形成涂层的方法与流程

背景技术：

1、本发明大体上涉及形成基于氧化锰的涂层或层的方法。具体地，本发明涉及化学气相沉积（cvd）工艺，用于在玻璃基材上方形成基于氧化锰的涂层。

技术实现思路

1、以下描述用于形成氧化锰涂层的化学气相沉积工艺的实施方案。在一实施方案中，用于形成氧化锰涂层的化学气相沉积工艺包括提供移动的玻璃基材。气态混合物包含含锰化合物和含有氧的分子。一种或多种含锰化合物选自以下：双(环戊二烯基)锰(ii)，双(乙基环戊二烯基)锰(ii)，(甲基环戊二烯基)三羰基锰(i)，及其衍生物，而一种或多种含氧前体选自以下：有机含氧化合物和分子氧。朝向并沿着玻璃基材引导气态混合物。气态混合物在玻璃基材上方反应以在玻璃基材上方形成氧化锰涂层。

2、在一些实施方案中，玻璃基材是浮法玻璃制造工艺中的玻璃带。

3、在其他实施方案中，在处于基本大气压力下的玻璃基材的沉积表面上形成氧化锰涂层。

4、在一些实施方案中，提供涂覆设备，并在玻璃基材上方形成氧化锰涂层之前通过该涂覆设备供入气态混合物。

5、当气态混合物反应形成氧化锰涂层时，可在处于基本大气压力下的玻璃基材的沉积表面上形成氧化锰涂层。

6、在一些实施方案中，氧化锰涂层在玻璃基材上方形成连续层。在其他实施方案中，氧化锰涂层在玻璃基材上方形成不连续层，其中氧化锰覆盖玻璃基材上方一些区域并且没有覆盖其他区域。

7、可优选沉积氧化锰涂层，使得其具有0.10 μg/cm2以下的锰表面浓度。

8、可存在实施方案，其中在玻璃基材上预先形成的涂层上方形成氧化锰涂层。因此，在一些实施方案中，在玻璃基材上方预先形成的基于氧化硅的涂层上方形成氧化锰涂层。在其他实施方案中，在玻璃基材上方预先形成的基于氧化锡的涂层上方形成氧化锰涂层。基于氧化锡的涂层可为未掺杂的或例如掺杂有氟。

9、在一些实施方案中，当在其上形成氧化锰涂层并且氧化锰涂层是热解的时，玻璃基材在1100°f（593℃）和1400°f（760℃）之间的温度下。

10、在一实施方案中，气态混合物中包括有机含氧化合物，并且有机含氧化合物包含一种或多种羰基化合物。在具体的实施方案中，有机含氧化合物是酯，还可以是具有带β-氢的烷基基团的酯。有机含氧化合物可为乙酸乙酯、甲酸乙酯、丙酸乙酯、甲酸异丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯和乙酸叔丁酯中的一种或多种。在尤其优选的实施方案中，有机含氧化合物是乙酸乙酯。

11、在一些实施方案中，气态混合物包含分子氧。

12、在一些实施方案中，气态混合物包含(甲基环戊二烯基)三羰基锰(i)或其衍生物或两者。在优选实施方案中，气态混合物包含(甲基环戊二烯基)三羰基锰(i)。

13、在特别优选的实施方案中，气态混合物包含(甲基环戊二烯基)三羰基锰(i)和有机含氧化合物包含乙酸乙酯。

技术特征：

1.用于在玻璃基材上方形成氧化锰涂层的化学气相沉积工艺，包括：

2.根据权利要求1中所述的化学气相沉积工艺，其中玻璃基材是浮法玻璃制造工艺中的玻璃带。

3.根据权利要求1或权利要求2中所述的化学气相沉积工艺，还包括提供涂覆设备，并在玻璃基材上方形成氧化锰涂层之前通过该涂覆设备供入气态混合物。

4.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中当气态混合物反应形成氧化锰涂层时，在处于基本大气压力下的玻璃基材的沉积表面上形成氧化锰涂层。

5.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中氧化锰涂层在玻璃基材上方形成连续涂覆层。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的化学气相沉积工艺，其中氧化锰涂层在玻璃基材上方形成非连续涂覆层。

7.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中氧化锰涂层具有0.10 μg/cm2以下的锰表面浓度。

8.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中在玻璃基材上预先形成的涂层上方形成氧化锰涂层。

9.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中在玻璃基材上方预先形成的基于氧化硅的涂层上方形成氧化锰涂层。

10.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中在玻璃基材上方预先形成的基于氧化锡的涂层上方形成氧化锰涂层。

11.根据权利要求10中所述的化学气相沉积工艺，其中基于氧化锡的涂层掺杂有氟。

12.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中在其上形成氧化锰涂层时，玻璃基材在1100°f（593℃）和1400°f（760℃）之间的温度下。

13.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中氧化锰涂层是热解的。

14.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中气态混合物中包括有机含氧化合物，并且有机含氧化合物包含一种或多种羰基化合物。

15.根据权利要求14中所述的化学气相沉积工艺，其中有机含氧化合物是酯。

16.根据权利要求15中所述的化学气相沉积工艺，其中有机含氧化合物是具有带β-氢的烷基基团的酯。

17.根据权利要求14或权利要求15中所述的化学气相沉积工艺，其中有机含氧化合物是乙酸乙酯、甲酸乙酯、丙酸乙酯、甲酸异丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯和乙酸叔丁酯中的一种或多种。

18.根据权利要求14、15和17中任一项所述的化学气相沉积工艺，其中有机含氧化合物是乙酸乙酯。

19.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中气态混合物包含分子氧。

20.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中气态混合物包含(甲基环戊二烯基)三羰基锰(i)或其衍生物或者两者。

21.根据任何前述权利要求中所述的化学气相沉积工艺，其中气态混合物包含(甲基环戊二烯基)三羰基锰(i)。

技术总结提供了化学气相沉积工艺用于在玻璃基材上方形成基于氧化锰的层。气态混合物形成并包括一种或多种选自以下的含锰化合物：双(环戊二烯基)锰(II)，双(乙基环戊二烯基)锰(II)，(甲基环戊二烯基)三羰基锰(I)，及其衍生物，和一种或多种选自以下的含氧前体：有机含氧化合物和分子氧。朝向并沿着玻璃基材引导气态混合物，并在玻璃基材上方反应以在其上形成氧化锰涂层。技术研发人员：P·M·哈里斯,J·倪,D·雷兹贝克,S·瓦拉纳西受保护的技术使用者：皮尔金顿集团有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/26