技术特征:
1.一种铼
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钨复合坩埚,其特征在于,包括基体钨坩埚以及铼层,所述铼层位于所述基体钨坩埚的内表面。2.根据权利要求1所述的铼
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钨复合坩埚,其特征在于,所述铼层与基体钨坩埚的厚度比为1:1~1:10。3.根据权利要求1或2所述的铼
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钨复合坩埚,其特征在于,所述铼层与基体钨坩埚的厚度比为1:2~1:6。4.权利要求1~3任一项所述的铼
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钨复合坩埚的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将钨坩埚依次进行酸洗、超声清洗和干燥,得到待沉积铼层的钨坩埚基体;将所述待沉积铼层的钨坩埚基体预热,得到预热基体;在真空条件下,将铼与氯气发生氯化反应,得到recl5气体;将所述recl5气体输送至所述预热基体的表面进行化学气相沉积,得到所述铼
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钨复合坩埚。5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述真空条件的真空度不低于1.0pa。6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述预热的温度为1100~1300℃。7.根据权利要求4或6所述的制备方法,其特征在于,所述预热的温度为1150~1250℃。8.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积的压力为800~1200pa。9.根据权利要求4或8所述的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积的压力为1000pa。10.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述氯化反应的温度为600~900℃。
技术总结
本发明提供了一种铼
技术研发人员:胡昌义 魏燕 蔡宏中 胡晋铨 王献 郭俊梅 张诩翔 周利民 陈力 闻名 张贵学 汪星强 李艳琼
受保护的技术使用者:贵研铂业股份有限公司
技术研发日:2021.07.08
技术公布日:2021/10/18
再多了解一些
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。