一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法与流程

技术特征：
1.一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，包括以下步骤：a)将铁电高分子溶于有机溶剂中，配置成铁电高分子溶液；b)将铁电高分子溶液在衬底上均匀旋涂；c)旋涂后的样品结晶得旋涂铁电高分子薄膜；d)在旋涂铁电高分子薄膜的衬底上进行电子束曝光，显影后形成纳米结构。2.根据权利要求1所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，步骤a)所述铁电高分子溶液的浓度为20
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30mg/ml。3.根据权利要求1所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，步骤b)所述旋涂的操作条件为：匀胶转速2000～3000rpm，旋涂时间40～60s。4.根据权利要求1或2或3所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，步骤c)所述结晶为等温结晶，结晶条件为100～130℃，1～5h。5.根据权利要求1所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，步骤d)所述电子束曝光的操作条件为：曝光电压10～50kv，光栅尺寸20～30μm。6.根据权利要求1或5所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，步骤d)所述电子束曝光模式为面模式或点模式。7.根据权利要求6所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，面模式电子束曝光的剂量为15～24μc/cm2。8.根据权利要求6所述的一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，其特征在于，点模式电子束曝光的剂量为1～10fc/dot。

技术总结
本发明涉及有机材料的微纳功能化制备领域，针对铁电高分子纳米结构图案化后分辨率低的问题，提供一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法，包括以下步骤：a)将铁电高分子溶于有机溶剂中，配置成铁电高分子溶液；b)将铁电高分子溶液在硅片衬底均匀旋涂；c)旋涂后的样品结晶得旋涂铁电高分子薄膜；d)在旋涂铁电高分子薄膜的衬底上进行电子束曝光，显影后形成纳米结构。电子束曝光的精度可以达到纳米量级，电子束辐照引起铁电高分子的聚集态结构的改变，可以被显影，显影后被辐照的区域不被溶解，纳米区域得到保留，形成高分辨率的人工设计图案化效果。计图案化效果。


技术研发人员：方回归 张雪峰 张鉴 陈迎鑫
受保护的技术使用者：杭州电子科技大学
技术研发日：2021.06.11
技术公布日：2021/10/29