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形状测量方法与流程

2022-02-22 07:50:33 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种使用形状测量设备的形状测量方法,包括:光源;周期性图案施加部件,用于将周期性图案施加于来自所述光源的光束,所述周期性图案在与光轴垂直的方向上具有周期性并且在与所述光轴垂直的方向上能够移位;物镜,其被配置为用施加有所述周期性图案的光束照射待测量对象;焦点驱动单元,其被配置为在与所述光轴平行的方向上使所述物镜的焦点相对于所述待测量对象移位;光检测器,其被配置为检测所述待测量对象所反射的光束;面形状计算单元,其被配置为基于所述光检测器所检测到的光束的强度的振幅来计算所述待测量对象上的面形状数据;以及形状分析单元,其被配置为根据所述面形状计算单元所计算出的面形状数据来分析所述待测量对象的形状,所述形状测量方法包括:顶面测量步骤,通过所述形状测量设备获取所述待测量对象的顶面上的面形状数据;底面测量步骤,通过所述形状测量设备,通过经由所述待测量对象的顶面进行透射并将所述物镜的焦点与所述待测量对象的底面对准,获取所述待测量对象的底面上的面形状数据;以及形状分析步骤,基于在所述顶面测量步骤中所获取的顶面形状数据和在所述底面测量步骤中所获取的底面形状数据,计算顶面形状和底面形状之间的差或所述待测量对象上的任意位置处在厚度方向上的形状数据,其中,所述待测量对象是透光对象,所述顶面是靠近所述物镜的面,以及所述底面是远离所述物镜的面。2.根据权利要求1所述的形状测量方法,还包括第一折射校正步骤,在所述面形状计算单元在所述底面测量步骤中计算所述底面形状时,基于所述待测量对象的折射率进行校正。3.根据权利要求1所述的形状测量方法,还包括第二折射校正步骤,在所述面形状计算单元在所述底面测量步骤中计算所述底面形状时,对由于所述待测量对象的顶面形状而导致的光折射量进行校正。4.根据权利要求1所述的形状测量方法,其中,在所述底面测量步骤之前进行所述顶面测量步骤,以及所述方法还包括第二折射校正步骤,在所述面形状计算单元计算所述底面形状时,基于在所述顶面测量步骤中所获得的顶面形状,对由于所述待测量对象的顶面形状而导致的光折射量进行校正。5.根据权利要求1所述的形状测量方法,其中,所述待测量对象是透镜。6.根据权利要求5所述的形状测量方法,其中,所述形状分析单元被配置为对所述顶面形状数据和所述底面形状数据中的至少一个进行拟合以计算所述透镜的顶点。7.根据权利要求6所述的形状测量方法,其中,所述形状分析单元被配置为计算所述透镜的顶面的顶点和底面的顶点之间的距离作为透镜厚度。

技术总结
本发明提供形状测量方法。所述形状测量方法获得待测量透光对象的在厚度方向上的形状数据。形状测量设备,将周期性图案施加于光束,所述周期性图案在与光轴垂直的方向上具有周期性并且在与光轴垂直的方向上可移位;在与光轴平行的方向上相对地移位物镜的焦点,并且基于光检测器所检测到的光束的强度的振幅来计算待测量对象的面形状数据。然后,顶面测量步骤,获取待测量对象的顶面的面形状数据,以及底面测量步骤,通过经由待测量对象的顶面进行透射并将物镜的焦点与待测量对象的底面对准来获取待测量对象的底面的面形状数据。来获取待测量对象的底面的面形状数据。来获取待测量对象的底面的面形状数据。


技术研发人员:L
受保护的技术使用者:株式会社三丰
技术研发日:2021.07.26
技术公布日:2022/2/6
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