等离子体处理装置的制作方法

技术特征：
1.一种等离子体处理装置，其具备：多个等离子体处理室，各等离子体处理室的内部具有供被处理体载置的载置台；动叶片和静叶片，该动叶片和静叶片配置于所述多个等离子体处理室中的各等离子体处理室的所述载置台的周围；控制部，其控制所述动叶片的旋转速度；以及排气空间，其配置于所述多个等离子体处理室的下方，与所述多个等离子体处理室中的各等离子体处理室连接。2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述多个等离子体处理室中的各等离子体处理室的所述动叶片被独立地进行旋转控制。3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，构成所述动叶片的多个叶片和构成所述静叶片的多个叶片各自倾斜，且相互交替地配置。4.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，构成所述动叶片的多个叶片和构成所述静叶片的多个叶片各自倾斜，且相互交替地配置。5.根据权利要求1～4中的任一项所述的等离子体处理装置，其中，在所述排气空间配置有排气部。6.根据权利要求1～4中的任一项所述的等离子体处理装置，其中，在所述多个等离子体处理室中的至少一个等离子体处理室的内部设置有将所述排气空间与等离子体处理空间分隔的至少一个挡板。7.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，在所述多个等离子体处理室中的至少一个等离子体处理室的内部设置有将所述排气空间与等离子体处理空间分隔的至少一个挡板。8.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，所述至少一个挡板沿上下方向移动或者旋转。9.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，所述至少一个挡板沿上下方向移动或者旋转。10.一种等离子体处理装置，其具备：第1等离子体处理室；第2等离子体处理室，其与所述第1等离子体处理室相邻；第1载置台，其配置于所述第1等离子体处理室内，供被处理体载置；第2载置台，其配置于所述第2等离子体处理室内，供被处理体载置；第1可动构件和第1静止构件，该第1可动构件和第1静止构件配置于所述第1载置台的周围，所述第1可动构件具有多个第1动叶片，所述第1静止构件具有多个第1静叶片，所述多个第1动叶片和所述多个第1静叶片沿纵方向交替排列，在所述第1可动构件和第1静止构件的下方形成第1排气空间；第2可动构件和第2静止构件，该第2可动构件和第2静止构件配置于所述第2载置台的周围，所述第2可动构件具有多个第2动叶片，所述第2静止构件具有多个第2静叶片，所述多
个第2动叶片和所述多个第2静叶片沿纵方向交替排列，在所述第2可动构件和第2静止构件的下方形成第2排气空间；至少一个驱动部，其构成为同时或单独地使所述第1可动构件和所述第2可动构件旋转；控制部，其控制所述至少一个驱动部；以及共用的真空泵，其与所述第1排气空间和所述第2排气空间连通。11.根据权利要求10所述的等离子体处理装置，其中，在所述第1等离子体处理室和所述第2等离子体处理室中的至少一个等离子体处理室的内部设置有将所述排气空间与等离子体处理空间分隔的至少一个挡板。12.根据权利要求11所述的等离子体处理装置，其中，所述至少一个挡板沿上下方向移动或者旋转。

技术总结
本发明提供一种等离子体处理装置。目的在于减少处理室的压力的偏差。提供一种排气装置，该排气装置具有：排气机构，其具有第1叶片构件和第2叶片构件，该第1叶片构件和该第2叶片构件在处理容器的排气空间中同轴地配置于比被处理体靠外周侧的位置，且至少一者能够旋转，该处理容器在真空气氛的处理空间中对被处理体实施处理；以及排气部，其与所述排气空间连通，在所述排气机构的下游侧进行所述处理容器内的排气。器内的排气。器内的排气。


技术研发人员：永关一也 茂山和基 松田俊也 古谷直一 大下辰郎
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2018.12.03
技术公布日：2021/11/2