硬度很低不耐刮，一些抗反射效果差，透过率低、长期使用有翘边等问题。

2、公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种低反射率的uv固化膜、组件及设备。

2、为实现上述目的，本发明的实施例提供了低反射率的uv固化膜，包括顺次设置的高温保护膜、pet2a膜、uvoca胶层、第一高透pet基材、硅胶层、离型膜，其中pet2a膜包括第二高透pet基材以及其两侧设置的第一硬化层和第二硬化层，且第二硬化层相较于第一硬化层更相邻于uvoca胶层。

3、在本发明的一个或多个实施方式中，pet2a膜的厚度20～100μm。优选厚度23μm。

4、在本发明的一个或多个实施方式中，uvoca胶层的涂层厚度为10～50μm。优选厚度20μm。

5、在本发明的一个或多个实施方式中，第一高透pet基材的厚度20～100μm。优选厚度23μm。

6、在本发明的一个或多个实施方式中，硅胶层的厚度为10～50μm。优选厚度15μm。

7、在本发明的一个或多个实施方式中，离型膜为氟素离型膜，离型力在1～8gf/in。

8、在本发明的一个或多个实施方式中，离型膜的厚度在50～100μm。优选厚度50μm。

9、在本发明的一个或多个实施方式中，第一硬化层表面还形成有ar层。优选的，第一功能镀层为用磁控溅射镀的ar(减反射增透)层。

10、在本发明的一个或多个实施方式中，ar层表面还形成有af层。

11、在本发明的一个或多个实施方式中，组件，包括用于实现显示功能的界面(如显示屏的玻璃等)以及设置于该界面的如前述的低反射率的uv固化膜。这里的组件可以为具有固化膜的玻璃或者显示屏等非整机结构。

12、在本发明的一个或多个实施方式中，设备，包括主体以及设置于主体上的如前述的组件。

13、与现有技术相比，根据本发明实施方式的低反射率的uv固化膜、组件及设备，通过优化设计膜层结构，从而实现了在反射率等方面显著优化。

技术特征：

1.一种低反射率的uv固化膜，包括顺次设置的高温保护膜、pet2a膜、uvoca胶层、第一高透pet基材、硅胶层、离型膜，其中所述pet2a膜包括第二高透pet基材以及其两侧设置的第一硬化层和第二硬化层，且所述第二硬化层相较于所述第一硬化层更相邻于所述uvoca胶层。

2.如权利要求1所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述pet2a膜的厚度20～100μm。

3.如权利要求1所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述uvoca胶层的涂层厚度为10～50μm。

4.如权利要求1所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述第一高透pet基材的厚度20～100μm。

5.如权利要求1所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述硅胶层的厚度为10～50μm。

6.如权利要求1所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述离型膜为氟素离型膜，离型力在1～8gf/in。

7.如权利要求6所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述离型膜的厚度在50～100μm。

8.如权利要求1所述的低反射率的uv固化膜，其特征在于，所述第一硬化层表面还形成有ar层。

9.组件，包括用于实现显示功能的界面以及设置于该界面的如权利要求1-8任一所述的低反射率的uv固化膜。

10.设备，包括主体以及设置于主体上的如权利要求9所述的组件。

技术总结本发明公开了低反射率的UV固化膜、组件及设备，其中UV固化膜，包括顺次设置的高温保护膜、PET2A膜、UVOCA胶层、第一高透PET基材、硅胶层、离型膜，其中所述PET2A膜包括第二高透PET基材以及其两侧设置的第一硬化层和第二硬化层，且第二硬化层相较于第一硬化层更相邻于所述UVOCA胶层。本发明通过优化设计膜层结构，从而实现了在反射率等方面显著优化。技术研发人员：余发成,陈超,王志坚,陈涛,冯燕佳受保护的技术使用者：浙江日久新材料科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/26