感光性转印膜、抗静电图案的制造方法、感光性转印膜的制造方法、层叠体、触控面板、触控面板的制造方法及带触控面板的显示装置与流程

1.本发明涉及一种感光性转印膜、抗静电图案的制造方法、感光性转印膜的制造方法、层叠体、触控面板、触控面板的制造方法及带触控面板的显示装置。


背景技术：

2.在光刻法中，研究了各种抗静电技术。
3.在日本特开2016
‑
118727号公报中公开了一种干膜抗蚀剂用保护膜及感光性树脂层叠体，上述干膜抗蚀剂用保护膜的特征在于，在聚酯薄膜的一个表面上具有由含有含长链烷基的化合物及抗静电剂、丙烯酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，上述涂布层表面的最大突起高度(rt)为0.1～1.0μm，上述感光性树脂层叠体的特征在于，具有在形成于基膜上的感光性树脂层表面层叠有上述保护膜的结构。
4.在日本特开2016
‑
080964号公报中公开了一种抗蚀剂图案的形成方法，上述抗蚀剂图案的形成方法包括在一个表面上具有由负型化学放大型抗蚀剂构成的抗蚀剂(resist)层的基板的上述抗蚀剂层的表面涂布导电性组合物而形成抗静电膜的层叠工序等，负型抗蚀剂减膜率为0％以上且12％以下。
5.在日本特开2005
‑
321716号公报中公开了一种层叠具有抗静电性或导电性的感光性树脂层(1)和具有绝缘性的感光性树脂层(2)而成的干膜。


技术实现要素：

6.发明要解决的技术课题
7.在使用干膜(也称为感光性转印膜。)形成的抗蚀剂图案中，除了显影工序中的作为掩模的作用以外，例如还用作电极保护膜。因此，要求防止上述抗蚀剂图案的带电。在防止如上述抗蚀剂图案的具有规定形状的部件的带电的情况下，若在不需要抗静电的区域形成抗静电层，则有可能例如电流通过抗静电层而流过，由此无法获得所期望的电特性。并且，在使用干膜形成的抗蚀剂图案中，还要求透明性及耐弯曲性。
8.然而，例如，在日本特开2016
‑
118727号公报中记载的感光性树脂层叠体中，由于保护膜中含有抗静电剂，因此对需要抗静电的区域无法选择性地形成抗静电层。并且，在日本特开2016
‑
080964号公报及日本特开2005
‑
321716号公报中记载的现有技术中，在需要抗静电的规定区域形成抗静电层，而且，形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜的方面而言，也有改善的余地。
9.本发明的一方式的目的为提供一种能够对抗静电层进行图案化，并且能够形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜的感光性转印膜。
10.本发明的另一方式的目的为提供一种抗静电层的图案化性优异，并且透明性及耐弯曲性优异的抗静电图案的制造方法。
11.本发明的另一方式的目的为提供一种能够对抗静电层进行图案化，并且能够形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜的感光性转印膜的制造方法。
12.本发明的另一方式的目的为提供一种能够防止图案状的电极保护膜带电的层叠体。
13.本发明的另一方式的目的为提供一种具有能够防止图案状的电极保护膜带电的层叠体的触控面板。
14.本发明的另一方式的目的为提供一种能够防止图案状的电极保护膜带电，并且能够抑制引绕布线的变色的触控面板的制造方法。
15.本发明的另一方式的目的为提供一种具有能够防止图案状的电极保护膜带电的层叠体的带触控面板的显示装置。
16.用于解决技术课题的手段
17.用于解决上述课题的方法包括以下方式。
18.＜1＞一种感光性转印膜，其具有：厚度为10μm以下的感光性层；及抗静电层，上述感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。
19.＜2＞如＜1＞所述的感光性转印膜，其依次具有透明膜1、上述感光性层、上述抗静电层及透明膜2。
20.＜3＞如＜1＞或＜2＞所述的感光性转印膜，其中，上述抗静电层的表面电阻值为1.0
×
10
12
ω/
□
以下。
21.＜4＞如＜1＞至＜3＞中任一项所述的感光性转印膜，其中，上述碱溶性丙烯酸系树脂的酸值为60mgkoh/g以上。
22.＜5＞如＜1＞至＜4＞中任一项所述的感光性转印膜，其中，上述抗静电层的厚度为0.4μm以下。
23.＜6＞如＜1＞至＜5＞中任一项所述的感光性转印膜，其中，上述抗静电层含有选自由离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及电子传导聚合物组成的组中的至少一种化合物作为抗静电剂。
24.＜7＞如＜1＞至＜6＞中任一项所述的感光性转印膜，其中，在从上述感光性层的与上述抗静电层相反的一侧的表面至上述感光性层及上述抗静电层的总厚度的40％为止的区域中，未检测出抗静电剂。
25.＜8＞一种抗静电图案的制造方法，其依次包括：在基材上依次层叠＜1＞至＜7＞中任一项所述的感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层的工序；对上述感光性层进行图案曝光的工序；及对上述感光性层进行显影的工序。
26.＜9＞一种感光性转印膜的制造方法，其为＜2＞所述的感光性转印膜的制造方法，其包括在上述透明膜2上依次涂布抗静电层用组合物及感光性层用组合物的工序。
27.＜10＞一种层叠体，其依次具有：基材；透明电极层；具有图案形状的感光性组合物的固化物层；及具有与上述固化物层的上述图案形状相同的图案形状的抗静电层。
28.＜11＞如＜10＞所述的层叠体，其中，上述抗静电层的表面电阻值为1.0
×
10
12
ω/
□
以下。
29.＜12＞如＜10＞或＜11＞所述的层叠体，其中，上述抗静电层的厚度为0.4μm以
下。
30.＜13＞如＜10＞至＜12＞中任一项所述的层叠体，其中，上述抗静电层含有选自由离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及电子传导聚合物组成的组中的至少一种化合物作为抗静电剂。
31.＜14＞如＜10＞至＜13＞中任一项所述的层叠体，其中，上述固化物层的厚度为10μm以下。
32.＜15＞如＜10＞至＜14＞中任一项所述的层叠体，其中，在从上述固化物层的与上述抗静电层相反的一侧的表面至上述固化物层及上述抗静电层的总厚度的40％为止的区域中，未检测出抗静电剂。
33.＜16＞如＜10＞至＜15＞中任一项所述的层叠体，其中，上述透明电极层是含有银纳米线的层。
34.＜17＞一种触控面板，其具备＜10＞至＜16＞中任一项所述的层叠体。
35.＜18＞一种触控面板的制造方法，其依次包括：准备基材的工序；使用银导电性材料，在上述基材上形成触控面板用透明电极的工序；在上述触控面板用透明电极上形成金属层的工序；使用含有选自由咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物组成的组中的至少一种唑化合物的处理液对上述金属层进行处理的工序；从上述金属层形成引绕布线的工序；在上述基材的配置有上述引绕布线及上述触控面板用透明电极的面侧依次层叠＜1＞至＜7＞中任一项所述的感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层的工序；对上述感光性层和上述抗静电层进行图案曝光的工序；及对上述感光性层和上述抗静电层进行显影而形成图案的工序。
36.＜19＞一种触控面板的制造方法，其依次包括：准备基材的工序；在上述基材上形成金属层的工序；使用含有选自由咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物组成的组中的至少一种唑化合物的处理液对上述金属层进行处理的工序；从上述金属层形成引绕布线的工序；使用银导电性材料，在上述引绕布线上形成触控面板用透明电极的工序；在上述基材的配置有上述引绕布线及上述触控面板用透明电极的面侧依次层叠＜1＞至＜7＞中任一项所述的感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层的工序；对上述感光性层和上述抗静电层进行图案曝光的工序；及对上述感光性层和上述抗静电层进行显影而形成图案的工序。
37.＜20＞如＜18＞或＜19＞所述的触控面板的制造方法，其中，选自由上述咪唑化合物、上述三唑化合物、上述四唑化合物、上述噻唑化合物及上述噻二唑化合物组成的组中的至少一种上述唑化合物的共轭酸的pka为4.00以下。
38.＜21＞一种带触控面板的显示装置，其具备＜17＞所述的触控面板和显示装置。
39.发明效果
40.根据本发明的一方式，提供一种能够对抗静电层进行图案化，并且能够形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜的感光性转印膜。
41.根据本发明的另一方式，提供一种抗静电层的图案化性优异，并且透明性及耐弯曲性优异的抗静电图案的制造方法。
42.根据本发明的另一方式，提供一种能够对抗静电层进行图案化，并且能够形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜的感光性转印膜的制造方法。
43.根据本发明的另一方式，提供一种能够防止图案状的电极保护膜带电的层叠体。
44.根据本发明的另一方式，提供一种具有能够防止图案状的电极保护膜带电的层叠体的触控面板。
45.根据本发明的另一方式，提供一种能够防止图案状的电极保护膜带电，并且，能够抑制引绕布线的变色的触控面板的制造方法。
46.根据本发明的另一方式，提供一种具有能够防止图案状的电极保护膜带电的层叠体的带触控面板的显示装置。
附图说明
47.图1是示出本发明的转印膜的一例的概略剖视图。
48.图2是示出本发明的触控面板的第1具体例的概略剖视图。
49.图3是示出本发明的触控面板的第2具体例的概略剖视图。
50.图4是示出耐弯曲性的评价中的耐弯曲性评价用试样的状态的一例的截面示意图。
具体实施方式
51.以下，对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明有时是基于本发明的代表性实施方式而进行，但本发明并不限定于这些实施方式。
52.在本发明中，使用“～”表示的数值范围是指将“～”前后所记载的数值分别作为最小值及最大值而包含的范围。
53.在本发明中阶段性记载的数值范围内,以某一数值范围记载的上限值或下限值可以被替换成其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本发明中记载的数值范围内,以某一数值范围记载的上限值或下限值也可以被替换成实施例所示的值。
54.在本发明中，两个以上的优选方式的组合为更优选的方式。
55.关于本发明中的基团(所谓的原子团)的标记，未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团及具有取代基的基团这两者。例如，“烷基”是指，不仅包含不具有取代基的烷基(所谓的未经取代烷基)，还包含具有取代基的烷基(所谓的经取代烷基)。
56.在本发明中，“(甲基)丙烯酸”是包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酸酯”是包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”是包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念，“(甲基)丙烯酰氧基”是包含丙烯酰氧基及甲基丙烯酰氧基这两者的概念。
57.在本发明中，“总固体成分量”是指从组合物的所有组合中去除溶剂的成分的总质量。并且，如上所述，“固体成分”是指去除溶剂的成分，例如，在25℃下可以是固体，也可以是液体。
58.在本发明中，在组合物中存在多个相当于各成分的物质的情况下，只要没有特别说明，组合物中的各成分的量是指组合物中存在的上述多个物质的总量。
59.在本发明中，“工序”这一用语不仅包含独立的工序，即使在无法与其他工序明确区别的情况下，只要实现该工序的预期目的，则也包含于本用语中。
60.在本发明中，只要没有特别说明，存在分子量分布时的分子量表示重均分子量
(mw)。
61.只要没有特别说明，本发明中的重均分子量(mw)是通过作为柱使用tskgel(注册商标)gmhxl、tskgel(注册商标)g4000hxl及tskgel(注册商标)g2000hxl(均为商品名、tosoh corporation制造)的凝胶渗透色谱法(gpc)分析装置，使用thf(四氢呋喃)作为洗提液，通过示差折射率(ri)检测器进行检测，作为标准物质使用聚苯乙烯来换算的分子量。
62.在本发明中，只要没有特别说明，聚合物中的各构成单元的比例表示摩尔比例。
63.在本发明中，“光”是包含γ射线、β射线、电子束、紫外线、可见光线、红外线等活性能量射线的概念。
64.在本发明中，“透明”是指在温度23℃下的波长380nm～780nm下的总透光率为85％以上(优选为90％以上，更优选为95％以上)。上述总透光率使用分光光度计〔例如，hitachi,ltd.的分光光度计“u
‑
3310(商品名)”〕来进行测定。
65.只要没有特别说明，本发明中的“折射率”是指在温度23℃下利用波长550nm的可见光，通过椭圆偏光法进行测定的值。
66.在本发明中，在“透明膜”这一用语的末尾附注的数字是用于防止构成要素的混淆的符号，并不限制构成要素的数量及构成要素的优劣。
67.＜感光性转印膜＞
68.本发明的感光性转印膜具有：厚度为10μm以下的感光性层；及抗静电层，上述感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。
69.本发明的感光性转印膜通过具备上述结构，能够对抗静电层进行图案化，并且能够形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜。本发明的感光性转印膜发挥上述效果的理由尚不明确，但推测如下。
70.认为在本发明的感光性转印膜中，通过具有厚度为10μm以下的感光性层和抗静电层，上述感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物及光聚合引发剂，能够与感光性层一起对抗静电层进行图案化，而且，能够提高通过曝光固化的感光性层的透明性及耐弯曲性。因此，本发明的感光性转印膜能够对抗静电层进行图案化，并且能够形成透明性及耐弯曲性优异的固化膜。
71.并且，根据本发明的感光性转印膜，由于能够与感光性层一起对抗静电层进行图案化，因此在将所形成的抗蚀剂图案用作电极保护膜的情况下，在图案状的电极保护膜中也能够防止带电。
72.[感光性层]
[0073]
本发明的感光性转印膜具有厚度为10μm以下的感光性层。在本发明的感光性转印膜中，上述感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂、具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物及光聚合引发剂。在本发明的感光性转印膜中，通过感光性层的厚度为10μm以下，并且，感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂等，提高所形成的固化膜的透明性及耐弯曲性。
[0074]
(碱溶性丙烯酸系树脂)
[0075]
感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂。通过感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂，提高所形成的固化膜的透明性。并且，通过感光性层含有碱溶性丙烯酸系树脂，也能够提高感光性层(非曝光部)在显影液中的溶解性。
[0076]
在本发明中，“碱溶性”是指通过以下方法求出的溶解速度为0.01μm/秒钟以上。
[0077]
将对象化合物(例如，树脂)的浓度为25质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液涂布在玻璃基板上，接着，在100℃的烘箱中加热3分钟，由此形成上述化合物的涂膜(厚度：2.0μm)。通过将上述涂膜浸渍于碳酸钠1质量％水溶液(液温：30℃)中，求出上述涂膜的溶解速度(μm/秒钟)。
[0078]
另外，在对象化合物不溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯中的情况下，使对象化合物溶解于除了丙二醇单甲醚乙酸酯以外的沸点低于200℃的有机溶剂(例如，四氢呋喃、甲苯或乙醇)中。
[0079]
作为碱溶性丙烯酸系树脂，只要是上述中说明的具有碱溶性的丙烯酸系树脂，则并没有限制。其中，“丙烯酸系树脂”是指含有来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元中的至少一个的树脂。
[0080]
相对于碱溶性丙烯酸系树脂的总量，碱溶性丙烯酸系树脂中的来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元的总比例优选为30摩尔％以上，更优选为50摩尔％以上。碱溶性丙烯酸系树脂中的来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元的总比例的上限并没有限制。碱溶性丙烯酸系树脂中的来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元的总比例相对于碱溶性丙烯酸系树脂的总量，可以在100摩尔％以下的范围内决定。
[0081]
在本发明中，在以摩尔分率(摩尔比例)限定“构成单元”的含量的情况下，只要没有特别说明，上述“构成单元”的含义与“单体单位”的含义相同。并且，在本发明中，在树脂或聚合物具有两种以上的特定的构成单元的情况下，只要没有特别说明，上述特定的构成单元的含量表示上述两种以上的特定的构成单元的总含量。
[0082]
从显影性的观点而言，碱溶性丙烯酸系树脂优选为具有羧基。作为向碱溶性丙烯酸系树脂中导入羧基的方法，例如可举出使用具有羧基的单体合成碱溶性丙烯酸系树脂的方法。通过上述方法，具有羧基的单体作为具有羧基的构成单元导入到碱溶性丙烯酸系树脂中。作为具有羧基的单体，例如可举出丙烯酸及甲基丙烯酸。
[0083]
碱溶性丙烯酸系树脂可以具有一个羧基，也可以具有两个以上的羧基。并且，碱溶性丙烯酸系树脂中的具有羧基的构成单元可以是单独一种，或也可以是两种以上。
[0084]
在碱溶性丙烯酸系树脂含有具有羧基的构成单元的情况下，相对于碱溶性丙烯酸系树脂的总量，具有羧基的构成单元的含量优选为5摩尔％～50摩尔％，更优选为5摩尔％～40摩尔％，尤其优选为10摩尔％～30摩尔％。
[0085]
从固化后的透湿性及强度的观点而言，碱溶性丙烯酸系树脂优选为含有具有芳香环的构成单元。作为具有芳香环的构成单元，优选为来自于苯乙烯化合物的构成单元。
[0086]
作为形成具有芳香环的构成单元的单体，例如可举出形成来自于苯乙烯化合物的构成单元的单体及(甲基)丙烯酸苄酯。
[0087]
作为上述形成来自于苯乙烯化合物的构成单元的单体，例如可举出苯乙烯、对甲基苯乙烯、α
‑
甲基苯乙烯、α,对二甲基苯乙烯、对乙基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯及1,1
‑
二苯基乙烯，优选为苯乙烯或α
‑
甲基苯乙烯，更优选为苯乙烯。
[0088]
碱溶性丙烯酸系树脂中的具有芳香环的构成单元可以是单独一种，或也可以是两种以上。
[0089]
在碱溶性丙烯酸系树脂含有具有芳香环的构成单元的情况下，相对于碱溶性丙烯酸系树脂的总量，具有芳香环的构成单元的含量优选为5摩尔％～90摩尔％，更优选为10摩尔％～90摩尔％，尤其优选为15摩尔％～90摩尔％。
[0090]
从粘性及固化后的强度的观点而言，碱溶性丙烯酸系树脂优选为含有具有脂肪族环式骨架的构成单元。
[0091]
作为脂肪族环式骨架中的脂肪族环，例如可举出二环戊烷环、环己烷环、异佛尔酮环及三环癸烷环。上述中，作为脂肪族环式骨架中的脂肪族环，尤其优选为三环癸烷环。
[0092]
作为形成具有脂肪族环式骨架的构成单元的单体，例如可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯及异冰片(甲基)丙烯酸酯。
[0093]
碱溶性丙烯酸系树脂中的具有脂肪族环式骨架的构成单元可以是单独一种，或也可以是两种以上。
[0094]
在碱溶性丙烯酸系树脂含有具有脂肪族环式骨架的构成单元的情况下，相对于碱溶性丙烯酸系树脂的总量，具有脂肪族环式骨架的构成单元的含量优选为5摩尔％～90摩尔％，更优选为10摩尔％～80摩尔％，尤其优选为10摩尔％～70摩尔％。
[0095]
从粘性及固化后的强度的观点而言，碱溶性丙烯酸系树脂优选为具有反应性基。
[0096]
作为反应性基，优选为自由基聚合性基，更优选为烯属不饱和基团。并且，在碱溶性丙烯酸系树脂具有烯属不饱和基团的情况下，碱溶性丙烯酸系树脂优选为含有在侧链具有烯属不饱和基团的构成单元。
[0097]
在本发明中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链，“侧链”表示从主链分支的原子团。
[0098]
作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酸基或(甲基)丙烯酰氧基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
[0099]
碱溶性丙烯酸系树脂中的具有烯属不饱和基团的构成单元可以是单独一种，或也可以是两种以上。
[0100]
在碱溶性丙烯酸系树脂含有具有烯属不饱和基团的构成单元的情况下，相对于碱溶性丙烯酸系树脂的总量，具有烯属不饱和基团的构成单元的含量优选为5摩尔％～70摩尔％，更优选为10摩尔％～50摩尔％，尤其优选为15摩尔％～40摩尔％。
[0101]
作为将反应性基导入到碱溶性丙烯酸系树脂中的方法，可举出使羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基、磺酸等与环氧化合物、嵌段异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物、羧酸酐等反应的方法。
[0102]
作为将反应性基导入到碱溶性丙烯酸系树脂中的方法的优选例，可举出通过聚合反应合成具有羧基的碱溶性丙烯酸系树脂之后，通过聚合物反应，使碱溶性丙烯酸系树脂的羧基的一部分与(甲基)丙烯酸环氧丙酯反应，由此将(甲基)丙烯酰氧基导入到碱溶性丙烯酸系树脂中的方法。通过上述方法，能够获得在侧链具有(甲基)丙烯酰氧基的碱溶性丙烯酸系树脂。
[0103]
上述聚合反应优选为在70℃～100℃的温度条件下进行，更优选为在80℃～90℃的温度条件下进行。作为用于上述聚合反应的聚合引发剂，优选为偶氮系引发剂，更优选为例如，fujifilm wako pure chemical corporation制造的v
‑
601(商品名)或v
‑
65(商品名)。并且，上述聚合物反应优选为在80℃～110℃的温度条件下进行。在上述聚合物反应
中，优选为使用铵盐等催化剂。
[0104]
碱溶性丙烯酸系树脂的重均分子量(mw)优选为10,000以上，更优选为10,000～100,000，尤其优选为15,000～50,000。
[0105]
从显影性的观点而言，碱溶性丙烯酸系树脂的酸值优选为50mgkoh/g以上，更优选为60mgkoh/g以上，进一步优选为70mgkoh/g以上，尤其优选为80mgkoh/g以上。在本发明中，碱溶性丙烯酸系树脂的酸值是根据jis k0070：1992中记载的方法测定的值。
[0106]
从抑制曝光的感光性层(曝光部)溶解于显影液中的观点而言，碱溶性丙烯酸系树脂的酸值优选为200mgkoh/g以下，更优选为150mgkoh/g以下。
[0107]
以下示出碱溶性丙烯酸系树脂的具体例。另外，下述碱溶性丙烯酸系树脂中的各构成单元的含有比率(摩尔比)能够根据目的适当设定。
[0108]
[化学式1]
[0109][0110]
[化学式2]
[0111][0112]
感光性层可以含有单独一种碱溶性丙烯酸系树脂，或也可以含有两种以上的碱溶性丙烯酸系树脂。
[0113]
从显影性的观点而言，相对于感光性层的总质量，碱溶性丙烯酸系树脂的含量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为30质量％～70质量％。
[0114]
从图案化性及可靠性的观点而言，相对于碱溶性树脂的总质量，碱溶性树脂的各构成单元的残留单体的含量优选为1,000质量ppm以下，更优选为500质量ppm以下，尤其优选为100质量ppm以下。相对于碱溶性树脂的总质量，上述残留单体的含量优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。在通过高分子反应合成碱溶性树脂时的单体的残留单体量也优选设为上述范围。例如，在使羧酸侧链与丙烯酸环氧丙酯反应而合成碱溶性树脂的情况下，优选为将丙烯酸环氧丙酯的含量设为上述范围。残留单体的量能够通过例如气相色谱法等公知的方法来进行测定。
[0115]
(具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物)
[0116]
感光性层含有具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(以下，也简称为“乙烯性不饱和化合物”。)。乙烯性不饱和化合物有助于感光性(即，光固化性)及通过感光性层的
fine chemical co.,ltd.〕、nk酯ua
‑
32p〔shin
‑
nakamura chemical co.,ltd.〕及nk酯ua
‑
1100h〔shin
‑
nakamura chemical co.,ltd.〕。
[0129]
作为乙烯性不饱和化合物，例如，从提高显影性的观点而言，优选为含有具有酸基的乙烯性不饱和化合物。
[0130]
作为酸基，例如可举出磷酸基、磺酸基及羧基。上述中，作为酸基，优选为羧基。
[0131]
作为具有酸基的乙烯性不饱和化合物，可举出具有酸基的3～4官能的乙烯性不饱和化合物〔例如，将羧基导入到季戊四醇三及四丙烯酸酯(peta)骨架中的化合物(酸值：80mgkoh/g～120mgkoh/g)〕及具有酸基的5～6官能的乙烯性不饱和化合物〔例如，将羧基导入到二季戊四醇五及六丙烯酸酯(dpha)骨架中的化合物(酸值：25mgkoh/g～70mgkoh/g)〕。根据需要，可以将具有酸基的3官能以上的乙烯性不饱和化合物与具有酸基的2官能的乙烯性不饱和化合物并用。
[0132]
作为具有酸基的乙烯性不饱和化合物，优选为选自由具有羧基的2官能以上的乙烯性不饱和化合物及其羧酸酐组成的组中的至少一种化合物。当具有酸基的乙烯性不饱和化合物为选自由具有羧基的2官能以上的乙烯性不饱和化合物及其羧酸酐组成的组中的至少一种化合物时，显影性及膜强度进一步提高。
[0133]
具有羧基的2官能以上的乙烯性不饱和化合物并没有限制，能够从公知的化合物中适当选择。作为具有羧基的2官能以上的乙烯性不饱和化合物的优选例，可举出aronix(注册商标)to
‑
2349〔toagosei co.,ltd.〕、aronix(注册商标)m
‑
520〔toagosei co.,ltd.〕及aronix(注册商标)m
‑
510〔toagosei co.,ltd.〕。
[0134]
作为具有酸基的乙烯性不饱和化合物，能够优选地使用日本特开2004
‑
239942号公报的[0025]段～[0030]段中记载的具有酸基的聚合性化合物，该公报中记载的内容通过参考被编入到本说明书中。
[0135]
乙烯性不饱和化合物的分子量优选为200～3,000，更优选为250～2,600，进一步优选为280～2,200，尤其优选为300～2,200。
[0136]
感光性层中的乙烯性不饱和化合物中，相对于感光性层中所含的所有乙烯性不饱和化合物的含量，分子量为300以下的乙烯性不饱和化合物的含量优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下，尤其优选为20质量％以下。分子量为300以下的乙烯性不饱和化合物的含量相对于感光性层中所含的所有乙烯性不饱和化合物的含量，可以是0质量％，或也可以超过0质量％。
[0137]
感光性层可以含有单独一种乙烯性不饱和化合物，或也可以含有两种以上的乙烯性不饱和化合物。
[0138]
相对于感光性层的总质量，乙烯性不饱和化合物的含量优选为1质量％～70质量％，更优选为10质量％～70质量％，进一步优选为20质量％～60质量％，尤其优选为20质量％～50质量％。
[0139]
在感光性层含有2官能以上的乙烯性不饱和化合物的情况下，也可以进一步含有单官能乙烯性不饱和化合物。
[0140]
在感光性层含有2官能以上的乙烯性不饱和化合物的情况下，2官能以上的乙烯性不饱和化合物优选为在感光性层中所含的乙烯性不饱和化合物中为主成分。
[0141]
在感光性层含有2官能以上的乙烯性不饱和化合物的情况下，相对于感光性层中
所含的所有乙烯性不饱和化合物的含量，2官能以上的乙烯性不饱和化合物的含量优选为60质量％～100质量％，更优选为80质量％～100质量％，尤其优选为90质量％～100质量％。
[0142]
在感光性层含有具有酸基的乙烯性不饱和化合物(优选为具有羧基的2官能以上的乙烯性不饱和化合物或其羧酸酐)的情况下，相对于感光性层的总质量，具有酸基的乙烯性不饱和化合物的含量优选为1质量％～50质量％，更优选为1质量％～20质量％，尤其优选为1质量％～10质量％。
[0143]
(光聚合引发剂)
[0144]
感光性层含有光聚合引发剂。
[0145]
作为光聚合引发剂，并没有限制，能够应用公知的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，也称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α
‑
氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α
‑
氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α
‑
羟基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α
‑
羟基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，也称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)及具有n
‑
苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下，也称为“n
‑
苯基甘氨酸系光聚合引发剂”。)。
[0146]
光聚合引发剂优选为含有选自由肟系光聚合引发剂、α
‑
氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α
‑
羟基烷基苯酮系光聚合引发剂及n
‑
苯基甘氨酸系光聚合引发剂组成的组中的至少一种，更优选为含有选自由肟系光聚合引发剂、α
‑
氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及n
‑
苯基甘氨酸系光聚合引发剂组成的组中的至少一种。
[0147]
并且，作为光聚合引发剂，例如可以使用日本特开2011
‑
095716号公报的[0031]～[0042]段及日本特开2015
‑
014783号公报的[0064]段～[0081]段中记载的聚合引发剂。
[0148]
作为光聚合引发剂的市售品，例如可举出1
‑
[4
‑
(苯硫基)]苯基
‑
1,2
‑
辛二酮
‑2‑
(o
‑
苯甲酰肟)〔商品名：irgacure(注册商标)oxe
‑
01、basf公司制造〕、1
‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基苯甲酰基)
‑
9h
‑
咔唑
‑3‑
基]乙酮
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)〔商品名：irgacure(注册商标)oxe
‑
02、basf公司制造〕、[8
‑
[5
‑
(2,4,6
‑
三甲基苯基)
‑
11
‑
(2
‑
乙基己基)
‑
11h
‑
苯并[a]咔唑基][2
‑
(2,2,3,3
‑
四氟丙氧基)苯基]甲酮
‑
(o
‑
乙酰肟)〔商品名：irgacure(注册商标)oxe
‑
03、basf公司制造〕、1
‑
[4
‑
[4
‑
(2
‑
苯并呋喃基羰基)苯基]硫代]苯基]
‑4‑
甲基
‑1‑
戊酮
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)〔商品名：irgacure(注册商标)oxe
‑
04、basf公司制造〕、2
‑
(二甲氨基)
‑2‑
[(4
‑
甲基苯基)甲基]
‑1‑
[4
‑
(4
‑
吗啉基)苯基]
‑1‑
丁酮〔商品名：irgacure(注册商标)379eg、basf公司制造〕、2
‑
甲基
‑1‑
(4
‑
甲硫基苯基)
‑2‑
吗啉代丙烷
‑1‑
酮〔商品名：irgacure(注册商标)907、basf公司制造〕、2
‑
羟基
‑1‑
{4
‑
[4
‑
(2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑
丙酰基)苄基]苯基}
‑2‑
甲基丙烷
‑1‑
酮〔商品名：irgacure(注册商标)127、basf公司制造〕、2
‑
苄基
‑2‑
二甲氨基
‑1‑
(4
‑
吗啉代苯基)
‑
丁酮
‑
1〔商品名：irgacure(注册商标)369、basf公司制造〕、2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑
丙烷
‑1‑
酮〔商品名：irgacure(注册商标)1173、basf公司制造〕、1
‑
羟基环己基苯基酮〔商品名：irgacure(注册商标)184、basf公司制造〕、2,2
‑
二甲氧基
‑
1,2
‑
二苯基乙
‑1‑
酮〔商品名：irgacure 651、basf公司制造〕及肟酯系的化合物〔商品名：lunar(注册商标)6、dksh japan制造〕。
[0149]
感光性层可以含有单独一种光聚合引发剂，或也可以含有两种以上的光聚合引发
剂。
[0150]
相对于感光性层的总质量，光聚合引发剂的含量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，尤其优选为1.0质量％以上。并且，相对于感光性层的总质量，光聚合引发剂的含量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。
[0151]
(含有具有羧酸酐结构的构成单元的聚合物)
[0152]
感光性层优选为进一步包含含有具有羧酸酐结构的构成单元的聚合物(以下，也称为“聚合物b”。)作为粘合剂。通过感光性层含有特定聚合物b，能够提高显影性及固化后的强度。
[0153]
羧酸酐结构可以是链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一种，但优选为环状羧酸酐结构。
[0154]
作为环状羧酸酐结构的环，优选为5元环～7元环，更优选为5元环或6元环，尤其优选为5元环。
[0155]
具有羧酸酐结构的构成单元优选为在主链中含有从由下述式p
‑
1表示的化合物中去除两个氢原子的2价的基团的构成单元或从由下述式p
‑
1表示的化合物中去除一个氢原子的1价的基团直接或经由2价的连结基与主链键合的构成单元。
[0156]
[化学式3]
[0157][0158]
式p
‑
1中，r
a1a
表示取代基，n
1a
个r
a1a
可以相同，也可以不同，z
1a
表示形成含有
‑
c(＝o)
‑
o
‑
c(＝o)
‑
的环的2价的基团，n
1a
表示0以上的整数。
[0159]
作为由r
a1a
表示的取代基，例如可举出烷基。
[0160]
作为z
1a
，优选为碳原子数2～4的亚烷基，更优选为碳原子数2或3的亚烷基，尤其优选为碳原子数2的亚烷基。
[0161]
n
1a
表示0以上的整数。在z
1a
表示碳原子数2～4的亚烷基的情况下，n
1a
优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数，尤其优选为0。
[0162]
在n
1a
表示2以上的整数的情况下，存在多个的r
a1a
可以相同，也可以不同。并且，存在多个的r
a1a
可以彼此键合而形成环，但优选为不彼此键合而形成环。
[0163]
具有羧酸酐结构的构成单元优选为来自于不饱和羧酸酐的构成单元，更优选为来自于不饱和环式羧酸酐的构成单元，进一步优选为来自于不饱和脂肪族环式羧酸酐的构成单元，尤其优选为来自于马来酸酐或衣康酸酐的构成单元，最优选为来自于马来酸酐的构成单元。
[0164]
聚合物b中的具有羧酸酐结构的构成单元可以是单独一种，或也可以是两种以上。
[0165]
相对于聚合物b的总量，具有羧酸酐结构的构成单元的含量优选为超过0摩尔％且为60摩尔％以下，更优选为5摩尔％～40摩尔％，尤其优选为10摩尔％～35摩尔％。
[0166]
感光性层可以含有单独一种聚合物b，或也可以含有两种以上的聚合物b。
[0167]
在感光性层含有聚合物b的情况下，相对于感光性层的总质量，从显影性及固化后的强度的观点而言，聚合物b的含量优选为0.1质量％～30质量％，更优选为0.2质量％～20
质量％，进一步优选为0.5质量％～20质量％，尤其优选为1质量％～20质量％。
[0168]
(杂环化合物)
[0169]
感光性层优选为含有杂环化合物。杂环化合物有助于提高对基材(尤其，铜基板)的密合性及对金属(尤其，铜)的腐蚀抑制性。
[0170]
杂环化合物所具有的杂环可以是单环及多环中的任意杂环。
[0171]
作为杂环化合物所具有的杂原子，例如可举出氮原子、氧原子及硫原子。杂环化合物优选为具有选自由氮原子、氧原子及硫原子组成的组中的至少一种原子，更优选为具有氮原子。
[0172]
作为杂环化合物，例如可优选地举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并恶唑化合物或嘧啶化合物。上述中，杂环化合物优选为选自由三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并恶唑化合物组成的组中的至少一种化合物，更优选为选自由三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并恶唑化合物组成的组中的至少一种化合物。
[0173]
以下示出杂环化合物的优选具体例。作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示以下化合物。
[0174]
[化学式4]
[0175][0176]
[化学式5]
[0177][0178]
作为四唑化合物，能够例示以下化合物。
[0179]
[化学式6]
[0180][0181]
[化学式7]
[0182][0183]
作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。
[0184]
[化学式8]
[0185][0186]
作为三嗪化合物，能够例示以下化合物。
[0187]
[化学式9]
[0188][0189]
作为绕丹宁化合物，能够例示以下化合物。
[0190]
[化学式10]
[0191][0192]
作为噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[0193]
[化学式11]
[0194][0195]
作为苯并噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[0196]
[化学式12]
[0197][0198]
作为苯并咪唑化合物，能够例示以下化合物。
[0199]
[化学式13]
[0200][0201]
[化学式14]
[0202][0203]
作为苯并恶唑化合物，能够例示以下化合物。
[0204]
[化学式15]
[0205][0206]
感光性层可以含有单独一种杂环化合物，或也可以含有两种以上的杂环化合物。
[0207]
在感光性层含有杂环化合物的情况下，相对于感光性层的总质量，杂环化合物的含量优选为0.01质量％～20质量％，更优选为0.1质量％～10质量％，进一步优选为0.3质量％～8质量％，尤其优选为0.5质量％～5质量％。通过杂环化合物的含量在上述范围内，能够提高对基材(尤其，铜基板)的密合性及金属(尤其，铜)的腐蚀抑制性。
[0208]
(脂肪族硫醇化合物)
[0209]
感光性层优选为含有脂肪族硫醇化合物。
[0210]
通过感光性层含有脂肪族硫醇化合物，脂肪族硫醇化合物进行烯
‑
硫醇反应，由此抑制所形成的膜的固化收缩且缓和应力，因此存在所形成的固化膜对基材的密合性(尤其，曝光后的密合性)提高的倾向。通常，当感光性层含有脂肪族硫醇化合物时，金属(尤其，铜)更容易腐蚀。相对于此，本发明中的感光性层具有即使在含有脂肪族硫醇化合物的情况下，也能够形成金属(尤其，铜)的腐蚀抑制性优异的固化膜的优点。
[0211]
作为脂肪族硫醇化合物，可优选地使用单官能的脂肪族硫醇化合物或多官能的脂肪族硫醇化合物(即，2官能以上的脂肪族硫醇化合物)。
[0212]
上述中，作为脂肪族硫醇化合物，例如，从所形成的固化膜对基板的密合性(尤其，曝光后的密合性)的观点而言，优选为含有多官能的脂肪族硫醇化合物，更优选为多官能的脂肪族硫醇化合物。
[0213]
在本发明中，“多官能的脂肪族硫醇化合物”是指在分子内具有2个以上硫醇基(也称为“巯基”。)的脂肪族化合物。
[0214]
多官能的脂肪族硫醇化合物优选为分子量为100以上的低分子化合物。具体而言，多官能的脂肪族硫醇化合物的分子量更优选为100～1,500，尤其优选为150～1,000。
[0215]
例如，从所形成的固化膜对基板的密合性的观点而言，多官能的脂肪族硫醇化合物的官能团数(即，硫醇基的数量)优选为2官能～10官能，更优选为2官能～8官能，尤其优选为2官能～6官能。
[0216]
作为多官能的脂肪族硫醇化合物，例如可举出三羟甲基丙烷三(3
‑
巯基丁酸酯)、1,4
‑
双(3
‑
巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3
‑
巯基丁酸酯)、1,3,5
‑
三(3
‑
巯基丁酰氧基乙基)
‑
1,3,5
‑
三嗪
‑
2,4,6(1h，3h，5h)
‑
三酮、三羟甲基乙烷三(3
‑
巯基丁酸酯)、三[(3
‑
巯基丙酰氧基)乙基]三聚异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(3
‑
巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3
‑
巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3
‑
巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3
‑
巯基丙酸酯)、乙二醇双硫代丙酸酯、1,4
‑
双(3
‑
巯基丁酰氧基)丁烷、1,2
‑
乙二硫醇、1,3
‑
丙二硫醇、1,6
‑
六亚甲基二硫醇、2,2
’‑
(亚乙二硫代)二乙硫醇、内消旋2,3
‑
二巯基丁二酸及二(巯基乙基)醚。
[0217]
上述中，作为多官能的脂肪族硫醇化合物，优选为选自由三羟甲基丙烷三(3
‑
巯基丁酸酯)、1,4
‑
双(3
‑
巯基丁酰氧基)丁烷及1,3,5
‑
三(3
‑
巯基丁酰氧基乙基)
‑
1,3,5
‑
三嗪
‑
2,4,6(1h，3h，5h)
‑
三酮级的组中的至少一种化合物。
[0218]
作为单官能的脂肪族硫醇化合物，例如可举出1
‑
辛硫醇、1
‑
十二烷硫醇、β
‑
巯基丙酸、3
‑
巯基丙酸甲酯、2
‑
乙基己基
‑3‑
巯基丙酸酯、正辛基
‑3‑
巯基丙酸酯、3
‑
巯基丙酸甲氧基丁酯及3
‑
巯基丙酸硬脂酯。
[0219]
感光性层可以含有单独一种脂肪族硫醇化合物，或也可以含有两种以上的脂肪族硫醇化合物。
[0220]
在感光性层含有脂肪族硫醇化合物的情况下，相对于感光性层的总质量，脂肪族硫醇化合物的含量优选为5质量％以上，更优选为5质量％～50质量％，进一步优选为5质量％～30质量％，尤其优选为8质量％～20质量％。当脂肪族硫醇化合物的含量为5质量％以上时，存在能够形成对基板(尤其，铜基板)的密合性(尤其，曝光后的密合性)更优异的固化膜的倾向。
[0221]
(嵌段异氰酸酯化合物)
[0222]
感光性层优选为含有嵌段异氰酸酯化合物。嵌段异氰酸酯化合物有助于提高固化膜的强度。
[0223]
嵌段异氰酸酯化合物与羟基及羧基进行反应，因此例如在碱溶性丙烯酸系树脂及具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物中的至少一个具有羟基及羧基中的至少一个的情况下，存在所形成的膜的亲水性降低，作为保护膜的功能强化的倾向。另外，嵌段异氰酸酯化合物是指“具有通过阻断剂保护(所谓的掩模)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
[0224]
嵌段异氰酸酯化合物的解离温度优选为100℃～160℃，更优选为110℃～150℃。
[0225]
在本发明中，“嵌段异氰酸酯化合物的解离温度”是指在使用差示扫描量热计，通过dsc(差示扫描量热法，differential scanning calorimetry)分析测定的情况下的伴随嵌段异氰酸酯化合物的脱保护反应的吸热峰的温度。作为差示扫描量热计，例如能够优选地使用seiko instruments inc.制造的差示扫描量热计(型号：dsc6200)。但是，差示扫描量热计并不限于上述差示扫描量热计。
[0226]
作为解离温度为100℃～160℃的阻断剂，例如可举出活性亚甲基化合物〔例如，丙二酸二酯(例如，丙二酸二甲基、丙二酸二乙基、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2
‑
乙基己基
society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44
‑
020189号公报、日本特开昭51
‑
082102号公报、日本特开昭52
‑
134692号公报、日本特开昭59
‑
138205号公报、日本特开昭60
‑
084305号公报、日本特开昭62
‑
018537号公报、日本特开昭64
‑
033104号公报、research disclosure 33825号等中记载的化合物等。
[0243]
作为供氢化合物的具体例，可举出三乙醇胺、对二甲氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺及对甲硫基二甲基苯胺。
[0244]
并且，作为供氢化合物，还可以举出氨基酸化合物(n
‑
苯基甘氨酸等)、日本特公昭48
‑
042965号公报中记载的有机金属化合物(乙酸三丁基锡等)、日本特公昭55
‑
034414号公报中记载的供氢体、日本特开平6
‑
308727号公报中记载的硫化合物(三噻烷等)等。
[0245]
感光性层可以含有单独一种供氢化合物，或也可以含有两种以上的供氢化合物。
[0246]
在感光性层含有供氢化合物的情况下，例如，从通过聚合成长速度和链转移的平衡来提高固化速度的观点而言，相对于感光性层的总质量，供氢化合物的含量优选为0.01质量％～10质量％，更优选为0.03质量％～5质量％，尤其优选为0.05质量％～3质量％。
[0247]
(其他成分)
[0248]
感光性层也可以含有除了已叙述的成分以外的成分(以下，也称为“其他成分”。)。作为其他成分，例如可举出粒子(例如，金属氧化物粒子)及着色剂。并且，作为其他成分，例如还可以举出日本专利第4502784号公报的[0018]段中记载的热聚合防止剂及日本特开2000
‑
310706号公报的[0058]段～[0071]段中记载的其他添加剂。
[0249]
‑
粒子
‑
[0250]
以折射率、透光性等的调节为目的，感光性层可以含有粒子。作为粒子，例如可举出金属氧化物粒子。
[0251]
金属氧化物粒子中的金属中还包含b、si、ge、as、sb、te等半金属。
[0252]
例如，从固化膜的透明性的观点而言，粒子的平均一次粒径优选为1nm～200nm，更优选为3nm～80nm。粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，将测定结果进行算术平均而计算。另外，在粒子的形状为球形的情况下，将长轴的长度作为粒径。
[0253]
感光性层可以含有单独一种粒子，或也可以含有两种以上的粒子。并且，在感光性层含有粒子的情况下，感光性层可以仅含有一种金属种类、大小等不同的粒子，或也可以含有两种以上。
[0254]
感光性层优选为不含有粒子或粒子的含量相对于感光性层的总质量为超过0质量％且为35质量％以下，更优选为不含有粒子或粒子的含量相对于感光性层的总质量超过0质量％且为10质量％以下，进一步优选为不含有粒子或粒子的含量相对于感光性层的总质量超过0质量％且为5质量％以下，尤其优选为不含有粒子或粒子的含量相对于感光性层的总质量超过0质量％且为1质量％以下，最优选为不含有粒子。
[0255]
‑
着色剂
‑
[0256]
感光性层也可以含有微量的着色剂(例如，颜料及染料)。但是，例如从透明性的观点而言，感光性层优选为实质上不含有着色剂。
[0257]
相对于感光性层的总质量，着色剂的含量优选为小于1质量％，更优选为小于0.1质量％。着色剂的含量的下限相对于感光性层的总质量，在0质量％以上的范围内适当设定
即可。着色剂的含量相对于感光性层的总质量，可以是0质量％，或也可以超过0质量％。
[0258]
‑
化合物a
‑
[0259]
感光性层也可以含有具有选自由金属还原性基及金属配位性基组成的组中的至少一种基团的化合物a。
[0260]
从金属的湿热耐久性的观点而言，上述化合物a优选为具有金属还原性基的化合物。推定为通过上述化合物a具有金属还原性基，能够抑制金属的离子化，从而能够提高金属、尤其金属电极的湿热耐久性。
[0261]
从金属的湿热耐久性的观点而言，上述化合物a优选为具有金属配位性基的化合物。推定为通过上述化合物a具有金属配位性基，能够抑制卤素等有害物质向金属接近及金属的氧化及离子化，从而能够提高金属电极的湿热耐久性。
[0262]
并且，从金属的湿热耐久性的观点而言，上述化合物a更优选为具有金属还原性基及金属配位性基的化合物。通过上述化合物a具有金属还原性基及金属配位性基这两者，除了上述效果以外，由于金属配位性基与金属的配位，因此在金属的附近能够显现金属还原性基的还原性，因此能够更有效地提高金属的湿热耐久性。
[0263]
上述金属还原性基只要是能够还原成为对象的至少一种金属的基团即可。作为上述金属还原性基，例如可举出醛基、氨基、具有三键的基团(例如，乙炔基及炔丙基)及巯基。并且，作为上述金属还原性基，例如可举出从选自由羟基胺类、羟肟酸类、羟基脲类、羟基氨基甲酸酯类、羟基氨基脲类、还原酮类(包括还原酮衍生物)、苯胺类、酚类(包括二氢苯并哌喃
‑6‑
醇类、2,3
‑
二氢苯并呋喃
‑5‑
醇类、氨基酚类、磺酰胺酚类、氢醌类、儿茶酚类、间苯二酚类、苯三酚类、双酚类的类的聚酚类。)、酰基肼类、氨基甲酰基肼类及3
‑
吡唑啉酮类组成的组中的至少一种化合物中去除一个氢原子而成的残基。
[0264]
上述中，从金属还原能及金属的湿热耐久性的观点而言，上述金属还原性基优选为醛基或伯～叔氨基，更优选为醛基或伯氨基，尤其优选为醛基。
[0265]
上述金属配位性基只要是与成为对象的至少一种金属直接配位的基团或促进上述与金属的配位的基团即可。作为上述金属配位性基，具体而言，可举出含有选自由巯基(或其盐)、硫酮基(
‑
c(＝s)
‑
)、氮原子、硫原子、硒原子及碲原子组成的组中的至少一个原子的杂环基、硫醚基、二硫醚基、阳离子性基、乙炔基等。
[0266]
上述金属配位性基中的巯基(或其盐)优选为被杂环基、芳基或烷基取代的巯基(或其盐)，更优选为被杂环基或芳基取代的巯基(或其盐)，尤其优选为被芳香族杂环基或芳基取代的巯基(或其盐)。
[0267]
杂环基是指至少5元～7元的单环或者稠环的芳香族或非芳香族的杂环基，例如可举出咪唑环基、噻唑环基、恶唑环基、苯并咪唑环基、苯并噻唑环基、苯并恶唑环基、三唑环基、噻二唑环基、恶二唑环基、四唑环基、嘌呤环基、吡啶环基、喹啉环基、异喹啉环基、嘧啶环基、三嗪环基等。并且，也可以是含有被季铵化的氮原子的杂环基，此时，取代的巯基可以解离而成为中间离子。
[0268]
在巯基形成盐的情况下，作为对离子，可举出碱金属、碱土类金属、重金属等阳离子(例如，li

、na

、k

、mg
2
、ag

及zn
2
)、铵离子、含有被季铵化的氮原子的杂环基、鏻离子等。
[0269]
上述金属配位性基中的巯基可以互变异构化而成为硫酮基。
[0270]
上述金属配位性基中的硫酮基还包括链状或者环状的硫代酰胺基、硫脲基、硫代
氨基甲酸酯基或二硫代氨基甲酸酯基。
[0271]
上述金属配位性基中的含有选自由氮原子、硫原子、硒原子及碲原子组成的组中的至少一个原子的杂环基是指，将能够形成亚氨基化金属的
‑
nh
‑
基作为杂环的部分结构而具有的含氮杂环基或能够通过配位键与金属离子配位的将
“‑
s
‑”
基或
“‑
se
‑”
基或
“‑
te
‑”
基或“＝n
‑”
基作为杂环的部分结构而具有的杂环基。作为前者的例子，可举出苯并三唑基、三唑基、吲唑基、吡唑基、四唑基、苯并咪唑基、咪唑基、嘌呤基等。作为后者的例子，可举出噻吩基、噻唑基、恶唑基、苯并噻吩基、苯并噻唑基、苯并恶唑基、噻二唑基、恶二唑基、三嗪基、硒唑基、苯并硒唑基、碲唑基、苯并碲唑基等。
[0272]
上述金属配位性基中的硫醚基(硫醚基)或二硫醚基可举出具有
‑
s
‑
或
‑
s
‑
s
‑
的部分结构的所有基团。作为硫醚基及二硫醚基，例如可举出烷硫基、芳硫基、烷基二硫醚基、芳基二硫醚基等。
[0273]
上述金属配位性基中的阳离子性基优选为在氮原子上具有阳离子的基团。具体而言，可举出包含含有伯～季铵基或被季铵化的氮原子的含氮杂环基的基团等。作为含有被季铵化的氮原子的含氮杂环基，例如可举出吡啶鎓基、喹啉鎓基、异喹啉鎓基、咪唑鎓基等。
[0274]
上述金属配位性基中的乙炔基是指
‑
c≡ch基，上述
‑
c≡ch基中的氢原子也可以被取代。
[0275]
上述金属配位性基可以具有任意取代基。
[0276]
作为上述金属配位性基的具体例，可举出在日本特开平11
‑
095355号公报的说明书4页～7页中记载者。
[0277]
作为上述金属配位性基，从与金属的配位能及金属的湿热耐久性的观点而言，优选为含有选自由硫醚基、巯基或氮原子、硫原子、硒原子及碲原子组成的组中的至少一个原子的杂环基，更优选为含有选自由硫醚基、巯基或氮原子及硫原子组成的组中的至少一个原子的杂环基，进一步优选为硫醚基或巯基，尤其优选为硫醚基。
[0278]
上述化合物a的分子量优选为100～10,000，更优选为120～1,000，更优选为120～500。通过将上述化合物a的分子量设在上述范围内，能够抑制在制作程序或耐久试验中的化合物a的挥发，并且，感光性层及转印并接触的层中的扩散性也优异，从而金属的湿热耐久性更优异。
[0279]
从金属的湿热耐久性的观点而言，上述化合物a中的金属还原性基的数量优选为1以上，更优选为1～6，进一步优选为1～3，尤其优选为1。在金属还原性基的数量为2以上的情况下，可以是相同的基团，也可以是不同的基团。
[0280]
从金属的湿热耐久性的观点而言，上述化合物a中的金属配位性基的数量优选为1以上，更优选为1～6，进一步优选为1～3，尤其优选为1。在金属配位性基的数量为2以上的情况下，可以是相同的基团，也可以是不同的基团。
[0281]
作为上述化合物a，从金属的湿热耐久性的观点而言，优选为由下述式(d1)表示的化合物，更优选为由下述式(d2)表示的基团。
[0282]
[化学式16]
[0283][0284]
式d1及式d2中，ar表示从芳香环化合物或芳香族杂环化合物中去除(nr nc)个芳香环或芳香族杂环上的氢原子的基团，r
r
分别独立地表示金属还原性基，r
c
分别独立地表示金属配位性基，r
s
分别独立地表示取代基，nr表示0～3的整数，nc表示0～3的整数，ns表示0以上的整数，nr nc的值为1～6的整数，在式d2中，nr nc ns的值为1～6的整数。
[0285]
ar优选为从可以具有取代基的苯、噻二唑、噻唑、苯并三唑中去除(nr nc)个芳香环或杂环上的氢原子的基团，更优选为从可以具有取代基的苯中去除(nr nc)个芳香环的氢原子的基团。ar中的取代基并没有特别限制，但可优选地举出后述的r
s
中的取代基。
[0286]
作为r
r
中的金属还原性基，可优选地举出上述金属还原性基。
[0287]
作为r
c
中的金属配位性基，可优选地举出上述金属配位性基。
[0288]
作为r
s
中的取代基，只要是除了上述金属还原性基及上述金属配位性基以外的基团，则并没有特别限制，但作为优选的具体例可举出烷基、芳基、卤素原子、酰基、烷氧羰基、芳氧羰基、杂芳氧羰基、酰胺基、氰基、硝基等。
[0289]
nr优选为1～3的整数，更优选为1或2，尤其优选为1。
[0290]
nc优选为1～3的整数，更优选为1或2，尤其优选为1。
[0291]
ns优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数。
[0292]
感光性层可以含有单独一种化合物a，也可以含有两种以上的化合物a。
[0293]
相对于上述感光性层的总质量，感光性层中的化合物a的含量优选为不含有化合物a或超过0质量％且为10质量％，更优选为1质量％～10质量％，进一步优选为1质量％～6质量％，尤其优选为2质量％～4质量％。通过将化合物a的含量设在上述范围内，能够提高金属的湿热耐久性。
[0294]
以下例示本发明中使用的化合物a，但本发明并不限定于这些。
[0295]
[化学式17]
[0296][0297]
而且，作为本发明中的化合物a的优选例，也可举出欧洲专利第1308776号说明书的73页～87页中记载的具体化合物1～30、1
”‑
1～1
”‑
77。
[0298]
感光性层也可以含有金属添加剂。金属添加剂是含有金属的添加剂。作为金属添加剂，并没有特别限制，但从感光性转印膜的透明性的观点而言，优选为金属粒子、金属氧化物粒子或金属络合物化合物。
[0299]
作为金属氧化物粒子，可举出氧化铝粒子、氧化钛粒子、氧化锆粒子等。作为金属氧化物，并没有特别限制，但从感光性转印膜的透明性的观点而言，一次粒径优选为100nm以下。
[0300]
从在感光性树脂中的溶解性的观点而言，金属添加剂优选为金属络合物化合物。通过在感光性层中含有金属络合物，能够抑制由可见光引起的金属尤其金属电极的劣化。
[0301]
作为金属络合物化合物，没有特别限定，但优选为含有铁、镍、钴、铝、钛或锆，更优选为含有铁。
[0302]
作为含有铁的金属络合物化合物，例如可举出三(2,4
‑
戊二酮基)铁(iii)(也称为“乙酰丙酮铁络合物”)及其类似物、二茂铁及其类似物、三(二苯甲酰基甲基)铁(iii)等。在这些中，从在有机溶剂中的溶解性及耐氧化性等的观点而言，优选为二茂铁。
[0303]
相对于上述感光性层的总质量，感光性层中的金属添加物的含量优选为不含有金属添加物或超过0质量％且为10质量％，更优选为0.001质量％～5质量％，进一步优选为0.01质量％～3质量％，尤其优选为0.1质量％～3质量％。通过将金属添加物的含量设在上
述范围内，能够抑制由可见光引起的金属的劣化。
[0304]
(感光性层的厚度)
[0305]
感光性层的厚度为10μm以下，优选为8μm以下，更优选为5μm以下，尤其优选为4μm以下。通过感光性层的厚度为10μm以下，能够提高耐弯曲性。
[0306]
感光性层的厚度的下限并没有限制。感光性层的厚度越小，越能够提高耐弯曲性。从制造适用性的观点而言，感光性层的厚度优选为0.05μm以上，更优选为0.5μm以上。
[0307]
关于感光性层的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0308]
(杂质等)
[0309]
在本发明的感光性转印膜中，从提高可靠性及图案化性的观点而言，感光性层的杂质优选为规定含量。作为杂质的具体例，可举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡、卤素及这些的离子等。其中，卤化物离子、钠离子及钾离子容易作为杂质混入，因此尤其优选设为下述含量。
[0310]
以质量为基准，感光性层中的杂质的含量优选为80ppm以下，更优选为10ppm以下，尤其优选为2ppm以下。以质量为基准，感光性层中的杂质的含量能够设为1ppb以上或0.1ppm以上。
[0311]
作为将杂质设在上述范围内的方法，可举出选择杂质的含量少的原料作为感光性层的原料、在形成感光性层时防止杂质的混入、洗涤并去除等。通过这些方法，能够将杂质量控制在上述范围内。
[0312]
杂质能够通过例如icp(电感耦合等离子体)发光分光分析法、原子吸光分光法、离子色谱法等公知的方法来进行定量。
[0313]
优选为感光性层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1,3
‑
丁二烯、四氯化碳、氯仿、n,n
‑
二甲基甲酰胺、n,n
‑
二甲基乙酰胺、己烷等化合物的含量少。作为这些化合物的感光性层中的含量，以质量为基准，优选为100ppm以下，更优选为20ppm以下，尤其优选为4ppm以下。以质量为基准，下限能够设为10ppb以上，并且能够设为100ppb以上。这些化合物的含量能够通过与上述金属的杂质相同的方法来抑制。并且，能够通过公知的测定法进行定量。
[0314]
从提高可靠性及层压性的观点而言，感光性层中的水的含量优选为0.01质量％以上且1.0质量％以下，更优选为0.05质量％以上且0.5质量％以下。
[0315]
从提高层压性的观点而言，感光性层中的有机溶剂的含量优选为0.001质量％以上且3.0质量％以下，更优选为0.05质量％以上且1.0质量％以下。
[0316]
(感光性层的折射率)
[0317]
感光性层的折射率优选为1.47～1.56，更优选为1.49～1.54。
[0318]
(感光性层的颜色)
[0319]
感光性层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角：8
°
、光源：d
‑
65(2
°
视场))在cie1976(l
*
，a
*
，b
*
)色空间中，l
*
值优选为10～90，a
*
值优选为
‑
1.0～1.0，b
*
值优选为
‑
1.0～1.0。
[0320]
(感光性层的形成方法)
[0321]
作为感光性层的形成方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为感光性层的形成方法，例如可举出使用感光性层用组合物的方法。例如，能够通过在被涂布物(例如，后述
的透明膜1)上涂布感光性层用组合物，并且，根据需要使其干燥来形成感光性层。
[0322]
作为感光性层用组合物的制造方法，例如可举出将上述各成分及溶剂进行混合的方法。混合方法并没有限制，能够应用公知的方法。
[0323]
作为溶剂，并没有限制，能够应用公知的溶剂。作为溶剂，优选为有机溶剂。作为有机溶剂，例如可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名：1
‑
甲氧基
‑2‑
丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇及2
‑
丙醇。作为溶剂，优选为甲基乙基酮和丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或二乙二醇乙基甲基醚和丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。
[0324]
作为溶剂，能够使用美国专利公开第2005/282073号说明书的[0054]段及[0055]段中记载的溶剂，该说明书的内容通过参考被编入到本说明书中。
[0325]
并且，作为溶剂，根据需要，能够使用沸点为180℃～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
[0326]
感光性层用组合物可以含有单独一种溶剂，或也可以含有两种以上的溶剂。
[0327]
在感光性层用组合物含有溶剂的情况下，相对于感光性层用组合物的总质量，感光性层用组合物的总固体成分量优选为5质量％～80质量％，更优选为5质量％～40质量％，尤其优选为5质量％～30质量％。
[0328]
在感光性层用组合物含有溶剂的情况下，例如，从涂布性的观点而言，感光性层用组合物的25℃下的粘度优选为1mpa
·
s～50mpa
·
s，更优选为2mpa
·
s～40mpa
·
s，尤其优选为3mpa
·
s～30mpa
·
s。粘度使用粘度计进行测定。作为粘度计，例如能够优选地使用toki sangyo co.,ltd.制造的粘度计(商品名：viscometer tv
‑
22)。但是，粘度计并不限于上述粘度计。
[0329]
在感光性层用组合物含有溶剂的情况下，例如，从涂布性的观点而言，感光性层用组合物的25℃下的表面张力优选为5mn/m～100mn/m，更优选为10mn/m～80mn/m，尤其优选为15mn/m～40mn/m。表面张力使用表面张力计进行测定。作为表面张力计，例如能够优选地使用kyowa interface science co.,ltd.制造的表面张力计(商品名：automatic surface tensiometer cbvp
‑
z)。但是，表面张力计并不限于上述表面张力计。
[0330]
作为涂布方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为涂布方法，例如可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘式涂布法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。上述中，作为涂布方法，优选为模涂法。
[0331]
作为干燥方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为干燥方法，例如可举出自然干燥、加热干燥及减压干燥。上述方法能够单独应用或组合多个来应用。
[0332]
在本发明中，“干燥”并不限于去除组合物中所含的所有溶剂，包含去除组合物中所含的溶剂中的至少一部分溶剂。
[0333]
[抗静电层]
[0334]
本发明的感光性转印膜具有抗静电层。通过本发明的感光性转印膜除了上述感光性层以外还具有抗静电层，能够对抗静电层进行图案化。而且，通过本发明的感光性转印膜具有抗静电层，能够抑制在剥离配置于抗静电层上的薄膜等时的静电的产生，并且，也能够抑制由与设备或其他薄膜等的摩擦引起的静电的产生，因此例如能够抑制电子设备中产生不良。
[0335]
在本发明的感光性转印膜中，上述感光性层及上述抗静电层优选为彼此接触地配置。通过上述感光性层及上述抗静电层彼此接触地配置，能够提高抗静电层的图案化性。
[0336]
抗静电层是具有抗静电性的层，并且至少含有抗静电剂。作为抗静电剂，并没有限制，能够应用公知的抗静电剂。
[0337]
抗静电层优选为含有选自由离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及导电聚合物组成的组中的至少一种化合物作为抗静电剂。
[0338]
(离子性液体)
[0339]
作为离子性液体，在不损害抗静电层的效果的范围内，能够应用公知的离子性液体。其中，“离子性液体”是指在25℃下为液状的溶融盐(即，离子性化合物)。
[0340]
离子性液体优选为由氟有机阴离子及鎓阳离子构成的离子性液体。通过离子性液体是由氟有机阴离子及鎓阳离子构成的离子性液体，能够抑制在剥离配置于抗静电层上的薄膜等时可能产生的剥离带电，并且，也能够进一步抑制由与设备或其他薄膜等的摩擦而可能产生的带电。
[0341]
作为离子性液体的具体例，例如可举出1
‑
己基吡啶鎓双(氟磺酰基)酰亚胺、1
‑
乙基
‑3‑
甲基吡啶鎓三氟甲烷磺酸酯、1
‑
乙基
‑3‑
甲基吡啶鎓五氟乙烷磺酸酯、1
‑
乙基
‑3‑
甲基吡啶鎓七氟丙烷磺酸盐、1
‑
乙基
‑3‑
甲基吡啶鎓九氟丁烷磺酸盐、1
‑
丁基
‑3‑
甲基吡啶鎓三氟甲烷磺酸酯、1
‑
丁基
‑3‑
甲基吡啶鎓双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、1
‑
辛基
‑4‑
甲基吡啶鎓双(氟磺酰基)酰亚胺、1
‑
甲基
‑1‑
丙基哌啶双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、1
‑
甲基
‑1‑
丙基哌啶双(氟磺酰基)酰亚胺、1
‑
甲基
‑1‑
丙基哌啶鎓双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、1
‑
甲基
‑1‑
丙基哌啶鎓双(氟磺酰基)酰亚胺、1
‑
乙基
‑3‑
甲基咪唑鎓三氟甲烷磺酸酯、1
‑
乙基
‑3‑
甲基咪唑鎓七氟丙烷磺酸盐、1
‑
乙基
‑3‑
甲基咪唑鎓双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、1
‑
乙基
‑3‑
甲基咪唑鎓双(氟磺酰基)酰亚胺、1
‑
己基
‑3‑
甲基咪唑鎓双(氟磺酰基)酰亚胺、三甲基丙基铵双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺、双(三氟甲烷磺酰基)酰亚胺锂及双(氟磺酰基)酰亚胺锂。
[0342]
离子性液体例如能够作为il
‑
ap3(koei chemical co.,ltd.)而获得。
[0343]
抗静电层可以含有单独一种离子性液体，或也可以含有两种以上的离子性液体。
[0344]
(离子传导聚合物)
[0345]
作为离子传导聚合物，在不损害抗静电层的效果的范围内，能够应用公知的离子传导聚合物。
[0346]
作为离子传导聚合物，例如可举出使具有季铵盐基的单体聚合或共聚而得的离子传导聚合物。
[0347]
离子传导聚合物例如能够作为acryt1sx系列(例如，商品名1sx
‑
1055f、taisei fine chemical co.,ltd.)而获得。
[0348]
抗静电层可以含有单独一种离子传导聚合物，或也可以含有两种以上的离子传导聚合物。
[0349]
(离子传导填料)
[0350]
作为离子传导填料，在不损害抗静电层的效果的范围内，能够应用公知的离子传导填料。
[0351]
作为离子传导填料，例如可举出氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化镉、氧化钛、氧化锌、铟、锡、锑、金、银、铜、铝、镍、铬、钛、铁、钴、碘化铜、ito(氧化铟/氧化锡)及ato(氧化锑/氧
化锡)。
[0352]
离子传导填料例如能够作为fs系列(例如，商品名fs
‑
10d、ishihara sangyo kaisha,ltd.)而获得。
[0353]
抗静电层可以含有单独一种离子传导填料，或也可以含有两种以上的离子传导填料。
[0354]
(导电聚合物)
[0355]
作为导电聚合物，在不损害抗静电层的效果的范围内，能够应用公知的导电聚合物。
[0356]
作为导电聚合物，例如可举出聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯、聚乙烯亚胺及烯丙胺系聚合物。作为具体的导电聚合物，例如可举出(3,4
‑
乙烯二氧噻吩)
‑
聚(苯乙烯磺酸)。
[0357]
作为聚噻吩，优选为含有pedot(聚(3,4
‑
乙烯二氧噻吩))的高分子化合物，尤其优选为由聚(3,4
‑
乙烯二氧噻吩)和聚苯乙烯磺酸构成的导电性高分子化合物(以下，缩写为pedot/pss。)。作为聚噻吩的市售品，例如可举出clevios系列(heraeus holding)、orgacon系列(nippon agfa materials co.,ltd.)、denatron p
‑
502rg(nagase chemtex co.,ltd.)、denatron pt
‑
432me、denatron n8
‑2‑
1、seplegyda as
‑
x(shin
‑
etsu polymer co.,ltd.)、seplegyda as
‑
d、seplegyda as
‑
h、seplegyda as
‑
f、seplegyda hc
‑
r、seplegyda hc
‑
a、seplegyda sas
‑
p、seplegyda sas
‑
m及seplegyda sas
‑
f。
[0358]
作为聚苯胺，例如可举出ormecon系列(nissan chemical corporation)。
[0359]
作为聚吡咯，例如可举出482552(aldrich co.,ltd.)及735817(aldrich co.,ltd.)。
[0360]
在本发明中，作为导电聚合物，能够优选地使用上述市售品。
[0361]
抗静电层可以含有单独一种导电聚合物，或也可以含有两种以上的导电聚合物。
[0362]
抗静电层中所含的抗静电剂优选为溶剂分散型抗静电剂。通过抗静电剂为溶剂分散型抗静电剂，例如在感光性转印膜的制造中，能够抑制在抗静电层上涂布感光性层用组合物时的抗静电剂的溶出，因此能够将未检测出抗静电剂的区域调节在后述的范围内。
[0363]
抗静电层可以含有单独一种抗静电剂，或也可以含有两种以上的抗静电剂。
[0364]
从抗静电性的观点而言，相对于抗静电层的总质量，抗静电剂的含量优选为0.1质量％～100质量％。在抗静电剂是溶剂分散型抗静电剂的情况下，相对于抗静电层的总质量，更优选为抗静电剂的含量为1质量％～10质量％，尤其优选为3质量％～10质量％。在抗静电剂不是溶剂分散型抗静电剂的情况下，相对于抗静电层的总质量，更优选为抗静电剂的含量为60质量％～100质量％，尤其优选为70质量％～100质量％。
[0365]
抗静电剂优选为在从感光性层的与抗静电层相反的一侧的表面至感光性层及抗静电层的总厚度的40％为止的区域中未检测出，更优选为在80％为止的区域中未检测出，尤其优选为在90％为止的区域中未检测出。通过将未检测出抗静电剂的区域设在上述范围内，能够抑制抗静电剂经由感光性层移动至其他部件。例如，在使用本发明的感光性转印膜，在表面具有电极层(例如，含有银纳米线的层)的基材上依次层叠感光性层及抗静电层的情况下，抑制加热或湿热条件下的抗静电剂向导电层移动，其结果，能够抑制电极层的劣化。
[0366]
未检测出抗静电剂的区域通过如下方法求出：使用飞行时间型二次离子质谱仪
(tof
‑
sims(time of flight
‑
secondary ion mass spectrometry))及离子枪，从与感光性层的抗静电层相反的一侧的表面测定起因于在感光性层及抗静电层的深度方向上存在的分子的特异的碎片离子的峰强度，接着，将从感光性层的与抗静电层相反的一侧的表面至未检测出起因于抗静电剂的碎片离子的区域为止的长度(深度)除以感光性层及抗静电层的总厚度。另外，关于tof
‑
sims法，具体而言，在日本表面科学会编“表面分析技术选书二次离子质量分析法”maruzen co.,ltd.(1999年发行)中有记载。
[0367]
(其他成分)
[0368]
根据需要，抗静电层也可以进一步含有除了抗静电剂以外的成分。作为除了抗静电剂以外的成分，并没有限制，能够应用公知的成分。作为除了抗静电剂以外的成分，例如可举出粘合剂聚合物、固化成分及表面活性剂。并且，根据需要，抗静电剂也可以进一步含有除了上述成分以外的公知的添加剂。
[0369]
‑
粘合剂聚合物
‑
[0370]
作为粘合剂聚合物，并没有限制，能够应用公知的聚合物。但是，粘合剂聚合物不含有上述抗静电剂。作为粘合剂聚合物，例如可举出聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇及丙烯酸树脂。
[0371]
粘合剂聚合物可以是碱溶性的粘合剂聚合物，也可以是碱不溶性的粘合剂聚合物。其中，“碱不溶性”是指不属于上述“碱溶性”的性质。并且，作为粘合剂聚合物，也能够应用在上述“感光性层”的项中说明的碱溶性丙烯酸系树脂。在粘合剂聚合物是碱溶性丙烯酸系树脂的情况下，碱溶性丙烯酸系树脂的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的碱溶性丙烯酸系树脂相同。
[0372]
在抗静电层含有粘合剂聚合物的情况下，从抗静电层的图案化性(抑制显影液在曝光部中的溶解)的观点而言，粘合剂聚合物的酸值优选为60mgkoh/g以下。
[0373]
抗静电层可以含有单独一种粘合剂聚合物，或也可以含有两种以上的粘合剂聚合物。
[0374]
相对于抗静电层的总质量，除了上述抗静电剂以外的粘合剂聚合物的含量优选为0质量％～70质量％，更优选为0质量％～60质量％，尤其优选为0质量％～55质量％。
[0375]
‑
固化成分
‑
[0376]
作为固化成分，例如可举出聚合性化合物及光聚合引发剂。
[0377]
作为聚合性化合物，并没有限制，能够应用公知的聚合性化合物。作为聚合性化合物，例如可举出具有在上述“感光性层”的项中说明的烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(即，乙烯性不饱和化合物)。抗静电层中的乙烯性不饱和化合物的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的乙烯性不饱和化合物相同。
[0378]
作为光聚合引发剂，并没有限制，能够应用公知的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如可举出在上述“感光性层”的项中说明的光聚合引发剂。抗静电层中的光聚合引发剂的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的光聚合引发剂相同。
[0379]
在抗静电层含有酸值为60mgkoh/g以上的粘合剂聚合物的情况下，抗静电层优选为进一步含有聚合性化合物及光聚合引发剂作为固化成分。
[0380]
抗静电层可以含有单独一种聚合性化合物，或也可以含有两种以上的聚合性化合物。
[0381]
在抗静电层含有聚合性化合物的情况下，相对于抗静电层的总质量，聚合性化合物的含量优选为5质量％～60质量％，更优选为5质量％～50质量％，尤其优选为5质量％～45质量％。
[0382]
抗静电层可以含有单独一种光聚合引发剂，或也可以含有两种以上的光聚合引发剂。
[0383]
在抗静电层含有聚合性化合物的情况下，相对于抗静电层的总质量，光聚合引发剂的含量优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.1质量％～7.5质量％，尤其优选为0.1质量％～5质量％。
[0384]
‑
表面活性剂
‑
[0385]
作为表面活性剂，例如可举出在上述“感光性层”的项中说明的表面活性剂。抗静电层中的表面活性剂的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的表面活性剂相同。
[0386]
抗静电层可以含有单独一种表面活性剂，或也可以含有两种以上的表面活性剂。
[0387]
在抗静电层含有表面活性剂的情况下，相对于抗静电层的总质量，表面活性剂的含量优选为超过0质量％且为1质量％以下。
[0388]
(表面电阻值)
[0389]
抗静电层的表面电阻值优选为1.0
×
10
12
ω/
□
以下，更优选为1.0
×
10
11
ω/
□
以下，尤其优选为5.0
×
10
10
ω/
□
以下。通过抗静电层的表面电阻在上述范围内，能够降低抗静电层的表面电阻，因此能够抑制在剥离配置于抗静电层上的薄膜等时的静电的产生。
[0390]
抗静电层的表面电阻值的下限并没有限制。抗静电层的表面电阻值优选为1.0
×
106ω/
□
以上，更优选为1.0
×
107ω/
□
以上。
[0391]
抗静电层的表面电阻值使用电阻率计(mitsubishi chemical analytech co.,ltd.制造hiresta
‑
ux mcp
‑
ht800)进行测定。
[0392]
(抗静电层的厚度)
[0393]
抗静电层的厚度优选为1μm以下，更优选为0.6μm以下，进一步优选为0.4μm以下，尤其优选为0.2μm以下。通过抗静电层的厚度为1μm以下，能够减小雾度。
[0394]
抗静电层的厚度的下限并没有限制。抗静电层的厚度越小，越能够减小雾度。从制造适用性的观点而言，抗静电层的厚度优选为0.01μm以上。
[0395]
关于抗静电层的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0396]
(抗静电层的颜色)
[0397]
抗静电层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角：8
°
、光源：d
‑
65(2
°
视场))在cie1976(l
*
，a
*
，b
*
)色空间中，l
*
值优选为10～90，a
*
值优选为
‑
1.0～1.0，b
*
值优选为
‑
1.0～1.0。
[0398]
(抗静电层的形成方法)
[0399]
作为抗静电层的形成方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为抗静电层的形成方法，例如可举出使用抗静电层用组合物的方法。例如，在被涂布物(例如，感光性层)上涂布抗静电层用组合物，并且，根据需要，使其干燥，由此能够形成抗静电层。
[0400]
作为抗静电层用组合物的制造方法，例如可举出将上述各成分及溶剂进行混合的
方法。混合方法并没有限制，能够应用公知的方法。
[0401]
作为溶剂，并没有限制，能够应用公知的溶剂。作为溶剂，例如可举出水及在上述“感光性层的形成方法”的项中说明的有机溶剂。
[0402]
抗静电层用组合物可以含有单独一种溶剂，或也可以含有两种以上的溶剂。
[0403]
在抗静电层用组合物含有溶剂的情况下，相对于抗静电层用组合物的总质量，抗静电层用组合物的总固体成分量优选为0.5质量％～10质量％，更优选为0.5质量％～7质量％，尤其优选为0.5质量％～5质量％。
[0404]
作为涂布方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为涂布方法，例如可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘式涂布法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。上述中，作为涂布方法，优选为模涂法。
[0405]
作为干燥方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为干燥方法，例如可举出自然干燥、加热干燥及减压干燥。上述方法能够单独应用或组合多个来应用。
[0406]
[透明膜1]
[0407]
本发明的感光性转印膜优选为在上述感光性层的与配置有上述抗静电层的一侧相反的一侧进一步具有透明膜1。具体而言，本发明的感光性转印膜优选为依次具有透明膜1、感光性层及抗静电层。通过本发明的感光性转印膜具有透明膜1，至少能够支承感光性层及抗静电层，并且，能够保护感光性层。
[0408]
在本发明的感光性转印膜具有透明膜1的情况下，透明膜1优选为与相对于感光性层配置有抗静电层的一侧相反的一侧的最外层。
[0409]
作为透明膜1，并没有限制，能够应用公知的透明膜。作为透明膜1，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜、聚苯乙烯薄膜及聚碳酸酯薄膜。上述中，从光学特性的观点而言，透明膜1优选为聚丙烯薄膜、或聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
[0410]
透明膜1例如也能够作为oji f
‑
tex co.,ltd.制造的alphan(注册商标)fg
‑
201、toray advanced film co.,ltd.制造的therapel(注册商标)25wz、toray industries,inc.制造的lumirror(注册商标)16qs62及lumirror(注册商标)16fb40而获得。
[0411]
从操作容易性及通用性的观点而言，透明膜1的厚度优选为5μm～200μm，更优选为10μm～150μm，进一步优选为10μm～50μm。
[0412]
关于透明膜1的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0413]
为了容易地从感光性层剥离透明膜1，透明膜1与感光性层之间的接着力优选为小于透明膜2与抗静电层之间的接着力。
[0414]
并且，透明膜1优选为透明膜1中所含的直径80μm以上的鱼眼数为5个/m2以下。另外，“鱼眼”是指例如在通过材料的热熔、混炼、挤出、双轴延伸及浇铸制造薄膜时，材料的异物、未溶解物、氧化劣化物等进入薄膜中者。
[0415]
透明膜1中所含的直径3μm以上的粒子的数量优选为30个/mm2以下，更优选为10个/mm2以下，进一步优选为5个/mm2以下。由此，能够抑制通过起因于透明膜1中所含的粒子的凹凸转印至感光性层而产生的缺陷。
[0416]
从赋予卷绕性的观点而言，与和透明膜1的感光性层接触的表面相反的一侧的表面的算术平均粗糙度ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以
上。另一方面，上述算术平均粗糙度ra优选为小于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。
[0417]
从抑制转印时的缺陷的观点而言，与透明膜1的感光性层接触的表面的算术平均粗糙度ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，上述算术平均粗糙度ra优选为小于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。
[0418]
[透明膜2]
[0419]
本发明的感光性转印膜优选为在上述抗静电层的与配置有上述感光性层的一侧相反的一侧进一步具有透明膜2。具体而言，本发明的感光性转印膜优选为依次具有感光性层、抗静电层及透明膜2。通过本发明的感光性转印膜具有透明膜2，至少能够支承感光性层及抗静电层，并且，能够保护抗静电层。而且，通过本发明的感光性转印膜具有透明膜2，也能够如后述那样隔着透明膜2对感光性层进行曝光。
[0420]
在本发明的感光性转印膜具有透明膜2的情况下，透明膜2优选为与相对于抗静电层配置有感光性层的一侧相反的一侧的最外层。
[0421]
并且，在本发明的感光性转印膜具有透明膜1及透明膜2的情况下，本发明的感光性转印膜优选为依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2。
[0422]
参考图式对本发明的感光性转印膜的一实施方式进行说明。图1是示出本发明的感光性转印膜的一例的概略剖视图。图1所示的感光性转印膜110依次具有透明膜10、感光性层20、抗静电层30及透明膜40。透明膜10是透明膜1的一例。透明膜40是透明膜2的一例。
[0423]
作为透明膜2，并没有限制，能够应用公知的透明膜。作为透明膜2，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚苯乙烯薄膜及聚碳酸酯薄膜。上述中，从光学特性的观点而言，透明膜2优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
[0424]
透明膜2例如也能够作为cosmoshine(注册商标)a4100、cosmoshine(注册商标)a4300、cosmoshine(注册商标)a8300(以上，toyobo co.,ltd.制造)、toray industries,inc.制造的lumirror(注册商标)16fb40及toray industries,inc.制造的lumirror(注册商标)16qs62而获得。
[0425]
从操作容易性及通用性的观点而言，透明膜2的厚度优选为5μm～200μm，更优选为10μm～150μm，进一步优选为10μm～50μm。
[0426]
关于透明膜2的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0427]
从提高曝光灵敏度的观点而言，优选为透明膜2的雾度较小，更优选为2％以下，尤其优选为0.5％以下。从提高操作性的观点而言，透明膜2的雾度优选为0.1％以上。
[0428]
从提高曝光灵敏度及提高解析度的观点而言，透明膜2中所含的微粒、异物及缺陷(例如，针孔)的数量优选为较少。透明膜2中所含的直径1μm以上的微粒、异物及缺陷的数量优选为50个/10mm2以下，更优选为10个/10mm2以下。从提高操作性的观点而言，透明膜2中所含的直径1μm以上的微粒、异物及缺陷的数量优选为1个/10mm2以上。
[0429]
作为透明膜2的优选的方式，例如在日本特开2014
‑
085643号公报的[0017]段～[0018]段、日本特开2016
‑
027363号公报的[0019]段～[0026]段、国际公开第2012/081680号的[0041]段～[0057]段及国际公开第2018/179370号的[0029]段～[0040]段中有记载，
这些公报的内容被编入到本说明书中。
[0430]
并且，作为透明膜2的尤其优选的方式，能够举出厚度16μm的双轴延伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、厚度12μm的双轴延伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜及厚度10μm的双轴延伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
[0431]
[折射率调节层]
[0432]
本发明的感光性转印膜也可以进一步具有折射率调节层。在本发明的感光性转印膜具有折射率调节层的情况下，本发明的感光性转印膜优选为在上述感光性层的与配置有上述抗静电层的一侧相反的一侧具有折射率调节层。并且，在本发明的感光性转印膜具有透明膜1的情况下，折射率调节层优选为配置于透明膜1与感光性层之间。
[0433]
作为折射率调节层，并没有限制，能够应用公知的折射率调节层。作为折射率调节层中所含的材料，例如可举出粘合剂及粒子。
[0434]
作为粘合剂，并没有限制，能够应用公知的粘合剂。作为粘合剂，例如可举出在上述“感光性层”的项中说明的碱溶性丙烯酸系树脂及在上述“抗静电层”的项中说明的粘合剂聚合物。
[0435]
作为粒子，并没有限制，能够应用公知的粒子。作为粒子，例如可举出氧化锆粒子(zro2粒子)、氧化铌粒子(nb2o5粒子)、氧化钛粒子(tio2粒子)及二氧化硅粒子(sio2粒子)。
[0436]
并且，折射率调节层优选为含有金属氧化抑制剂。通过折射率调节层含有金属氧化抑制剂，能够抑制与折射率调节层接触的金属的氧化。
[0437]
作为金属氧化抑制剂，例如可优选地举出具有在分子内含有氮原子的芳香环的化合物。作为具体的金属氧化抑制剂，例如可举出咪唑、苯并咪唑、四唑、巯基噻二唑及苯并三唑。
[0438]
折射率调节层的折射率优选为1.50以上，更优选为1.55以上，尤其优选为1.60以上。
[0439]
折射率调节层的折射率的上限并没有特别限制。折射率调节层的折射率优选为2.10以下，更优选为1.85以下。
[0440]
折射率调节层的厚度优选为500nm以下，更优选为110nm以下，尤其优选为100nm以下。
[0441]
折射率调节层的厚度优选为20nm以上，更优选为50nm以上。
[0442]
关于折射率调节层的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0443]
作为折射率调节层的形成方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为折射率调节层的形成方法，例如可举出使用折射率调节层用组合物的方法。例如，能够通过在被涂布物上涂布折射率调节层用组合物，并且，根据需要，使其干燥来形成折射率调节层。
[0444]
作为折射率调节层用组合物的制造方法，例如可举出将上述各成分及溶剂进行混合的方法。混合方法并没有限制，能够应用公知的方法。
[0445]
作为溶剂，并没有限制，能够应用公知的溶剂。作为溶剂，例如可举出水及在上述“感光性层的形成方法”的项中说明的有机溶剂。
[0446]
作为涂布方法及干燥方法，能够分别应用在上述“感光性层的形成方法”的项中说明的涂布方法及干燥方法。
者。
[0465]
中间层例如能够通过将不溶解热塑性树脂层的溶剂及含有作为中间层的成分的上述聚合物的中间层形成用组合物涂布于被涂布物上，并且，根据需要，使其干燥来形成。
[0466]
中间层的形成方法中的涂布及干燥的方法的具体例分别与感光性层的形成方法中的涂布及干燥的具体例相同。
[0467]
[感光性转印膜的层结构]
[0468]
以下示出本发明的感光性转印膜的层结构的例子。另外，在以下所示的层结构中，“/”表示层与层的边界。
[0469]
(1)感光性层/抗静电层
[0470]
(2)透明膜1/感光性层/抗静电层
[0471]
(3)感光性层/抗静电层/透明膜2
[0472]
(4)透明膜1/感光性层/抗静电层/透明膜2
[0473]
(5)透明膜1/折射率调节层/感光性层/抗静电层/透明膜2
[0474]
(6)透明膜1/感光性层/抗静电层/热塑性树脂层/透明膜2
[0475]
(7)透明膜1/感光性层/抗静电层/中间层/热塑性树脂层/透明膜2
[0476]
[感光性转印膜的制造方法]
[0477]
本发明的感光性转印膜的制造方法并没有限制，能够应用公知的方法。本发明的感光性转印膜例如能够通过利用上述各层的形成方法来制造。
[0478]
以下，对依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2的感光性转印膜的制造方法的一例进行说明。上述感光性转印膜的制造方法例如包括在透明膜1上形成感光性层的工序、在上述感光性层上形成抗静电层的工序及在上述抗静电层上贴合透明膜2的工序。作为形成感光性层的工序，能够应用在上述“感光性层的形成方法”的项中说明的方法。并且，作为形成抗静电层的工序，能够应用在上述“抗静电层的形成方法”的项中说明的方法。
[0479]
在依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2的感光性转印膜的制造方法中，优选为包括在透明膜2上依次涂布抗静电层用组合物及感光性层用组合物的工序。通过在透明膜2上依次形成抗静电层及感光性层，能够容易地将未检测出抗静电剂的区域调节为上述范围。
[0480]
＜抗静电图案的制造方法＞
[0481]
只要是使用本发明的感光性转印膜的方法，则本发明的抗静电图案的制造方法并没有限制。本发明的抗静电图案的制造方法优选为依次包括在基材上依次层叠上述感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层的工序(以下，也称为“层叠工序”。)、对上述感光性层进行图案曝光的工序(以下，也称为“曝光工序”。)及对上述感光性层进行显影的工序(以下，也称为“显影工序”。)。本发明的抗静电图案的制造方法通过包括上述工序，能够形成抗静电层的图案化性优异，并且透明性及耐弯曲性优异的抗静电图案。
[0482]
[层叠工序]
[0483]
在层叠工序中，在基材上依次层叠上述感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层。
[0484]
作为在层叠工序中使用的感光性转印膜，能够应用在上述“感光性转印膜”的项中说明的感光性转印膜，优选的实施方式也相同。
[0485]
作为基材，优选为玻璃基材、或树脂基材。并且，基材优选为透明的基材，更优选为透明的树脂基材。
[0486]
作为玻璃基材，例如能够使用corning incorporated的gorilla玻璃(注册商标)等强化玻璃。
[0487]
作为树脂基材，优选为使用无光学应变的树脂基材及透明度高的树脂基材中的至少一个。作为构成树脂基材的树脂，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚碳酸酯(pc)、三乙酰纤维素(tac)、聚酰亚胺(pi)、聚苯并恶唑(pbo)及环烯烃聚合物(cop)。
[0488]
作为透明的基材的材质，优选为日本特开2010
‑
086684号公报、日本特开2010
‑
152809号公报及日本特开2010
‑
257492号公报中记载的材质。
[0489]
基材的折射率优选为1.50～1.52。
[0490]
基材的厚度并没有限制，例如根据用途，在10μm～1mm的范围内适当设定即可。
[0491]
关于基材的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)或光学显微镜的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0492]
基材可以在至少一个表面上具有电极层。作为电极层，可举出含有金属或金属氧化物的层。
[0493]
作为金属，例如可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰、以及由这些金属元素中的两种以上构成的合金。
[0494]
作为金属氧化物，例如可举出ito(氧化铟锡)及izo(氧化铟锌)。
[0495]
电极层优选为透明电极层。作为透明电极层，例如可举出含有ito(氧化铟锡)层、izo(氧化铟锌)层及银纳米线的层。上述中，透明电极层优选为含有ito(氧化铟锡)层或银纳米线的层，更优选为含有银纳米线的层。
[0496]
作为在基材上依次层叠感光性转印膜中的感光性层及抗静电层的方法，例如可举出贴合基材及感光性转印膜的方法(以下，也称为“层压”。)。作为具体的方法，例如可举出以感光性转印膜中的感光性层与基材接触的方式贴合基材及感光性转印膜的方法。通过上述方法贴合基材及感光性转印膜，由此形成依次具有基材、感光性层及抗静电层的结构体。
[0497]
在感光性转印膜具有上述透明膜1的情况下，在从感光性转印膜剥离透明膜1之后，贴合基材及感光性转印膜。具体而言，首先，通过从感光性转印膜剥离透明膜1而使感光性层露出，接着，以露出的感光性层与基材接触的方式贴合基材及感光性转印膜。
[0498]
在感光性转印膜具有上述透明膜2的情况下，能够不从感光性转印膜剥离透明膜2而贴合基材及感光性转印膜。并且，也可以在贴合基材及感光性转印膜之后，从所获得的结构体(例如，具有基材/感光性层/抗静电层/透明膜2的层叠结构的结构体)剥离透明膜2。并且，也可以不从结构体剥离透明膜2，即，在保留透明膜2的状态下，进行后述的曝光工序。
[0499]
在感光性转印膜具有除了感光性层及抗静电层以外的层(例如可举出折射率调节层、热塑性树脂层及中间层。以下，在本段中称为“其他层”。)的情况下，其他层维持感光性层与抗静电层的位置关系的同时，与感光性层及抗静电层一起层叠在基材上。例如，在感光性转印膜依次具有折射率调节层、感光性层及抗静电层的情况下，在层叠工序中，在基材上依次层叠折射率调节层、感光性层及抗静电层。
[0500]
能够使用公知的层压机来进行层压。作为层压机，例如可举出真空层压机及自动
切割层压机。
[0501]
作为层压条件，并没有限制，能够应用通常的条件。
[0502]
层压温度优选为80℃～150℃，更优选为90℃～150℃，尤其优选为100℃～150℃。在使用具备橡胶辊的层压机的情况下，层压温度是指橡胶辊的温度。
[0503]
层压时的基材温度并没有特别限制。作为层压时的基材温度，例如可举出10℃～150℃，优选为20℃～150℃，更优选为30℃～150℃。
[0504]
在使用树脂基材作为基材的情况下，作为层压时的基材温度，优选为10℃～80℃，更优选为20℃～60℃，尤其优选为30℃～50℃。
[0505]
作为层压时的线压，优选为0.5n/cm～20n/cm，更优选为1n/cm～10n/cm，尤其优选为1n/cm～5n/cm。
[0506]
作为层压时的输送速度(层压速度)，优选为0.5m/分钟～5m/分钟，更优选为1.5m/分钟～3m/分钟。
[0507]
[曝光工序]
[0508]
在曝光工序中，对上述感光性层进行图案曝光。其中，“图案曝光”是指以图案状进行曝光的方式，即，具有曝光部和非曝光部的方式的曝光。通过对感光性层进行图案曝光，感光性层中的曝光部固化。另一方面，感光性层中的非曝光部不固化，在后述的显影工序中被去除。并且，在抗静电层含有固化成分的情况下，抗静电层中的曝光部也固化。
[0509]
图案曝光可以是隔着掩模的曝光，或也可以是使用激光等的数字曝光。
[0510]
作为图案曝光的光源，只要能够至少照射能够固化感光性层的波长区域的光(例如，365nm或405nm)，则能够适当选定而使用。
[0511]
作为光源，例如可举出各种激光、发光二极管(led)、超高压水银灯、高压水银灯及金属卤化物灯。
[0512]
曝光量优选为5mj/cm2～200mj/cm2，更优选为10mj/cm2～200mj/cm2。
[0513]
作为图案的形状，并没有限制，例如根据用途适当设定即可。
[0514]
在上述层叠工序中使用具有透明膜2的感光性转印膜的情况下，可以在剥离透明膜2之后进行图案曝光，也可以在剥离透明膜2之前进行图案曝光，然后剥离透明膜2。
[0515]
并且，在曝光工序中，也可以在图案曝光之后且在后述的显影工序之前对感光性层进行热处理〔所谓的peb(曝光后烘烤，post exposure bake)〕。
[0516]
[显影工序]
[0517]
在显影工序中，对上述感光性层进行显影。通过对感光性层进行显影，感光性层中的非曝光部被去除，并且感光性层中的配置于非曝光部上的抗静电层也被去除。其结果，在固化而成的感光性层的图案(即，抗蚀剂图案)上形成图案状的抗静电层(即，抗静电图案)。因此，通过本发明的抗静电图案的制造方法形成的抗静电图案能够防止固化而成的感光性层的图案的带电。
[0518]
作为用于显影的显影液，并没有限制，能够应用公知的显影液。作为显影液，可举出日本特开平5
‑
072724号公报中记载的显影液。
[0519]
在显影工序中，作为显影液，优选为使用碱性水溶液。作为能够在碱性水溶液中含有的碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵及胆碱(2
‑
羟乙基三甲
基氢氧化铵)。
[0520]
碱性水溶液在25℃下的ph优选为8～13，更优选为9～12，尤其优选为10～12。
[0521]
相对于碱性水溶液的总质量，碱性水溶液中的碱性化合物的含量优选为0.1质量％～5质量％，更优选为0.1质量％～3质量％。
[0522]
显影液可以含有对水具有混和性的有机溶剂。作为有机溶剂，例如可举出甲醇、乙醇、2
‑
丙醇、1
‑
丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε
‑
己内酯、γ
‑
丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε
‑
己内酰胺及n
‑
甲基吡咯烷酮。
[0523]
显影液中的有机溶剂的浓度优选为0.1质量％～30质量％。
[0524]
显影液可以含有公知的表面活性剂。显影液中的表面活性剂的浓度优选为0.01质量％～10质量％。
[0525]
显影液的液体温度优选为20℃～40℃。
[0526]
作为显影的方式，例如可举出旋覆浸没显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸涂显影等方式。
[0527]
在进行喷淋显影的情况下，通过在图案曝光后的感光性层上以喷淋状喷吹显影液，去除感光性层的非曝光部。
[0528]
在使用具有感光性层和热塑性树脂层及中间层中的至少一个的感光性转印膜的情况下，可以在层叠工序之后且在感光性层的显影之前，喷淋状喷吹感光性层的溶解性低的碱性液体，预先去除热塑性树脂层及中间层中的至少一个(两个均存在时就去除两个)。
[0529]
并且，优选为在显影之后，在将洗涤剂等通过喷淋喷吹的同时，利用刷子等擦拭，由此去除显影残渣。
[0530]
显影工序可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影而得的图案进行加热处理(以下，也称为“后烘烤”。)的阶段。通过上述后烘烤，也能够调整透明电极层的电阻值。在基材为树脂基材的情况下，后烘烤的温度优选为100℃～160℃，更优选为130℃～160℃。
[0531]
在感光性层含有具有羧基的(甲基)丙烯酸树脂的情况下，能够通过后烘烤使上述(甲基)丙烯酸树脂中的至少一部分变化为羧酸酐。当变化为羧酸酐时，显影性及固化膜的强度优异。
[0532]
显影工序也可以包括进行上述显影的阶段和对通过上述显影而得的图案进行曝光(以下，也称为“后曝光”。)的阶段。在显影工序包括进行后曝光的阶段及进行后烘烤的阶段这两者的情况下，优选为在后曝光之后实施后烘烤。
[0533]
关于图案曝光、显影等，例如也能够参考日本特开2006
‑
023696号公报的[0035]段～[0051]段的记载。
[0534]
本发明的抗静电图案的制造方法也可以包括除了上述各工序以外的工序。本发明的抗静电图案的制造方法例如也可以包括在通常的光刻工序中设置的工序(例如，洗涤工序)。
[0535]
＜层叠体＞
[0536]
本发明的层叠体依次具有基材、透明电极层、具有图案形状的感光性组合物的固化物层及具有与上述固化物层的上述图案形状相同的图案形状的抗静电层。通过本发明的层叠体具有上述结构，防止图案状的电极保护膜(即，感光性组合物的固化物层)的带电。
[0537]
(基材)
[0538]
本发明的层叠体具有基材。
[0539]
作为基材，并没有限制，能够应用公知的基材。作为基材，例如可举出在上述“抗静电图案的制造方法”的项中说明的基材。本发明的层叠体中的基材的优选的实施方式与在上述“抗静电图案的制造方法”的项中说明的基材相同。
[0540]
基材的厚度并没有限制，例如在10μm～1mm的范围内适当设定即可。
[0541]
关于基材的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0542]
(透明电极层)
[0543]
本发明的层叠体具有透明电极层。
[0544]
作为透明电极层，并没有限制，能够应用公知的透明电极层。作为透明电极层，例如可举出ito(氧化铟锡)层、izo(氧化铟锌)层、铜层及含有银纳米线的层。上述中，透明电极层优选为含有ito(氧化铟锡)层或银纳米线的层，更优选为含有银纳米线的层。
[0545]
从导电性及透明性的观点而言，透明电极层的厚度优选为0.01μm～1μm，更优选为0.03μm～0.5μm。
[0546]
关于透明电极层的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0547]
作为透明电极层的形成方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为透明电极层的形成方法，例如可举出溅射法及涂布法。
[0548]
(感光性组合物的固化物层)
[0549]
本发明的层叠体具备具有图案形状的感光性组合物的固化物层(以下，也简称为“固化物层”。)。在本发明的层叠体中，固化物层能够作为保护透明电极层的层即电极保护膜发挥作用。
[0550]
在本发明中，“感光性组合物的固化物层”是指感光性组合物固化而成的层。在感光性组合物含有溶剂的情况下，“感光性组合物的固化物层”是指感光性组合物的固体成分固化而成的层。
[0551]
将感光性组合物作为前驱物的固化物层含有构成后述的感光性组合物的成分。感光性组合物中所含的固化性的成分(例如，聚合性化合物)能够在固化物层中例如作为聚合固化物而存在。并且，只要在不妨碍本发明的层叠体的效果的范围内，固化物层也可以含有固化感光性组合物的成分(例如，聚合性化合物及光聚合引发剂)及溶剂。
[0552]
固化物层优选为含有丙烯酸树脂。通过固化物层含有丙烯酸树脂，能够提高透明性。
[0553]
丙烯酸树脂中的来自于(甲基)丙烯酸的构成单元及来自于(甲基)丙烯酸酯的构成单元的总比例优选为30摩尔％以上，更优选为50摩尔％以上。
[0554]
固化物层中的丙烯酸树脂也可以是碱溶性丙烯酸系树脂。通过丙烯酸树脂是碱溶性丙烯酸系树脂，例如，如后述那样能够提高经过图案曝光及显影形成具有图案形状的固化物层时的显影性。
[0555]
固化物层中的碱溶性丙烯酸系树脂的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的碱溶性丙烯酸系树脂相同。
[0556]
固化物层可以含有单独一种丙烯酸树脂，或也可以含有两种以上的丙烯酸树脂。
[0557]
从透明性的观点而言，相对于固化物层的总质量，丙烯酸树脂的含量优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为30质量％～70质量％。
[0558]
作为固化物层的图案形状，并没有限制，例如根据用途适当设定即可。作为图案形状，例如可举出直线状、曲线状、金刚石形状及格子状。
[0559]
固化物层的厚度优选为10μm以下，更优选为8μm以下，进一步优选为5μm以下，尤其优选为4μm以下。通过感光性层的厚度为10μm以下，能够提高耐弯曲性。
[0560]
从制造适用性的观点而言，固化物层的厚度优选为0.05μm以上。
[0561]
关于固化物层的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0562]
作为固化物层的形成方法，只要是固化感光性组合物的方法，则并没有限制。作为固化物层的形成方法，例如可举出对通过在基材上涂布感光性组合物而形成的层(以下，也称为“感光性组合物层”。)进行图案曝光，接着，进行显影的方法。在上述方法中，优选为与抗静电层一起对感光性组合物层进行图案曝光及显影。并且，在感光性组合物含有溶剂的情况下，优选为在感光性组合物的涂布后且在图案曝光前使感光性组合物干燥。
[0563]
作为感光性组合物，只要是含有固化性的成分的组合物，则并没有限制。感光性组合物优选为含有丙烯酸树脂、聚合性化合物及光聚合引发剂。含有聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性组合物能够通过照射光而固化。
[0564]
感光性组合物中的丙烯酸树脂作为固化物层的一种成分如上述说明，优选的实施方式也相同。
[0565]
作为聚合性化合物，并没有限制，能够应用公知的聚合性化合物。作为聚合性化合物，例如可举出具有在上述“感光性层”的项中说明的烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(即，乙烯性不饱和化合物)。感光性组合物中的乙烯性不饱和化合物的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的乙烯性不饱和化合物相同。
[0566]
作为光聚合引发剂，并没有限制，能够应用公知的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如可举出在上述“感光性层”的项中说明的光聚合引发剂。感光性组合物中的光聚合引发剂的优选的实施方式与在上述“感光性层”的项中说明的光聚合引发剂相同。
[0567]
根据需要，感光性组合物也可以含有溶剂。作为溶剂，例如能够应用在上述“感光性层的形成方法”的项中说明的溶剂。
[0568]
感光性组合物也可以根据需要，含有在上述“感光性层”的项中说明的各成分(例如，表面活性剂)作为除了上述以外的成分。
[0569]
感光性组合物的制造方法并没有限制，能够应用公知的方法。例如，感光性组合物能够通过上述各成分及根据需要混合溶剂来制造。
[0570]
作为涂布方法及干燥方法，能够分别应用在上述“感光性层的形成方法”的项中说明的涂布方法及干燥方法。
[0571]
作为图案曝光方法及显影方法，能够分别应用在上述“抗静电图案的制造方法”的项中说明的图案曝光方法及显影方法。
[0572]
并且，作为固化物层的形成方法，如后述那样，还可以举出使用本发明的感光性转印膜的方法。
[0573]
(抗静电层)
[0574]
本发明的层叠体包含具有与上述固化物层的上述图案形状相同的图案形状的抗静电层。通过本发明的层叠体包含具有与固化物层的图案形状相同的图案形状的抗静电层，防止图案状的电极保护膜(即，感光性组合物的固化物层)的带电。
[0575]
在本发明中，“相同的图案形状”这一用语并不限于完全相同的图案形状的情况，在发挥本发明的层叠体的效果的范围内，包括例如由于制造上的误差等而图案形状不完全一致的情况。
[0576]
作为本发明的层叠体中的抗静电层，例如能够应用在上述“感光性转印膜”的项中说明的抗静电层。本发明的层叠体中的抗静电层的优选的实施方式与在上述“感光性转印膜”的项中说明的抗静电层相同。以下，对抗静电层的优选的实施方式进行说明。但是，抗静电层的优选的实施方式并不限制于以下实施方式，能够适当应用在上述“感光性转印膜”的项中说明的抗静电层的优选的实施方式。
[0577]
抗静电层优选为含有选自由离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及导电聚合物的组成组中的至少一种化合物作为抗静电剂。离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及导电聚合物的含义分别与在上述“感光性转印膜”的项中说明的离子性液体、离子传导聚合物、离子传导填料及导电聚合物的含义相同。
[0578]
抗静电剂优选为在从固化物层的与抗静电层相反的一侧的表面至固化物层及抗静电层的总厚度的40％为止的区域中未检测出，更优选为在80％为止的区域中未检测出，尤其优选为在90％为止的区域中未检测出。未检测出抗静电剂的区域通过依照在上述“感光性转印膜”的项中说明的测定方法的方法(即，tof
‑
sims)来进行测定。在本发明的层叠体中，在通过tof
‑
sims对未检测出抗静电剂的区域进行测定的情况下，优选为从抗静电层的表面朝向固化物层，对起因于在抗静电层及固化物层的深度方向上存在的分子的特异的碎片离子的峰强度进行测定。
[0579]
抗静电层的表面电阻值优选为1.0
×
10
12
ω/
□
以下，更优选为1.0
×
10
11
ω/
□
以下，尤其优选为5.0
×
10
10
ω/
□
以下。通过抗静电层的表面电阻在上述范围内，能够降低抗静电层的表面电阻，因此能够抑制在剥离配置于抗静电层上的薄膜等时的静电的产生。
[0580]
抗静电层的表面电阻值的下限并没有限制。抗静电层的表面电阻值优选为1.0
×
106ω/
□
以上，更优选为1.0
×
107ω/
□
以上。
[0581]
抗静电层的表面电阻值使用电阻率计(mitsubishi chemical analytech co.,ltd.制造hiresta
‑
ux mcp
‑
ht800)进行测定。
[0582]
抗静电层的厚度优选为1μm以下，更优选为0.6μm以下，进一步优选为0.4μm以下，尤其优选为0.2μm以下。通过抗静电层的厚度为1μm以下，能够减小雾度。
[0583]
抗静电层的厚度的下限并没有限制。抗静电层的厚度越小，越能够减小雾度。从制造适用性的观点而言，抗静电层的厚度优选为0.01μm以上。
[0584]
关于抗静电层的厚度，计算通过利用扫描式电子显微镜(sem)的截面观察而测定的任意5处的平均值而得。
[0585]
作为抗静电层的形成方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为抗静电层的形成方法，例如可举出使用抗静电层用组合物的方法。例如，在感光性组合物层上涂布抗静电层用组合物，并且，根据需要，使其干燥之后，进行图案曝光及显影，由此能够形成具有图案
形状的抗静电层。
[0586]
关于抗静电层用组合物，如在上述“抗静电层的形成方法”中所说明。
[0587]
作为涂布方法及干燥方法，能够分别应用在上述“抗静电层的形成方法”的项中说明的涂布方法及干燥方法。
[0588]
作为图案曝光方法及显影方法，能够分别应用在上述“抗静电图案的制造方法”的项中说明的图案曝光方法及显影方法。
[0589]
并且，作为固化物层的形成方法，如后述那样，还可以举出使用本发明的感光性转印膜的方法。
[0590]
(其他层)
[0591]
本发明的层叠体也可以进一步具有除了上述层以外的层(以下，在本段中称为“其他层”。)。作为其他层，例如可举出折射率调节层。折射率调节层优选为配置于透明电极层与固化物层之间。关于折射率调节层，如在上述“折射率调节层”的项中所说明。
[0592]
(层叠体的颜色)
[0593]
本发明的层叠体优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8
°
、光源：d
‑
65(2
°
视场))在cie1976(l
*
，a
*
，b
*
)色空间中，l
*
值优选为10～90，a
*
值优选为
‑
1.0～1.0，b
*
值优选为
‑
1.0～1.0。
[0594]
(层叠体的制造方法)
[0595]
本发明的层叠体的制造方法并没有限制，能够应用公知的方法。本发明的层叠体例如能够通过利用上述各层的形成方法来制造。
[0596]
作为本发明的层叠体的制造方法，优选为使用本发明的感光性转印膜的方法。作为使用感光性转印膜制造层叠体的方法，例如可举出进行在上述“抗静电图案的制造方法”的项中说明的层叠工序、曝光工序及显影工序的方法。在层叠工序中，例如通过贴合形成于基材上的透明电极层和感光性转印膜，形成依次具有基材、透明电极层、感光性层及抗静电层的结构体。能够通过对所获得的结构体进行图案曝光，接着进行显影来获得层叠体。
[0597]
＜触控面板＞
[0598]
本发明的触控面板具备本发明的层叠体。通过本发明的触控面板具备上述层叠体，防止图案状的电极保护膜带电。
[0599]
本发明的触控面板中的层叠体的含义与在上述“层叠体”的项中说明的层叠体的含义相同，优选的实施方式也相同。
[0600]
在本发明的触控面板中，透明电极层可以形成配置于触控面板的框部的引绕布线(所谓的引出布线)，或也可以形成配置于触控面板的视觉辨认部的电极。层叠体中的透明电极层优选为形成配置于触控面板的视觉辨认部的电极。
[0601]
本发明的触控面板可以在透明电极层的与配置有基材的表面相反的一侧的表面上具有引绕布线。并且，本发明的触控面板也可以在基材与透明电极层之间具有引绕布线。
[0602]
作为引绕布线的材料，优选为金属。作为金属，例如可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰、以及由这些金属元素中的两种以上构成的合金。上述中，作为金属，优选为铜、钼、铝、或钛，从电阻低的方面而言，更优选为铜。另一方面，铜容易被氧化而变色，因此优选为利用后述的处理液进行处理。
[0603]
作为本发明的触控面板的检测方法，例如可举出电阻膜方式、静电电容方式、超音
波方式、电磁感应方式及光学方式。上述中，检测方法优选为静电电容方式。
[0604]
作为触控面板型，例如可举出所谓的内嵌型(例如，日本特表2012
‑
517051号公报的图5、图6、图7、图8中记载)、所谓的外嵌型(例如，日本特开2013
‑
168125号公报的图19中记载、日本特开2012
‑
089102号公报的图1及图5中记载)、ogs(one glass solution)型、tol(touch
‑
on
‑
lens)型(例如，日本特开2013
‑
054727号公报的图2中记载)、其他结构(例如，日本特开2013
‑
164871号公报的图6中记载)及各种外嵌型(所谓的gg、g1
·
g2、gff、gf2、gf1、g1f等)。
[0605]
其中，参考图2对本发明的触控面板的第1具体例进行说明。图2是示出本发明的触控面板的第1具体例的概略剖视图。
[0606]
如图2所示，触控面板90具有图像显示区域74及图像非显示区域75(即，框部)。
[0607]
触控面板90在基板50的两面分别具有触控面板用透明电极。详细而言，触控面板90在基板50的一个表面上具有第1触控面板用透明电极70，在基板50的另一表面上具有第2触控面板用透明电极72。
[0608]
在触控面板90的图像非显示区域75中，第1触控面板用透明电极70及第2触控面板用透明电极72分别连接有引绕布线56。作为引绕布线56，例如可举出铜布线或银布线。
[0609]
在触控面板90中，在基板50的一个表面上，以覆盖第1触控面板用透明电极70及引绕布线56的方式配置有固化物层22，在基板50的另一表面上，以覆盖第1触控面板用透明电极72及引绕布线56的方式配置有固化物层22。
[0610]
在触控面板90中在固化物层22的与配置有基板50的表面相反的一侧的表面上配置有抗静电层30。
[0611]
在触控面板90中，也可以在基板50的一个表面上配置有折射率调节层。
[0612]
接着，参考图3对本发明的触控面板的第2具体例进行说明。图3是示出本发明的触控面板的第2具体例的概略剖视图。
[0613]
如图3所示，触控面板92具有图像显示区域74及图像非显示区域75(即，框部)。
[0614]
在触控面板92的图像显示区域74中，在基板50的一个表面上配置有第1触控面板用透明电极70，在基板50的另一表面上配置有第2触控面板用透明电极72。
[0615]
在触控面板92的图像非显示区域75中，在基板50的两面分别配置有引绕布线56。作为引绕布线56，例如可举出铜布线或银布线。引绕布线56以被固化物层22及第1触控面板用透明电极70或第2触控面板用透明电极72包围的方式配置。
[0616]
在触控面板92的图像非显示区域75中，第1触控面板用透明电极70与配置于基板50的一个表面上的引绕布线56连接，第2触控面板用透明电极72与配置于基板50的另一表面上的引绕布线56连接。
[0617]
在触控面板92中，在基板50的一个表面上，以覆盖第1触控面板用透明电极70的方式配置有固化物层22，在基板50的另一表面上，以覆盖第2触控面板用透明电极72的方式配置有固化物层22。固化物层22作为电极的保护膜发挥作用。
[0618]
在触控面板92中，在固化物层22的与配置有基板50的表面相反的一侧的表面配置有抗静电层30。
[0619]
在触控面板92中，也可以在基板50的一个表面上配置有折射率调节层。
[0620]
[触控面板的制造方法]
[0621]
作为本发明的触控面板的制造方法，并没有限制，能够应用公知的方法。在本发明的触控面板的制造方法中，例如能够应用本发明的抗静电图案的制造方法。例如，在至少一个表面上具有透明电极层的基材上贴合本发明的感光性转印膜之后，进行图案曝光及显影，由此能够制造本发明的触控面板。
[0622]
以下，对本发明的触控面板的优选的制造方法进行说明。
[0623]
本发明的触控面板的制造方法的第1实施方式依次包括：准备基材的工序；使用银导电性材料在上述基材上形成触控面板用透明电极的工序；在上述触控面板用透明电极上形成金属层的工序；使用含有选自由咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物组成的组中的至少一种唑化合物(以下，有时称为“特定唑化合物”。)的处理液对上述金属层进行处理的工序；从上述金属层形成引绕布线的工序；在上述基材的配置有上述引绕布线及上述触控面板用透明电极的面侧依次层叠本发明的感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层的工序；对上述感光性层和上述抗静电层进行图案曝光的工序；及对上述感光性层和上述抗静电层进行显影而形成图案的工序。本发明的触控面板的制造方法的第1实施方式通过包括上述工序，能够制造能够防止图案状的电极保护膜带电的触控面板。并且，根据本发明的触控面板的制造方法的第1实施方式，通过使用含有特定唑化合物的处理液对金属层进行处理，能够抑制引绕布线(尤其，含有铜的引绕布线)的变色。
[0624]
作为基材，例如能够应用在上述“抗静电图案的制造方法”的项中说明的基材。
[0625]
作为银导电性材料，只要是含有银的导电性材料，则并没有限制。银导电性材料优选为含有银纳米线。
[0626]
作为使用银导电性材料形成触控面板用透明电极的方法，例如，可举出光刻法。例如，通过光刻法对配置于基材上的银导电性材料进行加工，由此能够形成触控面板用透明电极。
[0627]
作为形成金属层的方法，并没有限制，能够应用公知的方法。作为形成金属层的方法，例如可举出溅射法及涂布法。
[0628]
作为金属层中所含的金属，例如可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰、以及由这些金属元素中的两种以上构成的合金。上述中，作为金属层中所含的金属，优选为铜、钼、铝、或钛，从电阻低的方面而言，更优选为铜。
[0629]
作为特定唑化合物，并没有特别限制。从进一步抑制金属层(尤其，含有铜的金属层)的变色的观点而言，特定唑化合物的共轭酸的pka优选为4.00以下，更优选为2.00以下。特定唑化合物的共轭酸的pka的下限并没有特别限制。另外，本说明书中的共轭酸的pka是通过acd/chemsketch(acd/labs 8.00 release product version：8.08)求出的计算值。
[0630]
特定唑化合物的分子量并没有特别限制，例如优选为1,000以下。
[0631]
作为特定唑化合物的具体例，可优选地应用在上述“感光性层”的项中说明的杂环化合物。在这些中，作为特定唑化合物，从进一步抑制金属层(尤其，含有铜的金属层)的变色的观点而言，优选为选自由三唑化合物及四唑化合物组成的组中的至少一种唑化合物，更优选为选自由1,2,3
‑
三唑、1,2,4
‑
三唑、1,2,3
‑
苯并三唑及5
‑
氨基
‑
1h
‑
四唑组成的组中的至少一种唑化合物，进一步优选为选自由1,2,4
‑
三唑及5
‑
氨基
‑
1h
‑
四唑组成的组中的至少一种唑化合物。
[0632]
处理液可以仅含有一种特定唑化合物，或也可以含有两种以上的特定唑化合物。
[0633]
相对于处理液的总质量，处理液中的特定唑化合物的含有率优选为0.005质量％以上，更优选为0.008质量％以上为，进一步优选为0.01质量％以上。处理液中的特定唑化合物的含有率的上限并没有特别限制。从特定唑化合物的溶解性的方面而言，相对于处理液的总质量，处理液中的特定唑化合物的含有率优选为5质量％以下。
[0634]
处理液优选为含有水。作为水并没有特别限制，但优选为不含有杂质。作为水的例子，可举出蒸馏水、离子交换水、纯水等。处理液中的水的含有率并没有特别限制，例如相对于处理液的总质量，优选为70质量％以上且99.9质量％以下，更优选为90.0质量％以上且99.9质量％以下，进一步优选为95.0质量％以上且99.9质量％以下，尤其优选为98.0质量％以上且99.9质量％以下。
[0635]
处理液也可以含有相对于水具有混和性的有机溶剂。作为有机溶剂，例如可举出甲醇、乙醇、2
‑
丙醇、1
‑
丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε
‑
己内酯、γ
‑
丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε
‑
己内酰胺及n
‑
甲基吡咯烷酮等。在处理液含有有机溶剂的情况下，相对于处理液的总质量，处理液中的有机溶剂的含有率优选为0.1质量％以上且30质量％以下。
[0636]
处理液也可以含有公知的表面活性剂。在处理液含有表面活性剂的情况下，相对于处理液的总质量，处理液中的表面活性剂的含有率优选为0.01质量％以上且10质量％以下。
[0637]
作为使用处理液的处理的方式，例如可举出旋覆浸没处理、喷淋处理、喷淋、旋转处理、浸涂处理等方式。
[0638]
处理液的温度优选为20℃～40℃。
[0639]
作为由金属层形成引绕布线的方法，例如可举出光刻法。例如，通过光刻法对金属层进行加工，由此能够形成引绕布线。
[0640]
作为在基材的配置有引绕布线及触控面板用透明电极的面侧依次层叠感光性转印膜中的感光性层及抗静电层的工序的方法及条件，能够应用在上述“层叠工序”的项中说明的方法及条件。通过在基材的配置有引绕布线及触控面板用透明电极的面侧依次层叠感光性转印膜中的感光性层及抗静电层，感光性层及抗静电层以覆盖引绕布线及触控面板用透明电极的方式层叠于基材上。
[0641]
作为对感光性层和抗静电层进行图案曝光的工序的方法及条件，能够应用在上述“曝光工序”的项中说明的方法及条件。
[0642]
作为对感光性层和抗静电层进行显影而形成图案的工序的方法及条件，能够应用在上述“显影工序”的项中说明的方法及条件。
[0643]
本发明的触控面板的制造方法的第2实施方式依次包括：准备基材的工序；在上述基材上形成金属层的工序；使用含有选自由咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物组成的组中的至少一种唑化合物的处理液对上述金属层进行处理的工序；从上述金属层形成引绕布线的工序；使用银导电性材料在上述引绕布线上形成触控面板用透明电极的工序；在上述基材的配置有上述引绕布线及上述触控面板用透明电极的面侧依次层叠本发明的感光性转印膜中的上述感光性层及上述抗静电层的工序；对上述感
光性层和上述抗静电层进行图案曝光的工序；及对上述感光性层和上述抗静电层进行显影而形成图案的工序。本发明的触控面板的制造方法的第2实施方式通过包括上述工序，能够制造能够防止图案状的电极保护膜带电的触控面板。并且，根据本发明的触控面板的制造方法的第2实施方式，通过使用含有特定唑化合物的处理液对金属层进行处理，能够抑制引绕布线(尤其，含有铜的引绕布线)的变色。
[0644]
本发明的触控面板的制造方法的第2实施方式在上述本发明的触控面板的制造方法的第1实施方式中变更了形成触控面板用透明电极及引绕布线的顺序。即，在本发明的触控面板的制造方法的第2实施方式中，在基材上依次形成引绕布线及触控面板用透明电极，相对于此，在本发明的触控面板的制造方法的第1实施方式中，在基材上依次形成触控面板用透明电极及引绕布线。作为本发明的触控面板的制造方法的第2实施方式的各工序的方法及条件，能够应用上述本发明的触控面板的制造方法的第1实施方式的方法及条件。
[0645]
＜带触控面板的显示装置＞
[0646]
本发明的带触控面板的显示装置具备本发明的触控面板和显示装置。通过本发明的带触控面板的显示装置具备上述触控面板及显示装置，能够防止图案状的电极保护膜带电。
[0647]
并且，本发明的带触控面板的显示装置经由触控面板显示图像，并且能够在触控面板上进行操作。
[0648]
本发明的带触控面板的显示装置中的层叠体的含义与在上述“层叠体”的项中说明的层叠体的含义相同，优选的实施方式也相同。
[0649]
本发明的带触控面板的显示装置中的触控面板如在上述“触控面板”的项中所说明。
[0650]
作为本发明的带触控面板的显示装置中的显示装置，并没有限制，能够应用公知的显示装置。作为显示装置，例如可举出液晶显示装置及有机el(电致发光，electro luminescence)显示装置。
[0651]
作为本发明的带触控面板的显示装置的制造方法，并没有限制，能够应用公知的方法。
[0652]
实施例
[0653]
以下举出实施例对本发明进一步具体地进行说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等，只要不脱离本发明的趣旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要没有特别说明，“部”及“％”以质量基准。另外，在以下实施例中，树脂的重均分子量是利用凝胶渗透色谱法(gpc)以聚苯乙烯换算求出的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。
[0654]
＜聚合物p
‑
1～p
‑
6的合成＞
[0655]
分别合成了下述聚合物p
‑
1～p
‑
6。下述聚合物p
‑
1～p
‑
6中的各构成单元的比是摩尔比。
[0656]
聚合物p
‑
1：具有下述所示的结构的聚合物(重均分子量：30,000、碱溶性丙烯酸系树脂)
[0657]
[化学式18]
[0658][0659]
聚合物p
‑
2：具有下述所示的结构的聚合物(重均分子量：30,000、碱溶性丙烯酸系树脂)
[0660]
[化学式19]
[0661][0662]
聚合物p
‑
3：具有下述所示的结构的聚合物(重均分子量：29,000、碱溶性丙烯酸系树脂)
[0663]
[化学式20]
[0664][0665]
聚合物p
‑
4：具有下述所示的结构的聚合物(重均分子量：29,000、碱溶性丙烯酸系树脂)
[0666]
[化学式21]
[0667][0668]
聚合物p
‑
5：具有下述所示的结构的聚合物(重均分子量：30,000、碱溶性丙烯酸系树脂)
[0669]
[化学式22]
[0670][0671]
聚合物p
‑
6：具有下述所示的结构的聚合物(重均分子量：30,000)
[0672]
[化学式23]
[0673][0674]
＜聚合物p
‑
7的合成＞
[0675]
反应器(带搅拌机、回流冷却器及氮导入管)中，在氮氛围下，在n,n
‑
二甲基乙酰胺700g及二乙二醇二甲基醚350g中溶解1,3
‑
双(3
‑
氨基苯氧基)苯173.2g(0.593摩尔)，接着，一边搅拌所获得的溶液一边少量地添加干燥固体的均苯四甲酸二酐126.8g(0.582摩尔、摩尔比：0.981)。将添加上述均苯四甲酸二酐期间的反应液的温度保持在25～30℃，并且添加后在氮氛围下继续搅拌20小时，由此获得了固体成分为22.2质量％的聚酰胺酸的聚合物p
‑
7溶液。
[0676]
＜聚合物p
‑
8的合成＞
[0677]
反应器(带搅拌机、回流冷却器、滴加漏斗及氮导入管)中，在氮氛围下，一边搅拌均苯四甲酸二酐(daicel corporation制造)15.3g及n,n
‑
二甲基乙酰胺(daicel corporation制造)75g一边将内部温度升温至50℃。在将上述各成分的混合物的温度调节至50℃之后，用2小时少量地从滴加漏斗滴加聚丙二醇二胺(jeffamind400、santechno chemical co.,ltd.制造)6.36g。滴加结束后，在50℃下继续搅拌了1小时。然后，将反应液的温度冷却至30℃以下，接着，添加1,3
‑
双(3
‑
氨基苯氧基)苯(三井化学株式会社制造)16.4g之后，在氮氛围下继续搅拌20小时，由此获得了固体成分为33.7质量％的聚酰胺酸的聚合物p
‑
8溶液。
[0678]
＜聚合物p
‑
9的合成＞
[0679]
将丙二醇单甲醚82.4g加入烧瓶中，并在氮气流下加热至90℃。同时用3小时向该液体中滴加将苯乙烯38.4g、甲基丙烯酸二环戊基酯30.1g、甲基丙烯酸34.0g溶解于丙二醇单甲醚20g中的溶液及将聚合引发剂v
‑
601(fujifilm wako pure chemical corporation制造)5.4g溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯43.6g中的溶液。滴加结束后，每隔1小时添加3次0.75g的v
‑
601。然后，使其进一步反应3小时。然后，用丙二醇单甲醚乙酸酯58.4g、丙二醇单甲醚11.7g进行了稀释。在空气气流下，将反应液升温至100℃，添加了乙酸四乙铵0.80g、对
甲氧基苯酚0.26g。用20分钟向其中滴加了甲基丙烯酸环氧丙酯(nofcorporation制blemmer gh)25.5g。使其在100℃下反应7小时，从而获得了碱溶性丙烯酸聚合物p
‑
9的溶液。所获得的溶液的固体成分浓度为36.2％。将所获得的聚合物p
‑
9的溶液进行干燥，使溶剂蒸发，并且用丙二醇单甲醚乙酸酯再溶解而获得了固体成分浓度27.0质量％的聚合物p
‑
9的溶液。gpc中的标准聚苯乙烯换算的重均分子量为17000，分散度为2.4，聚合物的酸值为94mgkoh/g。使用气相色谱法进行测定的残留单体量在任何单体中，相对于聚合物固体成分均为小于0.1质量％。
[0680]
＜感光性层用组合物的制备＞
[0681]
分别制备了下述表1～表3所示的组合的感光性层用组合物a
‑
1～a
‑
31。在表1～表3中，在各成分的栏中记载的数值的单位为质量份。
[0682]
[表1]
[0683][0684]
[表2]
[0685][0686]
[表3]
[0687][0688]
＜抗静电层用组合物的制备＞
[0689]
分别制备了下述表4所示的组合的抗静电层用组合物b
‑
1～b
‑
7。在表4中，在各成分的栏中记载的数值的单位为质量份。
[0690]
[表4]
[0691][0692]
＜实施例1～15及比较例2～3＞
[0693]
在形成有透明膜1(therapel25wz、厚度：25μm、toray advanced film co.,ltd.制造、带离型层的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)的离型层的表面，使用狭缝状喷嘴，根据表6及表7的记载，涂布感光性层用组合物(a
‑
1～a
‑
6)，接着，在120℃的干燥区使溶剂挥发，由此形成了感光性层。调节感光性层用组合物的涂布量，以使其成为表6及表7中记载的感光性层的厚度。使用狭缝状喷嘴，根据表6及表7的记载，在上述感光性层上涂布抗静电层用组合物(b
‑
1～b
‑
6)，接着，使其干燥，由此形成了抗静电层。调节抗静电层用组合物的涂布量，以使其成为表6及表7中记载的抗静电层的厚度。接着，在上述抗静电层上压合了透明膜2(lumirror16qs62、厚度：16μm、toray indust ries,inc.制造、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)。
[0694]
通过以上步骤，分别制作了实施例1～15及比较例2～3的感光性转印膜。上述各感光性转印膜依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2。
[0695]
＜比较例1＞
[0696]
除了未形成抗静电层以外，通过与实施例1相同的方法制作了比较例1的感光性转印膜。比较例1的感光性转印膜依次具有透明膜1、感光性层及透明膜2。
[0697]
＜比较例4＞
[0698]
在透明膜2(聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜g2、teijin film solutions limited制造)上，通过凹版涂布机以涂布厚度6μm涂布抗静电层用组合物b
‑
7，接着，在80℃下干燥4分钟，由此形成了厚度为2μm的抗静电层。在上述抗静电层上，通过逗号涂布机以涂布厚度50μm涂布感光性层用组合物a
‑
7，接着，在90℃下干燥15分钟，由此制作了厚度为20μm的感光性层。而且，在上述感光性层上，通过层压机在50℃下以0.5mpa的压力贴合透明膜1(聚乙烯薄膜gf
‑
1、tama poly co.,ltd.制造)，由此制作了比较例4的感光性转印膜。比较例4的各感光性转印膜依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2。
[0699]
＜比较例5＞
[0700]
在透明膜1(therapel25wz、厚度：25μm、toray advanced film co.,ltd.制造、带离型层的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)的形成有离型层的表面上，通过凹版涂布机以涂布厚度27μm涂布感光性层用组合物a
‑
7，接着，在80℃下干燥4分钟，由此形成了厚度为9μm的感光性层。在上述感光性层上，使用狭缝状喷嘴涂布抗静电层用组合物b
‑
1，接着，使其干燥，由此形成了厚度为0.1μm的抗静电层。接着，在上述抗静电层上，压合透明膜2(lumirror16qs62、厚度：16μm、toray industries,inc.制造、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)，由此制作了比较例5的感光性转印膜。比较例5的各感光性转印膜依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2。
[0701]
＜合成例1：聚苯乙烯磺酸＞
[0702]
在1000ml的离子交换水中溶解206g的苯乙烯磺酸钠，接着，在80℃下一边搅拌一边滴加预先在10ml的水中溶解的1.14g的过硫酸铵氧化剂水溶液20分钟之后，将溶液搅拌12小时。
[0703]
向所获得的含聚苯乙烯磺酸钠的水溶液中添加1000ml稀释至10质量％的硫酸之后，使用超滤法去除含聚苯乙烯磺酸的水溶液的1000ml溶液。向残留液体中加入2000ml的离子交换水之后，使用超滤法去除大约2000ml的溶液。重复3次上述超滤操作。
[0704]
而且，向所获得的滤液中添加大约2000ml的离子交换水之后，使用超滤法去除大约2000ml的溶液。重复3次该超滤操作。
[0705]
将所获得的溶液中的水减压去除，从而获得了无色的固体物质。利用使用了gpc(凝胶过滤色谱法)柱的hplc(高速液体色谱法)系统，将showa denko k.k.制造的支链淀粉作为标准物质对所获得的聚苯乙烯磺酸测定重均分子量的结果，分子量为30万。
[0706]
＜分散液as
‑
1的制备＞
[0707]
在20℃下，将14.2g的3,4
‑
乙烯二氧噻吩和将在合成例1中获得的聚苯乙烯磺酸36.7g溶解于2000ml的离子交换水中的溶液进行混合。一边将由此获得的混合溶液保持在20℃下并进行搅拌一边缓慢添加在200ml的离子交换水中溶解的29.64g的过硫酸铵和8.0g的硫酸铁的氧化催化剂溶液，并搅拌3小时使其反应。
[0708]
向所获得的反应液中添加2000ml的离子交换水之后，使用超滤法去除大约2000ml溶液。重复3次该操作。
[0709]
接着，向所获得的溶液添加200ml的10质量％硫酸水溶液和2000ml的离子交换水，使用超滤法去除大约2000ml的溶液。向残留液体中加入2000ml的离子交换水之后，使用超滤法去除大约2000ml的溶液。重复3次该操作。
[0710]
而且，向所获得的溶液中加入2000ml的离子交换水之后，使用超滤法去除大约2000ml的溶液。重复5次该操作，从而获得了1.2质量％的蓝色的pedot/pss水溶液。
[0711]
将在上述中获得的pedot/pss的水溶液100g和100g的甲醇进行混合，并在50℃下一边搅拌一边滴加200g的甲醇和12.5g的c12、c13混合高级醇环氧丙基醚的混合液60分钟，从而获得了深蓝色的析出物。将该析出物过滤回收之后，使其分散于甲基乙基酮(mek)中，从而获得了pedot/pss的1质量％的mek分散液(as
‑
1)。
[0712]
＜抗静电层用组合物的制备＞
[0713]
分别制备了下述表5所示的组合的抗静电层用组合物b
‑
8～b
‑
13。在表5中，在各成分的栏中记载的数值的单位为质量份。
[0714]
[表5]
[0715][0716]
＜实施例16＞
[0717]
在透明膜2(lumirror16qs62、厚度：16μm、toray industries,inc.制造、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)上，使用狭缝状喷嘴以干燥后的厚度成为0.1μm的方式涂布抗静电层用组合物b
‑
8，接着，在80℃下干燥2分钟，由此形成了抗静电层。在上述抗静电层上，使用狭缝状喷嘴以干燥后的厚度成为8.0μm的方式涂布感光性层用组合物a
‑
3，接着，在120℃的干燥区使溶剂挥发，由此制作了感光性层。而且，在上述感光性层上，通过层压机在50℃下以0.5mpa的压力贴合透明膜1(lumirror16qs62、厚度：16μm、toray industries,inc.制造、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)，由此制作了实施例16的感光性转印膜。
[0718]
＜实施例17＞
[0719]
除了使用b
‑
9作为抗静电层用组合物以外，以与实施例16相同的方式制作了实施例17的感光性转印膜。
[0720]
＜实施例18＞
[0721]
除了使用b
‑
10作为抗静电层用组合物以外，以与实施例16相同的方式制作了实施例18的感光性转印膜。
[0722]
＜实施例19＞
[0723]
除了使用b
‑
11作为抗静电层用组合物以外，以与实施例16相同的方式制作了实施例19的感光性转印膜。
[0724]
＜实施例20＞
[0725]
除了使用b
‑
12作为抗静电层用组合物以外，以与实施例16相同的方式制作了实施例20的感光性转印膜。
[0726]
＜实施例21＞
[0727]
除了以感光性层的干燥后的厚度成为4.0μm的方式涂布感光性层用组合物a
‑
3以外，以与实施例19相同的方式制作了实施例21的感光性转印膜。
[0728]
＜实施例22＞
[0729]
除了以感光性层的干燥后的厚度成为1.0μm的方式涂布感光性层用组合物a
‑
3以外，以与实施例19相同的方式制作了实施例22的感光性转印膜。
[0730]
＜实施例23＞
[0731]
除了以感光性层的干燥后的厚度成为0.5μm的方式涂布感光性层用组合物a
‑
3以外，以与实施例19相同的方式制作了实施例23的感光性转印膜。
[0732]
通过以上步骤，分别制作了实施例16～23的感光性转印膜。上述各感光性转印膜依次具有透明膜2、抗静电层、感光性层及透明膜1。
[0733]
＜实施例24～51＞
[0734]
根据表9～表12的记载，调节感光性层用组合物(a
‑
8～a
‑
31)，以使感光性层用组合物的涂布量成为表9～表12中记载的感光性层的厚度。使用狭缝状喷嘴，根据表9～表12的记载，在上述感光性层上涂布抗静电层用组合物(b
‑
11～b
‑
13)，接着，使其干燥，由此形成了抗静电层。调节抗静电层用组合物的涂布量，以使其成为表9～表12中记载的抗静电层的厚度。接着，在上述抗静电层上压合了透明膜2(lumirror16qs62、厚度：16μm、toray indust ries,inc.制造、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜)。通过以上步骤，分别制作了实施例24～51的感光性转印膜。上述各感光性转印膜依次具有透明膜1、感光性层、抗静电层及透明膜2。
[0735]
＜表面电阻值的测定＞
[0736]
对于实施例1～51及比较例2～3的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于玻璃基材(eagle xg、厚度：0.7mm、corning incorporated制造)上，由此分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。从上述各结构体剥离透明膜2，接着，将具有抗静电层/感光性层/玻璃基材的3层的层叠结构的结构体在温度23℃、湿度55％的条件下调湿24小时之后，在施加电压1000v下使用电阻率计(mitsubishi chemical analytech co.,ltd.制造的hiresta
‑
ux mcp
‑
ht800)对抗静电层的表面电阻值进行了测定。并且，通过与上述相同的方法，使用比较例1的感光性转印膜，制作具有感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体之后，对感光性层的表面电阻值进行了测定。
[0737]
并且，对于比较例4～5的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于玻璃基材(eagle xg、厚度：0.7mm、corning incorporated制造)上，从而分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。层压条件设为：真空度为0.5hpa，压制压力(加压)为0.5mpa，压制温度(干膜的温度)为80℃，加压时间为90秒钟。接着，对于上述各结构体，从透明膜2的上方不隔着曝光掩模以600mj/cm2的曝光量进行了曝光。曝光机使用了利用高压水银灯作为灯的hmw
‑
532d(orc manufacturing co.,ltd.制造)。而且，剥离透明膜2之后，在140℃下加热20分钟，在180℃下加热20分钟，接着在240℃下加热20分钟，由此进行了热固化。接着，将具有抗静电层/感光性层/玻璃基材的3层的层叠结构的结构体在温度23℃、湿度55％的条件下调湿24小时之后，在施加电压1000v下使用电阻率计(mitsubishi chemical analytech co.,ltd.制造的hiresta
‑
uxmcp
‑
ht800)对抗静电层的表面电阻值进行了测定。
[0738]
将表面电阻值的测定结果示于表6～表12中。
[0739]
＜抗静电层的图案化性的评价＞
[0740]
作为抗静电层的图案化性的一个指标(即，显影性)，通过以下方法，求出了解析l/s＝100μm/100μm的图案所需的最短的显影时间。
[0741]
对于实施例1～51及比较例2～3的各转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于ito基材上，由此分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/基材的层叠结构的结构体。层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。对于上述各结构体，不剥离透明膜2隔着具有l/s＝100μm/100μm的图案的掩模，使用具有超高压水银灯的接近式曝光机(hitachi high
‑
tech electronics engineering co.,ltd.制造)，以曝光量120mj/cm2(i线)进行了曝光。曝光后，放置1小时之后，剥离上述各结构体的透明膜2之后，使用碳酸钠1质量％水溶液(液温：30℃)进行显影，由此显影去除非曝光部中的抗静电层及感光性层。而且，吹入空气去除水分。一边改变显影时间一边实施显影，求出了解析l/s＝100μm/100μm的图案所需的最短的显影时间。
[0742]
在上述显影后的所有实施例中，抗静电层为与感光性层的残留部(即，感光性组合物的固化物层)的图案形状相同的图案形状。
[0743]
并且，对于比较例4～5的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于ito基材上，由此分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/基材的层叠结构的结构体。层压条件设为：真空度为0.5hpa，压制压力(加压)为0.5mpa，压制温度(干膜的温度)为80℃，加压时间为90秒钟。对于上述各结构体，不剥离透明膜2隔着具有l/s＝100μm/100μm的图案的掩模，以600mj/cm2的曝光量进行了曝光。曝光机使用了利用高压水银灯作为灯的hmw
‑
532d(orc manufacturing co.,ltd.制造)。剥离上述各结构体的透明膜2之后，使用碳酸钠1质量％水溶液(液温30℃)进行显影，由此显影去除非曝光部中的抗静电层及感光性层。而且，吹入空气去除水分。一边改变显影时间一边实施显影，求出了解析l/s＝100μm/100μm的图案所需的最短的显影时间。
[0744]
根据以下基准，对抗静电层的图案化性进行了评价。将评价结果示于表6～表12中。另外，在所有实施例中，显影后的残留图案具有抗静电层/感光性层/基材的层叠结构。
[0745]
(基准)
[0746]
a：最短的显影时间为60秒钟以下。
[0747]
b：最短的显影时间大于60秒钟，且为120秒钟以下。
[0748]
c：最短的显影时间大于120秒钟，或无法显影。
[0749]
＜剥离带电压的评价＞
[0750]
对于实施例1～51及比较例2～5的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于玻璃基板(eagle xg、厚度：0.7mm、corning incorporated制造)上，由此分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。并且，通过与上述相同的方法，使用比较例1的感光性转印膜，获得了具有透明膜2/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。实施例1～23及比较例1～3的各感光性转印膜的层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。并且，比较例4～5的各感光性转印膜的层压条件设为：真空度为0.5hpa，压制压力(加压)为0.5mpa，压制温度(干膜的温度)为80℃，加压时间为90秒钟。在温度23℃、湿度50％rh(相对湿度)的氛围下，使用kasuga denki,inc.制造的静电电位测定器ksd
‑
0103对在从上述各结构体将透明膜2以剥
离速度10m/分钟剥离180
°
时产生的剥离带电压进行了测定。测定位置设为在远离上述各结构体中的透明膜2的表面的方向上远离10cm的位置。
[0751]
根据以下基准，对所获得的剥离带电压进行了评价。将评价结果示于表6～表12中。
[0752]
(基准)
[0753]
a：剥离带电压为500v以下。
[0754]
b：剥离带电压大于500v，且为1000v以下。
[0755]
c：剥离带电压大于1000v。
[0756]
＜烘烤后的透射率的评价＞
[0757]
对于实施例1～51及比较例2～3的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于玻璃基板(eagle xg、厚度：0.7mm、corning incorporated制造)上，由此获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。并且，通过与上述相同的方法，使用比较例1的感光性转印膜，获得了具有透明膜2/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。实施例1～51及比较例1～3的各感光性转印膜的层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。对于上述各结构体，不剥离透明膜2，使用具有超高压水银灯的接近式曝光机(hitachi high
‑
tech electronics engineering co.,ltd.制造)，以曝光量120mj/cm2(i线)进行了曝光。剥离透明膜2之后，进而以曝光量375mj/cm2(i线)进行曝光，接着，在145℃下进行30分钟的后烘烤，由此固化抗静电层及感光性层而形成了固化膜(即，固化物层)。
[0758]
对于比较例4～5的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于玻璃基材(eagle xg、厚度：0.7mm、corning incorporated制造)上，由此分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。层压条件设为：真空度为0.5hpa，压制压力(加压)为0.5mpa，压制温度(干膜的温度)为80℃，加压时间为90秒钟。对于上述各结构体，从透明膜2的上方以600mj/cm2的曝光量进行了曝光。曝光机使用了利用高压水银灯作为灯的hmw
‑
532d(orc manufacturing co.,ltd.)。而且，剥离透明膜2之后，在140℃下加热20分钟，在180℃下加热20分钟，接着在240℃下加热20分钟，由此固化感光性层而形成了固化膜。
[0759]
使用分光光度计uv1800型(shimadzu corporation制造)，对波长400～800nm的透射率进行了测定。根据以下基准，对所获得的透射率进行了评价。将评价结果示于表6～表12中。
[0760]
(基准)
[0761]
a：波长400～800nm的平均透射率为90％以上。
[0762]
b：波长400～800nm的平均透射率为85％以上且小于90％。
[0763]
c：波长400～800nm的平均透射率小于85％。
[0764]
＜雾度的测定＞
[0765]
对于实施例1～51及比较例2～5的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于玻璃基材(eagle xg、厚度：0.7mm、corning incorporated制造)上，由此分别获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体。并且，通过与上述相同的方法，使用比较例1的感光性转印膜，获得了具有透明膜2/感光性层/玻
璃基材的层叠结构的结构体。实施例1～51及比较例1～3的各感光性转印膜的层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。并且，比较例4～5的各感光性转印膜的层压条件设为：真空度为0.5hpa，压制压力(加压)为0.5mpa，压制温度(干膜的温度)为80℃，加压时间为90秒钟。
[0766]
从上述各结构体剥离透明膜2之后，使用雾度计ndh4000(nippon denshoku industries co.,ltd.制造)分别对具有抗静电层/感光性层/玻璃基材的3层的层叠结构的结构体(实施例1～51及比较例2～5)及具有感光性层/玻璃基材的层叠结构的结构体(比较例1)的雾度进行了测定。而且，通过与上述相同的方法对上述各结构体的制作中使用的玻璃基材的雾度进行了测定。并且，从各结构体的雾度减去玻璃基材的雾度，由此分别求出了抗静电层/感光性层的层叠结构的雾度及感光性层的雾度。根据以下基准，对所获得的雾度进行了评价。将评价结果示于表6～表12中。
[0767]
(基准)
[0768]
a：雾度为3％以下。
[0769]
b：雾度大于3％，且为10％以下。
[0770]
c：雾度大于10％。
[0771]
＜耐弯曲性的评价＞
[0772]
‑
耐弯曲性评价用试样的制作
‑
[0773]
对于实施例1～51及比较例2～5的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层的表面层压于在145℃下进行30分钟的热处理的du pont
‑
toray co.,ltd.制造的聚酰亚胺薄膜的卡普顿(kapton)(厚度：50μm)的一个表面上，由此分别制作了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/卡普顿(厚度：50μm)的层叠结构的结构体。并且，通过与上述相同的方法，使用比较例1的感光性转印膜，制作了具有透明膜2/感光性层/卡普顿(厚度：50μm)的层叠结构的结构体。实施例1～51及比较例1～3的转印膜的层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。并且，比较例4～5的各感光性转印膜的层压条件设为：真空度为0.5hpa，压制压力(加压)为0.5mpa，压制温度(干膜的温度)为80℃，加压时间为90秒钟。
[0774]
接着，关于实施例1～51及比较例1～3，使用具有超高压水银灯的接近式曝光机(hitachi high
‑
tech electronics engineering co.,ltd.制造)，隔着透明膜2以曝光量100mj/cm2(i线)对两面进行了全面曝光。剥离透明膜2之后，进而以曝光量375mj/cm2(i线)进行两面曝光之后，在145℃下进行30分钟的后烘烤，由此固化抗静电层及感光性层而形成了固化膜(即，固化物层)。
[0775]
关于比较例4～5，从具有透明膜2/抗静电层/感光性层/卡普顿(厚度：50μm)的层结构的结构体中的透明膜2的上方不隔着曝光掩模以600mj/cm2的曝光量进行了曝光。曝光机使用了利用高压水银灯作为灯的hmw
‑
532d(orc manufacturing co.,ltd.)。而且，剥离透明膜2之后，在140℃下加热20分钟，在180℃下加热20分钟，接着，在240℃下加热20分钟，从而固化抗静电层及感光性层而形成了固化膜。
[0776]
通过以上步骤，分别获得了具有抗静电层的固化膜/感光性层的固化膜/卡普顿(厚度：50μm)的层叠结构或感光性层的固化膜/卡普顿(厚度：50μm)的层叠结构的耐弯曲性评价用试样。
[0777]
‑
耐弯曲性的评价
‑
[0778]
通过以下方法，对上述各耐弯曲性评价用试样的耐弯曲性进行了评价。以下，参考图式对耐弯曲性的评价进行说明。图4是示出耐弯曲性的评价中的耐弯曲性评价用试样的状态的一例的截面示意图。
[0779]
首先，将上述各耐弯曲性评价用试样裁断成5cm
×
12cm的长方形。如图4所示，在所裁断的耐弯曲性评价用试样102中，在短边的一侧附加100g的重量104而加权，并以90
°
的角度与直径d(单位：毫米)的金属制杆106接触的方式保持(图4中的耐弯曲性评价用试样102的状态)。
[0780]
接着，使卡普顿(厚度：50μm)与金属制杆106接触，以缠绕在金属制杆106上的方式使耐弯曲性评价用试样102弯曲至将耐弯曲性评价用试样102弯曲成180
°
的状态(图4中的弯曲后的耐弯曲性评价用试样102a的状态)，使其往复10次返回到原来的位置的运动(往复方向d)之后，目视确认了试样的表面有无裂纹。
[0781]
一边改变上述金属制杆106的直径d一边进行上述试验，求出了不产生裂纹的最小直径d。根据以下基准，对耐弯曲性进行了评价。在下述基准中，a为耐弯曲性最佳，d为耐弯曲性最差。a或b为实用上的容许水平。
[0782]
(基准)
[0783]
a：不产生裂纹的最小的直径d为3mm以下。
[0784]
b：不产生裂纹的最小的直径d大于3mm且为4mm以下。
[0785]
c：不产生裂纹的最小的直径d大于4mm且为5mm以下。
[0786]
d：不产生裂纹的最小的直径d大于5mm。
[0787]
＜银纳米线耐久性(电阻值变化)的评价＞
[0788]
对于实施例16～51的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层层压于具有在表面上含有银纳米线的层的基材上，由此获得了具有透明膜2/抗静电层/感光性层/含有银纳米线的层/基材的层叠结构的结构体。以下，将“含有银纳米线的层/基材”称为“银纳米线基材”。实施例16～23的各感光性转印膜的层压条件设为：辊温度：110℃、线压：0.6mpa、线速度(层压速度)：2.0m/分钟。对于上述各结构体，不剥离透明膜2，使用具有超高压水银灯的接近式曝光机(hitachi high
‑
tech electronics engineering co.,ltd.制造)，以曝光量120mj/cm2(i线)进行了曝光。剥离透明膜2之后，进而以曝光量375mj/cm2(i线)进行曝光，接着，在145℃下进行30分钟的后烘烤，由此固化抗静电层及感光性层而形成了固化膜(即，固化物层)。
[0789]
通过以上步骤，获得了抗静电层的固化膜/感光性层的固化膜/银纳米线基材的层叠结构。将上述层叠结构裁断成10cm
×
10cm的正方形。使用非接触电阻计ec
‑
80p(napson corporation制造)，将非接触电阻计的探针压向层叠结构的抗静电层侧来测定层叠结构中的银纳米线基材的电阻值，将面内9处的平均作为层叠结构的初期的电阻值。
[0790]
将在上述中测定了电阻值的层叠结构在85℃、85％rh(相对湿度)的环境下放置500小时之后，通过与上述相同的方法测定耐久后的电阻值，并且由以下式(1)计算从初期的电阻值的变化率。
[0791]
电阻值的变化率＝耐久后的电阻值
÷
初期的电阻值
‑1……
式(1)
[0792]
根据以下基准，对所获得的电阻值的变化率进行了评价。在下述基准中，a为耐久
性最佳，c为耐久性最差。将评价结果示于表8～表12中。
[0793]
(基准)
[0794]
a：电阻值变化为10％以下。
[0795]
b：电阻值变化大于10％，且为30％以下。
[0796]
c：电阻值变化大于30％。
[0797]
＜未检测出抗静电剂的区域的评价＞
[0798]
对于实施例16～51的各感光性转印膜，剥离透明膜1之后，根据已叙述的方法，使用ion
‑
tof公司制造的tof.sims5(商品名)和ar

簇枪，从露出的感光性层的表面进行了未检测出抗静电剂的区域的测定。将评价结果示于表8～表12中。
[0799]
[表6]
[0800][0801]
[表7]
[0802][0803]
[表8]
[0804][0805]
[表9]
[0806][0807]
[表10]
[0808][0809]
[表11]
[0810][0811]
[表12]
[0812][0813]
在表8～表12中，“比例”的栏中记载的数值是将从感光性层的与抗静电层相反的一侧的表面至未检测出起因于抗静电剂的碎片离子的区域为止的长度(在表8～表12中“未检测出抗静电剂的深度”的栏中记载的数值)除以感光性层及抗静电层的总厚度而得的值。
[0814]
从表6～表12可知，实施例1～51的各感光性转印膜能够对抗静电层进行图案化。并且，可知与感光性层中的丙烯酸树脂不是碱溶性的比较例2的感光性转印膜相比，实施例1～51的各感光性转印膜的图案化性优异。
[0815]
从表6～表12可知，与感光性层的厚度超过10μm的比较例3相比，实施例1～51的耐弯曲性优异。
[0816]
从表6～表12可知，与感光性层的厚度超过10μm且感光性层不含有碱溶性丙烯酸系树脂的比较例4及感光性层不含有碱溶性丙烯酸系树脂的比较例5相比，实施例1～51的透明性及耐弯曲性优异。
[0817]
从表4～表6可知，与不具有抗静电层的比较例1相比，实施例1～23能够抑制剥离带电。
[0818]
从表4～表6可知，与比较例4相比，实施例1～23的雾度小。
[0819]
从表8～表12可知，与抗静电剂不是溶剂分散型的实施例16相比，抗静电剂为溶剂分散型的实施例17～51的未检测出抗静电剂的区域大，银纳米线耐久性优异。
[0820]
(实施例101～105)
[0821]
＜添加液a的制备＞
[0822]
将硝酸银粉末0.51g溶解于纯水50ml中。向所获得的液体中添加1mol/l的氨水，直到液体变透明。然后，向所获得的液体中添加纯水，以使液体的总量成为100ml，从而制备了添加液a。
[0823]
＜添加液g的制备＞
[0824]
将葡萄糖粉末0.5g溶解于140ml的纯水中，从而制备了添加液g。
[0825]
＜添加液h的制备＞
[0826]
将htab(十六烷基三甲基溴化铵)粉末0.5g溶解于27.5ml的纯水中，从而制备了添加液h。
[0827]
＜银纳米线层形成用涂布液的制备＞
[0828]
在向三口烧瓶内添加纯水(410ml)之后，在20℃下一边搅拌一边通过漏斗添加了添加液h(82.5ml)及添加液g(206ml)。向所获得的液体中以2.0ml/分钟的流量、800rpm(每分钟转数，revolutions per minute。以下相同。)的搅拌转速添加了添加液a(206ml)。10分钟后，向所获得的液体中添加了82.5ml的添加液h。然后，将所获得的液体以3℃/分钟升温至内温75℃。然后，将搅拌转速降低至200rpm，加热了5小时。将所获得的液体冷却之后，放入不锈钢杯中，并使用将超滤模组sip1013(asahi kasei chemicals corporation制造、截留分子量：6,000)、磁力泵及不锈钢杯利用硅软管连接的超滤装置进行了超滤。在从模组中的滤液达到50ml的时刻，向不锈钢杯中加入950ml的蒸馏水，进行了洗涤。重复10次上述洗涤之后，进行浓缩直到液体的量达到50ml。另外，关于添加液a、添加液g、添加液h，通过上述方法重复制作，并将其用于银纳米线层形成用涂布液的制备中。
[0829]
通过将所获得的浓缩液利用纯水及甲醇(纯水及甲醇的体积比率：60/40)稀释，获得了银纳米线层形成用涂布液。
[0830]
＜评价用层叠体的制作＞
[0831]
准备厚度100μm的环烯烃聚合物(cop)薄膜作为透明的基板。接着，通过溅射法在基板的一个表面上以500nm的厚度形成铜膜，从而制作了具有铜膜/基板的层叠结构的层叠体。
[0832]
＜层叠体的处理＞
[0833]
作为在上述中制作的层叠体的处理液，制备了下述表13所示的组合的处理液c
‑
1～c
‑
4。具体而言，向离子交换水中添加特定唑化合物，并搅拌混合30分钟，由此制备了处理液。
[0834]
接着，使用在上述中制备的处理液对上述层叠体的铜膜侧进行了40秒钟的喷淋处理。处理后，利用纯水洗涤，接着，吹入空气去除水分，在80℃下进行1分钟的加热处理，由此获得了被处理后的层叠体。
[0835]
＜铜膜的蚀刻＞
[0836]
接着，使用具备能够通过1质量％碳酸钠水溶液显影的负型的丙烯酸系感光性层(以下，本段中有时简称为“抗蚀剂层”。)的感光性转印膜，将厚度1μm的抗蚀剂层转印至在上述中制作的层叠体的铜膜的表面上，从而获得了具有抗蚀剂层/铜膜/基板的层叠结构的层叠体。接着，从所获得的层叠体的抗蚀剂层侧的表面隔着掩模，进行使用金属卤化物灯的曝光之后，浸于1质量％碳酸钠水溶液中，对抗蚀剂层进行了显影处理。
[0837]
接着，使用作为蚀刻液的氯化铁水溶液，将未层叠有图案化的抗蚀剂层的部分的铜膜蚀刻去除之后，使用剥离液剥离了抗蚀剂层。
[0838]
其结果，获得了在透明的基板上的周边部形成有铜膜(引绕布线)的层叠体。
[0839]
＜含有图案化的银纳米线的层(触控面板用透明电极)的形成＞
[0840]
接着，将上述中制作的银纳米线层形成用涂布液涂布于在上述中获得的层叠体的铜膜(引绕布线)侧，在80℃下进行1分钟的加热处理，由此制作了具有含有银纳米线的层/铜膜(引绕布线)/基板的层叠结构的层叠体。另外，含有银纳米线的层形成用涂布液的涂布量设为湿式膜厚成为20μm的量，含有干燥后的银纳米线的层的层厚为30nm，并且，银纳米线的直径为17nm、长轴长度为35μm。
[0841]
接着，使用具备能够通过1质量％碳酸钠水溶液显影的负型的丙烯酸系感光性层(以下，本段中有时简称为“抗蚀剂层”。)的感光性转印膜，将厚度1μm的抗蚀剂层转印至在上述中制作的层叠体的含有银纳米线的层的表面上，从而获得了具有抗蚀剂层/含有银纳米线的层/铜膜(引绕布线)/基板的层叠结构的层叠体。接着，从所获得的层叠体的抗蚀剂层侧的表面隔着触控面板电极图案的掩模，进行使用金属卤化物灯的曝光之后，浸于1质量％碳酸钠水溶液，对抗蚀剂层进行了显影处理。
[0842]
接着，使用作为蚀刻液的氯化铁水溶液，将未层叠有图案化的抗蚀剂层的部分的含有银纳米线的层及含有银纳米线的层/铜膜蚀刻去除之后，使用剥离液剥离了抗蚀剂层。
[0843]
通过以上步骤，获得了含有图案化的银纳米线的层。
[0844]
＜感光性转印膜的层压＞
[0845]
关于以下表13所示的感光性转印膜(即，在实施例19中制作的感光性转印膜)，剥离透明膜1之后，将露出的感光性层层压于在上述中抗蚀剂层被剥离处理的层叠体的含有银纳米线的层侧，转印了感光性层及抗静电层。使用mck公司制造的真空层压机在环烯烃聚合物薄膜温度：40℃、橡胶辊温度：100℃、线压：3n/cm、输送速度：2m/分钟的条件下进行了层压加工。
[0846]
接着，使用具有超高压水银灯的接近式曝光机(hitachi high
‑
tech electronics engineering co.,ltd.制造)，隔着透明膜2以曝光量60mj/cm2(i线)对感光性层隔着保护膜图案的掩模进行了图案曝光。
[0847]
剥离透明膜2之后，使用碳酸钠1质量％水溶液，在32℃下实施显影处理60秒钟，从而去除了与外部的连接部分的感光性层及抗静电层。显影处理后，从超高压洗涤喷嘴将超纯水喷射至感光性层及带抗静电层的层叠体，然后吹入空气去除水分。
[0848]
接着，从感光性层及抗静电层的上方不隔着曝光掩模进而以375mj/cm2的曝光量进行曝光，接着在140℃下加热20分钟，由此进行热固化，从而制作了具有抗静电层的固化层/感光性层的固化层/含有银纳米线的层/铜膜(引绕布线)/基板的层叠结构的层叠体。
[0849]
＜铜的变色评价＞
[0850]
将在上述中制作的层叠体在85℃、85％rh(相对湿度)的环境下放置100小时之后，对铜膜(引绕布线)部分从固化层侧通过固化层使用光学显微镜(倍率：50倍)进行观察，并根据以下评价基准进行了评价。
[0851]
a：完全没有确认到变色的部分。
[0852]
b：变色的部分的比例为铜膜(布线)的面积的50％以下。
[0853]
c：变色的部分的比例超过铜膜(布线)的面积的50％且为80％以下。
[0854]
d：变色的部分的比例超过铜膜(布线)的面积的80％。
[0855]
将评价结果汇总示于表13中。
[0856]
[表13]
[0857][0858]
另外，表13中记载的pka的值表示共轭酸的pka。
[0859]
(实施例201～204)
[0860]
除了在实施例51中如表14所示变更透明膜1及透明膜2以外，以与实施例51相同的方式，制作感光性转印膜及层叠体，并且以与实施例51相同的方式进行了评价。均为与实施例51相同的评价结果。
[0861]
[表14]
[0862][0863]
在2019年3月28日申请的日本专利申请2019
‑
064595号、在2019年5月14日申请的日本专利申请2019
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091114号及在2019年9月26日申请的日本专利申请2019
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175547号的公开的整体通过参考而引入本说明书中。本说明书中记载的所有文献、专利申请及技术标准，与各文献、专利申请及技术标准具体且分别地通过参考被引入的情况相同程度地通过参考引入本说明书中。