一种石墨舟外舟页及石墨舟的制作方法

1.本实用新型涉及石墨舟技术领域，尤其涉及一种石墨舟外舟页及石墨舟。


背景技术：

2.在光伏行业pecvd领域，石墨舟是一种常用载具，而目前行业中通常所使用的石墨舟的外舟页上未设置有气孔，长期使用时，放置于靠近外舟页的硅片会出现紧密贴合于石墨舟外舟页的情况，导致硅片不容易取出，从而影响石墨舟的产能和稼动率。
3.为了解决上述问题，现有技术中出现了在石墨舟外舟页上开设气孔的技术方案，然而开设气孔后，在硅片进行镀膜工艺时，由于气体与硅片发生的化学反应，将会在硅片上形成明显的气孔印，影响其外观，导致硅片产品不良。
4.因此，亟需一种石墨舟外舟页及石墨舟，能够避免硅片产生气孔印造成的外观检测不良的情况，满足硅片产品的外观质量要求。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种石墨舟外舟页及石墨舟，以解决硅片镀膜后，由于硅片表面的气孔印而造成硅片产品外观质量不良的问题。
6.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
7.一方面，本实用新型提供一种石墨舟外舟页，该石墨舟外舟页包括：
8.舟片本体，所述舟片本体与相邻的石墨舟舟片之间插设有硅片，所述硅片的表面丝印有若干主栅线，每条所述主栅线上包括若干节点，所述舟片本体上设有气孔，所述气孔贯穿所述舟片本体设置，所述气孔的位置与所述节点的位置一一正对设置。
9.可选地，所述气孔的直径为0.5mm～1.3mm，且小于所述节点的宽度。
10.可选地，所述气孔设置有若干个，每个所述气孔对应不同条的所述主栅线的所述节点设置。
11.可选地，若干所述气孔呈直线分布，且所述直线与所述硅片的中心轴线重合。
12.可选地，若干所述气孔位于同一圆上，所述圆的圆心对应于所述硅片的中心位置。
13.可选地，所述气孔设置有若干个，每个所述气孔对应同一条所述主栅线的所述节点设置。
14.可选地，所述舟片本体上沿所述舟片本体的长度方向设置有若干凹槽，每个所述凹槽对应设置一片所述硅片。
15.可选地，所述凹槽外围设置有卡点孔，所述卡点孔内设置有卡点，所述卡点与所述硅片的侧壁抵接，以固定所述硅片。
16.可选地，所述硅片沿所述舟片本体的长度方向倾斜角度α，所述倾斜角度α为3
°
～4
°
。
17.另一方面，本实用新型提供一种石墨舟，包括上述任一方案中的石墨舟外舟页。
18.本实用新型的有益效果为：
19.本实用新型提供一种石墨舟外舟页，该石墨舟外舟页包括舟片本体，舟片本体上设有气孔，气孔贯穿舟片本体设置，气孔的设置位置对应于硅片的主栅线的位置。通过将气孔的设置位置与硅片成品的主栅线的位置对应，硅片在完成镀膜后所产生的气孔印，在下一道丝印工艺时，印刷到硅片上的主栅线就能够覆盖掉硅片上的气孔印，从而硅片成品中的气孔印被主栅线覆盖，外观质量检测合格，且不影响硅片的使用功能。
20.本实用新型还提供一种石墨舟，该石墨舟包括上述方案中的石墨舟外舟页，因此，采用该石墨舟制作的硅片的成品表面不存在气孔印，外观质量检测良好，且硅片性能保持良好。
附图说明
21.图1是本实用新型实施例中提供的石墨舟外舟页的结构示意图；
22.图2是图1中a处的局部放大图。
23.图中：
24.1、舟片本体；11、气孔；12、卡点孔；2、硅片；3、主栅线；31、节点。
具体实施方式
25.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
26.在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
27.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
28.在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
29.目前，行业内常见的石墨舟外舟页通常是无气孔的，在石墨舟长期使用的过程中，石墨舟内放置的硅片可能会贴合到石墨舟外舟页上，由于贴合过紧，插片机吸盘难以将靠近石墨舟外舟页放置的硅片取出，导致设备的稼动率较低，设备产能也同时降低。为了解决硅片贴合到石墨舟外舟页，导致硅片不容易取出的问题，市场上出现了在石墨舟外舟页上开设气孔的技术方案，但开设气孔后导致硅片在进行镀膜工艺时，会在硅片表面出现明显
的气孔印，导致硅片的成品外观质量检测不合格。
30.为此，本实施例提供了一种石墨舟外舟页，如图1和图2所示，该石墨舟外舟页包括舟片本体1，舟片本体1上设有气孔11，气孔11贯穿舟片本体1设置，舟片本体1与相邻的石墨舟舟片之间插设有硅片2，硅片2在石墨舟内完成镀膜过程后，会在硅片2的表面丝印有若干主栅线3，每条主栅线3上均包括若干节点31，气孔11的位置与节点31的位置一一正对设置。示例性的，气孔11的位置可以通过对比石墨舟外舟页及硅片2的图纸，将两幅图纸进行结合，确定硅片2成品的主栅线3及主栅线3上节点31的位置，对应主栅线3上节点31的位置在石墨舟外舟页上做出标记，根据标记的位置在石墨舟外舟页上进行打孔，得到的通孔即为上述气孔11。通过将气孔11的位置对应硅片2成品上的主栅线3的节点31的位置设置，一方面，能够避免硅片2与石墨舟外舟页贴合过紧，插片机吸盘吸取硅片2困难的情况，方便插片机吸盘吸取硅片2，另一方面，完成镀膜后在硅片2上产生的气孔印能够在下一道丝印工艺时，被丝印到硅片2上的主栅线3完全覆盖，解决了硅片2镀膜后表面出现的气孔印导致硅片2的成品外观质量不佳的问题，硅片2的成品外观质量检测良好，并且不影响硅片2的使用性能。
31.可选地，气孔11设置有若干个，若干气孔11对应不同的主栅线3的节点31设置。作为一种实施方案，设置在不同主栅线3上的若干气孔11呈直线分布，且直线与硅片2的中心轴线重合。将气孔11设置在硅片2的中心位置，使得气体能够从硅片2的中心位置进入，然后向四周扩散，气体能够蔓延至硅片2的各个位置，分布均匀，从而硅片2更容易取出。
32.作为一种实施方案，若干气孔11也可以位于同一圆上，该圆的圆心对应于硅片2的中心位置。如此设置的气孔11，其分布情况相较于一条直线来说，分布的更加均匀，气体同样也能够蔓延至硅片2的各个位置，硅片2很容易取出。
33.作为一种实施方案，若干气孔11也可以对应中间位置的同一条主栅线3的节点31设置，且与硅片2的中心轴线重合。此种气孔11的设置位置，同样能够使气体从硅片2的中心位置进入，然后向四周扩散，气体能够蔓延至硅片2的各个位置，分布均匀，从而硅片2更容易取出。
34.优选地，气孔11的设置个数可以根据主栅线3的节点31的宽度来选择。当主栅线3的节点31的宽度为0.8mm～1.0mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的个数为至少三个，例如，可以设置三个、四个、五个，在其他实施例中也可根据实际情况选择气孔11的设置个数，本实施例对此不做限定。当主栅线3的节点31的宽度为1.2mm以上时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的个数为至少两个，例如，可以设置两个、三个、四个，在其他实施例中也可根据实际情况选择气孔11的设置个数，本实施例对此不做限定。
35.进一步地，由于在硅片2镀膜后的下一道丝印工艺中，丝印的主栅线3需要完全覆盖气孔印，因此气孔11开设的直径大小也需根据主栅线3的节点31的宽度来选择。示例性的，当主栅线3的节点31的宽度为0.8mm～1.0mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的直径为0.5mm～0.8mm，例如，当主栅线3节点31的宽度为0.8mm、0.9mm、1.0mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的直径为0.5mm、0.6mm、0.7mm。当主栅线3的节点31的宽度为1.2mm～1.5mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的直径为1.0mm，例如，当主栅线3节点31的宽度为1.2mm、1.3mm、1.4、1.5mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的直径均为1.0mm。当主栅线3的节点31的宽度大于1.5mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的直径为1.2mm～
1.3mm，例如，当主栅线3节点31的宽度为1.5mm、1.6mm、1.7mm时，对应的舟片本体1上开设的气孔11的直径为1.2mm、1.25mm、1.3mm。由于上述气孔的直径均小于对应的主栅线的节点的宽度，因而镀膜时产生的气孔印，在下一道丝印工序时就能够完全被主栅线覆盖，保证了硅片的外观良好。
36.继续参见图1,舟片本体1上设置有若干凹槽，每个凹槽对应设置一片硅片2，若干凹槽沿舟片本体1的长度方向设置。示例性的，本实施例中的凹槽设置有八个，因此可以对应设置八片硅片2。凹槽的外围设置有卡点孔12，卡点孔12内安装有卡点，硅片2插入对应凹槽后，卡点能够与硅片2的侧壁抵接，以固定硅片2的位置。由于卡点与硅片2的接触面较小，因此通过卡点来固定硅片2的位置，不会影响镀膜的效果，硅片2的成品率较高。
37.可选地，硅片2沿舟片本体1的长度方向倾斜角度α，倾斜角度α为3
°
～4
°
。示例性的，倾斜角度α可设置为3
°
、3.5
°
或4
°
。通过将硅片2以一定的倾斜角度α放置于凹槽内，方便后期拿取硅片2。
38.另一方面，本实用新型提供一种石墨舟，包括上述方案中的石墨舟外舟页。通过采用上述方案中的石墨舟外舟页制作而成的石墨舟，一方面，解决了石墨舟中硅片2在镀膜过程中贴附到石墨舟外舟页上，不容易取出的问题，另一方面，通过将石墨舟外舟页上开设的气孔11对应硅片2的成品中的主栅线3的位置设置，使得主栅线3能够完全覆盖掉由于气体与硅片2发生的化学反应在硅片2上形成的气孔印，成品的硅片2外观质量检测良好，同时硅片2的性能良好，保证了硅片2产品质量，且设备效率较高。
39.显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。