一种试样表面处理装置

本发明涉及种植基台表面处理的，尤其涉及一种试样表面处理装置。

背景技术：

1、种植修复因其具有长期稳定的成功率，已成为修复缺失牙齿的首选治疗方法。种植体基台与周围软组织的良好结合是影响种植体成功率的重要因素之一，其形成的“袖口”样结构可将种植体周围骨质与口腔环境隔离开，从而预防种植体周围炎症的发生。因此，种植基台周围的软组织附着质量已成为国内外学者研究的热点。

2、通过大量的临床随机对照研究发现，种植体周围炎症与基台材料有关。此外基台表面性状也决定着其是否具有良好的生物相容性。基台表面性状包括表面化学成分、表面形貌、粗糙度、亲水性等。亲水性表面和清洁表面利于软组织附着。

3、为了优化种植基台的软组织附着能力，有许多基台表面的处理方式被研究，近年来，紫外线的光功能化作用作为新型种植基台的表面改性方式而备受关注。

4、如专利号为201920861521.4的中国实用新型专利中所公开的医用金属的表面处理装置，该装置中准分子灯可在真空压力状态的上述容器内部照射波长为100～200nm的短波紫外线(uv-c)范围的远紫外线，尤其是真空紫外线。这种真空紫外线在真空压力状态下被大量释放，光量丰富，且具有短波长的高能量，医用金属的表面可在短时间内快速改性。该装置中需要配备保持其真空环境的设备，会造成装置的制作成本高、体积庞大，且使用不够便捷。

技术实现思路

1、为此，需要提供一种试样表面处理装置，来解决医用金属改性装置使用不便的问题。

2、为实现上述目的，发明人提供了一种试样表面处理装置，包括：

3、箱体，其为中空的壳状结构，且侧面开设有放料盘开口，

4、放料盘组件，其可抽拉地适配于所述放料盘开口，所述放料盘组件包括抽拉件以及放料盘，所述抽拉件的底部镂空，所述放料盘适配于所述抽拉件内，所述放料盘的上表面设有放料区，所述放料区用于放置待处理试样；

5、紫外线准分子灯，其横向固定于所述箱体内，并位于所述放料区的上方；

6、可调支架，其活动连接于所述箱体，且上端抵设于所述放料盘的下表面，用于顶推所述放料盘脱离抽拉件并靠近所述紫外线准分子灯。

7、进一步地，所述放料区为长条状结构，且其延伸方向与所述紫外线准分子灯的长度延伸方向相同。

8、进一步地，沿第一方向在同一平面上正投影，所述放料区的正投影落于所述紫外线准分子灯的灯体的正投影范围内。

9、进一步地，所述放料区的中部的宽度较两端的宽度更宽。

10、进一步地，所述放料区为放料盘的上表面上设置的凹槽结构。

11、进一步地，所述箱体的底板上开设有螺纹孔，所述可调支架包括调节螺杆以及顶推板，所述调节螺杆与所述螺纹孔适配，所述调节螺杆的旋钮端位于所述箱体外，所述调节螺杆的顶推端自箱体外经螺纹孔向箱体内延伸并与所述顶推板连接，所述顶推板顶推所述放料盘。

12、进一步地，所述紫外线准分子灯的个数为多个，所述紫外线准分子灯并列设置于所述放料盘组件的上方；

13、所述放料区的个数与所述紫外线准分子灯的个数对应，且放料区位于所述紫外线准分子灯的正下方。

14、进一步地，所述待处理试样的上表面与紫外线准分子灯之间的间距小于2mm。

15、进一步地，所述紫外线准分子灯的灯体为扁平状结构。

16、进一步地，还包括距离传感器，所述距离传感器设置于箱体内或设置于放料盘上，所述距离传感器用于检测放料盘内放入的待处理试样与紫外线准分子灯之间的距离。

17、区别于现有技术，上述技术方案具有如下优点：该试样表面处理装置通过可调支架将放料盘内的待处理试样靠近紫外线准分子灯，通过缩小待处理试样与紫外线准分子灯之间的距离来提高改性效率，通过控制可调支架对放料盘的顶推高度，以适应不同厚度的试样，或者是通过调节待处理试样与紫外线准分子灯之间的距离，获得多组对照实验数据。该试样表面处理装置结构简单、使用便捷，且无需额外配置抽真空设备即可达到较高的改性效率。

技术特征：

1.一种试样表面处理装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述放料区为长条状结构，且其延伸方向与所述紫外线准分子灯的长度延伸方向相同。

3.根据权利要求1或2所述的试样表面处理装置，其特征在于：沿第一方向在同一平面上正投影，所述放料区的正投影落于所述紫外线准分子灯的灯体的正投影范围内。

4.根据权利要求3所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述放料区的中部的宽度较两端的宽度更宽。

5.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述放料区为放料盘的上表面上设置的凹槽结构。

6.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述箱体的底板上开设有螺纹孔，所述可调支架包括调节螺杆以及顶推板，所述调节螺杆与所述螺纹孔适配，所述调节螺杆的旋钮端位于所述箱体外，所述调节螺杆的顶推端自箱体外经螺纹孔向箱体内延伸并与所述顶推板连接，所述顶推板顶推所述放料盘的下表面。

7.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述紫外线准分子灯的个数为多个，所述紫外线准分子灯并列设置于所述放料盘组件的上方；

8.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述待处理试样的上表面与紫外线准分子灯之间的间距小于2mm。

9.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：所述紫外线准分子灯的灯体为扁平状结构。

10.根据权利要求1所述的试样表面处理装置，其特征在于：还包括距离传感器，所述距离传感器设置于箱体内或设置于放料盘上，所述距离传感器用于检测放料盘内放入的待处理试样与紫外线准分子灯之间的距离。

技术总结本发明涉及了一种试样表面处理装置，包括：箱体，其为中空的壳状结构，且侧面开设有放料盘开口，放料盘组件，其可抽拉地适配于所述放料盘开口，所述放料盘组件包括抽拉件以及放料盘，所述抽拉件的底部镂空，所述放料盘适配于所述抽拉件内，所述放料盘的上表面设有放料区，所述放料区用于放置待处理试样；紫外线准分子灯，其横向固定于所述箱体内，并位于所述放料区的上方；可调支架，其活动连接于所述箱体，且上端抵设于所述放料盘的下表面，用于顶推所述放料盘脱离抽拉件并靠近所述紫外线准分子灯。该试样表面处理装置结构简单、使用便捷，且无需额外配置抽真空设备即可达到较高的改性效率。技术研发人员：潘宇,王颖卉,程翊泠,程辉,夏金飞,高琳娟,林柳君受保护的技术使用者：福建医科大学附属口腔医院技术研发日：技术公布日：2024/11/18