用于保持待处理工件的移动式工件承载装置的制作方法

1.在本发明的上下文中，术语“平台”被用来描述工件承载装置。术语“并合平台”被用来描述工件承载装置，所述装置在此以转台系统的形式实现。
2.本发明涉及一种要用于在可抽真空的处理室，尤其是物理气相沉积(pvd)用涂覆室，例如像被用于例如阴极电弧或磁控溅射过程的涂覆室内处理工件的并合平台。本发明的并合平台例如通过使工件从一个处理步骤运动至另一个处理步骤允许在一个真空室内对一个批次的工件执行不同的预处理、涂覆和再处理步骤。这提供关于待处理的批量、预处理和再处理和涂覆步骤的高度灵活性并且也允许处理各不同形状和尺寸的工件。本发明的平台尤其适用于新开发类型的涂覆机，例如允许在同一系统内处理和涂覆分配在较小或较大的工件批次中的不同数量的工件的涂覆机。


背景技术：

3.从现有技术中知道了在真空涂覆之前和/或之后采用用于各种不同的真空处理过程的预处理或后处理步骤，例如加热步骤和/或清洁步骤。这些步骤是必需的，例如为了保证沉积涂层良好附着于基片。保证良好附着的预处理步骤尤其对于在工具如钻头、铣刀、成型工具和承受机械载荷的部件例如齿轮、注射模具、凸轮轴上的耐磨坚硬涂层以及对于在工作中承受高的机械磨蚀负荷的快速运动且承受重载的部件是特别重要的。涂层与基片表面的出色附着因此是经济耐用的先决条件。这些预处理过程的主要目的是准备工件以获得随后的涂层与基底的良好附着。增强涂层与基材的附着的得到证明的预处理方法包括如从de3330144中知道的电子轰击加热，如de2833876所述的利用稀有气体离子的溅射蚀刻以及借助反应性化学蚀刻工件。
4.为了获得尽量均匀一致的涂层厚度和质量的分布，关键的是控制工件经过处理源和蚀刻源的运动。要被预处理、涂覆和/或后处理的零件通常被固定至单独的工件座，其围绕系统轴线对称布置，或者可转动地安装在转台状工件支架上。已知的工业设备通常使用工件座或转台状工件支架，其被可转动联接至真空室，一般是真空室的底部。
5.分别在1997.09.25和1998.08.25的未被在先公开的瑞士专利申请2278/97和1736/98中，描述了一种行星式系统工件座。其中设有第一系统，其可以与设备侧驱动机构相连并且可绕与设备相关的轴线转动。第一转动系统在以下被称为中心系统。关于中心系统，在后者上设置第二转动系统，其转动轴线相对于中心系统的转动轴线平行错开，以下称之为行星系统，其运动通过所述室的安装形成的在参考系统上的可分离接合来产生。在行星系统中，设有第三转动系统，其以下被称为卫星系统，其以旋转轴线平行于行星系统和中心系统的方式被可转动地支承。
6.这种具有三重转动运动的工件支架尤其被用在相对小的工件情况下，以便引导其经过在设备上固定不动的处理源，例如涂覆源，并且以便从所有侧面均匀处理所述工件。在上述工件支架构型中，卫星系统被间歇置于转动运动中。这导致了工件的部分不稳定的叠加运动和进而针对工件处理均匀性的不利后果。间歇转动尤其对于由几个薄层制造的涂层
体系是不利的，造成涂覆质量降低。
7.zaech和kurz在us6620254/ep1153155b1中披露了上述工件支架的改进。由此，在中心系统和卫星系统之间的驱动连接如此建立，即它是不间断的，实现了连续的卫星系统转动运动。该驱动联接优选以强制驱动联接形式实现。中心系统被接合至设备侧驱动机构。至少一个支承在中心系统上的行星系统可绕行星轴线转动并且配备有与该设备相关的驱动离合器。至少一个卫星系统支承在行星系统上并且在与中心系统驱动连接情况下可绕卫星轴线转动。用于至少一个工件的容座设置在卫星系统上。此驱动连接至少在设备工作期间以不间断方式在中心系统与卫星系统之间被建立。
8.esser和zaech在ep2048263b1中披露了一种具有简化设计的工件承载装置，其以简单方式提供改变齿轮传动比的可能性。所披露的工件承载机构的主要优点是简易的致动机构和与此同时能够改变齿轮传动比的能力。底架可绕主轴线转动并且由一台电动机提供动力。致动不是通过使用中央致动器来完成的。相反，防扭齿轮被固定在枢转安装座上，另一个齿轮被安装在转台周边处。两个齿条齿轮相互啮合。电动机提供动力给转台周边上的齿轮，进而工件承载机构被转动。工件座通过齿条齿轮被如此联接至中央轴，其引起工件座的强制转动。这种设计提供工件的连续转动，这尤其对于沉积薄多层涂层是重要的。齿轮传动比可通过改变齿轮的尺寸或齿数被调节。
9.另一选项是使用带有工件座的真空处理系统，其中该工件座是转台。所述类型的系统通常采用如下转台，其能从真空室被完全取出以便简化工件座的装卸载。取出这样的转台可以例如通过使用叉车完成。
10.在另一做法中，转台被安装在带轮底架上。它接着可被运送至真空处理系统并通过将转台推入真空室中被插入所述室。所述类型的工件座被称为转台滑板。一旦转台滑板在所述室内处于最终位置，则底架被锁定并且中心致动器被接合到转台轴。这种设计的不利之处是所需的联接机构复杂，因为致动器不能在滑板插入期间妨碍转台滑板，但与此同时联接机构必须被连接至转台的中心轴以致动该转台。整个机械结构必须如此构建，其能承受住在工作中出现的极端状况，例如它必须能够在真空状况下运行。
11.gwehenberger在ep2758562b1中披露了一种具有工件座的真空处理系统，其中，工件座以转台形式如此实现，其通过使转台绕其轴线转动允许绕过在处理源前方的待处理工件。工件可以被如此安装在所述转台上，其允许转动一圈、两圈或多圈。转台通过一个周边致动器被提供动力。致动器处于与开口相对的真空室侧壁之处或附近，转台经由该开口可被插入。所述致动器被联接至安装在转台周边内的齿条齿轮，该齿条齿轮啮合入另一个安装在转台外侧面上的齿条齿轮。多个工件座可以被安装在转台上，而每个工件座具有一个安装在其外侧面上的齿条齿轮，以允许工件座转动。转台优选以转台滑板形式实现，以简化装卸载过程。优选在真空室内安装有轨道，以简化转台滑板的插入过程。
12.要利用pvd来处理和/或涂覆的工件的数量取决于具体客户要求。安装有工件座的涂覆室被设计成被装载一定数量的具有特定尺寸和形状的工件。工件批量以及工件的尺寸和形状限定了涂覆室的直径和高度。更确切说，当今所用的一种设备系的机器主要采用涂覆室，其显示出相同的直径并且在高度上被调节缩放，以给装备提供不同的装载容量。工件座于是被设计成满足真空室的要求，尤其是高度和直径。
13.待解决的问题
14.工件的尺寸和形状以及待处理和涂覆的工件数量的多样性主要取决于客户需求。小的涂覆室被用来处理和涂覆小批量工件。
15.必须设有大型涂覆室以处理和涂覆大批量工件。目前，将不同荷载装入一个大型机器在经济上并不可行，因为售出商品成本(cogs)的核销在给大型机器只装载小批量时将不利地影响总拥有成本(tco)。使用率取决于工件数量。这是cogs必须针对较小的装载量被调整的原因。
16.为提供具有不同装载容量的装备而产生的对各种不同的腔室设计的需求导致投入各种腔室设计的巨大时间损失和精力。除了因针对设备系的每台机器再设计腔室所引起的高昂支出，涂覆研发必须因为不同的高度、靶数量和其它原因而针对每台机器被调整。将一个具体涂层从一台机器转移至具有不同尺寸的另一机器是挑战性的且耗时的。此外，各种不同装备产品的实现是费时的，因为各种不同的产品无法全都同时实现。这又导致增加的成本。这导致增加的研发成本。


技术实现要素：

17.本发明的目的是提供一种要用于在真空系统内处理工件的平台，其允许所述真空系统的真空室被装载不同的工件批量，由此克服当前随现有技术的真空系统出现的问题。本发明尤其要提供一种解决方案，其克服pvd涂覆机的现有技术的问题。主要目的是减小cogs以获得所述真空系统的tco的较低折旧率，同时提供考虑不同的工件处理方法的高度灵活性。
18.根据本发明的问题解决方案-发明说明
19.这些目的通过本发明来如此实现，并合平台安装在真空系统的可抽真空的室内，其可以在以经济可行的方式工作的同时被用于对不同工件批量的各种处理。所述并合平台由至少两个具有不同直径的转台组成，其中至少一个显示出较小直径的转台可转动地安装在一个显示出较大直径的转台上。代替仅安装一个显示出较小直径的转台，也可以将多个这种转台安装至显示出较大直径的一个转台。
20.本发明的并合平台的设计提供一个广泛的应用范围，例如考虑了工件长度和装载容量的高度灵活性以及全都在同一室内施加各种预处理、涂层和再处理至工件的机会。在众多优点中，这提供了预处理和冷却的时间节省。由此，相比于现有技术的系统，所述平台允许积极影响tco，使得生产支出的减小。此外，它提供了关于要在所述机器的室内被涂覆的基片数量的更高灵活性，还有相比于现有技术的解决方案的许多其它优点。
21.在本发明的第一方面，披露了一种用于保持要安装在真空处理系统的真空室内的可处理的工件的工件承载装置，包括一个具有直径(d
x
)的转台(x)、一个或多个可安装在转台(x)上的具有直径(d
ym
《d
x
)的转台(ym)、可安装在一个或多个转台(ym)上的一个或多个具有直径(d
zn
≤d
ym
)的工件支架(zn)、第一致动器(a1)和第二致动器(a2)，其中，在所述致动器(a1)、(a2)与转台(x)、(ym)之间的强制联接利用传动机构如此安装，其允许该系统的至少两种工作模式，其中，在模式1中该致动器(a1)被提供动力而该致动器(a2)未被提供动力，使得转台(x)绕其中心旋转轴线(r
x
)转动，在模式2中该致动器(a1)未被提供动力而致动器(a2)被提供动力，使得转台(ym)绕其中心旋转轴线(r
ym
)转动，而转台(x)原地不动。在此应该理解的是本发明的工件承载装置不局限于在真空条件下使用，也可以被用在处于大气压
或高压下的涂覆系统等中。
22.在第一方面的另一例子中，根据本发明的工件承载装置的转台(x)基本上呈圆形，因此，转台(x)的表面积由a
x
＝π
×
(d
x
/2)2限定。转台(x)的基本呈圆形的设计在此尤其保证关于设置在转台(x)的外侧面上的处理设备的准确定位。一个或多个转台(ym)和/或一个或多个工件支架(zn)另一方面也可以在灵活制造过程情况下优选是三角形或者方形，例如长方形、正方形、梯形，或甚至五边形、六边形、部分或完全卵形等。关于转台(x)、转台(yn)和zn的面积，优选的选项是az≤ay《a
x
。
23.在第一方面的另一例子中，根据本发明的工件承载装置的该中央转台(x)和所述至少一个转台(ym)通过第三传动机构被联接，从而当工件承载装置按照模式1工作时，通过第三传动机构使所述至少一个转台(ym)处于转动运动。这样的设计尤其允许个别工件的甚至更灵活的加工处理。
24.在第一方面的另一例子中，根据本发明的工件承载装置的第一致动器(a1)通过第一传动机构被联接至中央转台(x)，第二致动器(a2)通过第二传动机构被联接至所述至少一个周边转台(ym)。这样的设计尤其允许个别工件的可精确控制的机加工。
25.在第一方面的另一例子中，根据本发明的工件承载装置的第一致动器(a1)和/或第二致动器(a2)被设计成机电式致动器，其中，通过施加控制电压至致动器(a1)和/或(a2)来优选产生围绕该轴(r
x
)和/或(r
ym
)的转动运动。相对于例如磁控制系统，机械式或机电式致动器的使用可以将允许关于工件在工件承载装置内的定位的靶向控制所需要的设计成本降至最低。
26.在第一方面的另一个例子中，根据本发明的工件承载装置可以被用在低于1毫巴，优选低于0.1毫巴，尤其是低于0.001毫巴的压力条件下。这样的设计尤其允许被用在用于pvd涂覆过程等的真空应用中。
27.为了保证布置在工件承载装置内的基材的精确且易于控制的涂覆，本发明在第一方面的另一个例子中规定，转台(x)和/或一个或多个转台(ym)和/或一个或多个工件支架(zn)是基本平面状的。在本发明范围内，平面被理解为尤其是指具有小于对应转台总厚度的5％，优选小于2％，尤其优选小于1％的与平均外表面之差的表面。
28.在节省空间且紧凑的布置的范围内，本发明还在第一方面的另一个例子中规定，一个或多个转台(ym)完全布置在第一转台(x)的区域内和/或一个或多个工件支架(zn)完全布置在一个或多个转台(ym)的区域内，其中，所述转台(ym)优选安装在转台(x)的周边，使得所述转台(ym)和(x)的边缘在从上方看时重叠。可以理解的是，在对应转台的区域内布置优选也意味着布置在扩大的区域中，例如关于对应旋转轴线的方向(非垂直于对应旋转轴线的方向)距对应转台的表面有一段距离。
29.在节省空间且紧凑的布置的范围内，在第一方面的另一例子中，本发明还规定，第一(a1)和/或第二致动器(a2)布置在转台(x)下方，与工件布置区域相反。在这样布置的范围内，致动器例如可以布置在可插入本发明的工件承载装置的真空室的底部上。
30.为了保证布置在工件承载装置内的基片的精确且易于控制的涂覆，在第一方面的另一例子中，本发明尤其规定旋转轴线(r
x
)和(r
ym
)彼此平行排齐。
31.为了保证布置在工件承载装置内的基片的精确且易控制的涂覆，在第一方面的另一例子中，本发明尤其规定，转台(x)、(ym)和(zn)彼此平行对齐，优选同时垂直于旋转轴线
(r
x
)和(r
ym
)地对齐。
32.在第一方面的尤其允许尤其灵活定位该工件的另一例子中，所述转台(x)和一个或多个转台(ym)可绕其旋转轴线(r
x
,r
ym
)被顺时针或逆时针转动，其中，转动角度可被设定为任意值。
33.关于紧凑且节省空间的布置，其同时为待处理工件的布置提供足够的空间，在第一方面的另一个例子中，一个或多个转台(ym)显示出直径d
ym
，优选是10％d
x
≤d
ym
≤50％d
x
，最优选是d
ym
＝50％d
x
和/或工件支架(zn)的直径为10％d
ym
≤d
zn
≤50％d
ym
。
34.在第一方面的另一例子中，转台(x)以转台滑板形式建造，其中，转台(x)被安装在带轮底架上。这样的设计尤其允许容易运送工件承载装置以及容易引入真空处理系统中，其可通过将转台推入真空室被装入真空处理系统中。
35.在允许各工件的可靠空间分隔的第一方面的另一例子中，壁被布置在一个转台(ym)旁边或多个转台(ym)之间，其中，这些壁竖向安装在一个转台(ym)旁边或多个转台(ym)之间，优选以大约直角在转台x上方，其中，所述壁显示出的高度和宽度尤其足以完全地将安装有一个转台(ym)的每个区段与相邻区段分开。
36.在本发明的第二方面，披露了一种用于处理工件的表面处理系统，包括前述的用于在处理过程中承载工件的工件承载装置，尤其呈真空室形式的用于引入工件承载装置的室，至少一个用于处理布置在工件承载装置内的工件的处理设备。因此，根据本发明的表面处理系统具有关于根据本发明的工件承载装置已经描述的相同的优点。
37.在工件承载装置的结构简单且可靠固定的范围内，在第二方面的另一个例子中，该表面处理系统的工件承载装置布置在所述室的壁或底部处，优选通过致动器(a1)和(a2)被联接至该室，所述致动器被可分离地固定至所述室的壁或底部。可分离固定例如可通过磁性座或螺纹连接或插接连接等实现。
38.为了保证均匀一致且高质量的工件处理，在第二方面的另一个例子中，该表面处理系统的工件承载装置布置在该处理系统的该室的中心，其中，一个或多个用于处理该工件的处理设备布置在工件承载装置周围。所述处理设备或所述多个处理设备优选被固定至所述室壁并且有利地围绕工件承载装置对称布置,所述工件承载装置是居中布置在根据本发明的表面处理系统内的。
附图说明
39.40.具体实施方式
41.本发明披露了一种并合平台，其关于装载容量还有处理方法提供高度灵活性，由此使得tco降低。所述并合平台装有具有直径d
x
＝100％的转台(x)，它由致动器(a1)提供动力并且可以顺时针或逆时针被转动向任一侧。转动角度可被设定至任意值。显示出直径d
ym
《d
x
的一个或多个转台(ym)安装在转台(x)上。安装在转台(x)上的转台(ym)的数量将被提及为m。一个或多个转台(ym)可绕其m旋转轴线(r
ym
)被顺时针或逆时针转动。转台(ym)的转动通过使用强制联接将转台(ym)联接至一个独立的致动器(a2)来产生。每个转台(ym)可以配备有数量为n的工件支架zn。工件支架可转动地安装在转台(ym)上并且能绕其旋转轴线(r
zp
)被转动，其中，1≤p≤n。工件支架(zn)显示出直径d
zn
≤d
ym
。工件支架利用强制联接被迫转动。
42.将举例描述本发明实施例，其意味着只是说明性且因此是非限制性的。
43.在本文中所提到的图是并非严格按照比例的绘图，因此是非限制性的。例如，转台的尺寸或数量也可以被选择为是不同的。
44.根据本发明的一个如图1所示的方面，m个转台(ym)被分散安装在一个转台(x)上。在图1所示的例子中m被选择为m＝8，但也可被选择为不同的数量。转台(x)可被转动一转动角度转台(ym)可被转动其m转动角度(ψm)。
45.根据本发明的一个优选实施例，转台(ym)被安装在转台(x)的周边，从而转台(ym)
和(x)的边缘在从上方看时重叠。图6-9示出此优选实施例。
46.根据本发明的如图2所示的一个实施例，显示出直径d
ym
，优选是10％d
x
≤d
ym
≤50％d
x
，最优选是d
ym
＝50％d
x
的m＝1转台(ym)被可转动地安装在转台(x)上。在此实施例中并合平台布置的竖向截面在图3中被示出。转台(x)由中央致动器(a1)提供动力，其通过大致竖向的起到旋转轴线(r
x
)作用的轴被联接至转台(x)。转台(x)可被顺时针和逆时针转动，而转动角度可被设定至任意值。转台(ym)被非居中地安装在转台(x)上并且由另一个独立致动器(a2)提供动力。转台(ym)可绕其旋转轴线(r
ym
)转动角度(ψm)。致动器(a2)给形成强制联接的齿轮系统提供动力。因为转台(ym)通过起到旋转轴线(r
ym
)作用的大致竖向轴可转动地安装至转台(x)，故可以显示出第二转动运动。致动器(a2)允许转台(ym)顺时针和逆时针转动，而转动角度(ψm)可被设定为任意值。两个独立的致动器的组合提供不同的工作模式。转台(ym)配备有n＝4个工件支架(zn)。工件支架(zn)的直径被选择为10％d
ym
≤d
zn
≤50％d
ym
。在此实施例中，对于全部n个工件支架(zn)，直径d
zp
是相同的，其中，1≤p≤n。n个工件支架(zn)的转动通过暂停转台(x)来获得，即，致动器(a1)被停止。每个工件支架可绕旋转轴线(r
zn
)顺时针或逆时针转动，而转动角度被标注为(ω
p
)。
47.安装在转台(ym)上的工件支架的数量n可以随变化的m而变。转台(ym)优选配备有数量为n的工件支架(zn)，其中，1≤n≤10。
48.本发明的平台能在两种不同的模式中工作。第一模式在图4中被示出并且在本文中被称为“转台模式”。在此工作模式中，致动器(a1)被提供动力，因此被顺时针或逆时针转动。致动器(a2)是固定的，未被提供动力。转台(x)的转台板于是绕其旋转轴线(r
x
)被顺时针或逆时针转动。这产生了齿轮主轴和进而转台(ym)的转台板，确切说是装有基材的主轴(z
p
)绕(r
zp
)的强制转动。
49.第二模式在图5中被示出并且在本文中被称为“主轴模式”。在此工作模式中，致动器(a1)未被提供动力且因此留在原位。这意味着，转台(x)的转台平台也是固定的并且未显示出绕旋转轴线(r
x
)转动。转动角度被设定至一个固定值并且在此工作模式期间保持不变。致动器(a2)被提供动力且使得转台(ym)的转台板绕旋转轴线(r
ym
)顺时针或逆时针转动，意味着转动角度(ψm)随时间而变。齿轮、齿轮定子、齿轮主轴和装有基材的主轴(z
p
)因此绕旋转轴线r
zp
和以转动角度(ω
p
)被转动。
50.但是，只采用一个转台(y1)的变型是非限制性的，也可以按照针对只具有一个转台(y1)的变型所描述的相同的方式将m个转台(ym)安装至转台x，而m≠1。安装至转台x的转台ym的数量优选被选定为在1≤m≤3之间。
51.安装在转台(ym)上的工件支架的数量n能随变化的m变化。根据本发明的一个实施例，转台(ym)配备有数量为n的工件支架(zn)，其中，1≤n≤10。
52.根据一个优选实施例，所有转台(ym)显示出相同的直径d
ym
，意味着d
yi
＝d
yj
，其中，1≤i，j≤m。但根据本发明的另一方面，转台直径(ym)也可以彼此不同，就是说d
yi
≠d
yj
，其中，1≤i，j≤m。
53.考虑到m＝1个转台(ym)被安装在转台(x)上和n＝4个工件座(zn)安装在(ym)上的实施例，所述的平台例如可以被用来执行不同的处理(预处理和后处理)并施加不同涂层至基片。根据如图6所示的一个实施例，转台(ym)例如可以安放在模块tk前方以便首先预处理
该基材(例如像加热、蚀刻)，接着它能被移动一个角度如可在图7中看到地，转台(x)绕旋转轴线(r
x
)被顺时针转动大约角度而到达另一个模块t
k 1
，例如以便施加第一涂层。接着，它能在逆时针方向上被进一步移动例如约如图8所示，以在处理源t
k-1
前方处理基材，例如沉积第二涂层。这是可行的，因为转台(ym)可自主转动地安装在转台(x)上。因此，转台(ym)上的基材能被安放在一个模块前方，直到完成其中一个加工步骤。接着，转台(ym)能以约为(ψm)的恒定角速度被转动，以获得所有基材的均匀处理或涂覆。在加工步骤后，转台(ym)可以通过使转台(x)转动约某个角度被移动到另一个模块和进而的加工步骤。
54.根据本发明的一个方面，所述独立的致动器被分散安装。它们例如可以被安装在真空室壁内，例如在与开口相对的壁中或邻近该壁，工件穿过该开口被插入所述室。接着，每个致动器被联接至安装在转台周边的齿条齿轮，其啮合入安装在并合平台上的另一个齿条齿轮。
55.根据本发明的一个方面，转台以转台滑板形式构建。因此，该转台被安装在带轮底架上。因此，它可以被运输到真空处理系统且通过将转台推入真空室被插入该室中。
56.根据本发明的另一方面，本发明的平台被用于给平面基材涂覆就一个维度而言具有变化厚度的涂层。这可以例如仅使用m＝1个转台(ym)完成。因此，转台(y1)停在涂覆源前面，这样将保持固定。转台(y1)被转向到涂覆源，例如电弧靶或溅射靶的前方。就是说，(ψ1)随时间被可控改变。可利用此方法施加凸形涂层。此外，可利用此方法产生染料分布例如以用于装饰应用。
57.根据本方明的一个方面，本发明的并合平台被插入显示出较大高度的真空室中以涂覆撑宽的棒状工件，所述工件无法在具有较小高度的真空室中被处理。
58.根据本发明的一个如图9所示的实施例，m＝3个转台ym被分散安装在一个转台x上。三个壁竖向安装在m个转台yi之间，其中，1≤i≤m，并且以大约直角安装在转台x上方。这些壁显示出高度和宽度，其足以完全将安装有一个转台yi的区段与相邻区段分开。所述并合平台被安装在具有数量为k的处理源tk的真空室内，其被选择以允许对基材的不同处理，所述基材是被安装在不同的转台yi上的。处理源的数量例如可以选择为k＝3。这允许插入三个不同的基材批次，其能以不同的方式和顺序被处理，因为它们相对于被施加至相邻区段和因此基材批次的处理被隔离开。根据本发明的一个方面，通过改变处理时间，被施加至转台y1上的基材批次的蚀刻作业不同于被施加至转台y2和y3的基材批次的蚀刻作业，尽管基材使用相同的处理源tk被处理。
59.根据如图10所示的一个实施例，具有显示出涂覆高度h＝400mm的涂覆室的机器配备有本发明的并合平台。所述并合平台包括转台(x)，其上装有m个其它转台(ym)，例如m＝8。如果平台按照“转台模式”工作，则n个工件支架(z
p
)，其中1≤p≤n，被如此安装在转台(ym)上，即，n≤m，优选n＝m，在此例子中n＝8。旋转轴线(r
zm
)和(r
zp
)重叠。由此，工件支架被安装在安装有转台(yi)的轴上，如果转台以“主轴模式”工作。在图10所示的实施例中，d
ym
＝d
zn
成立。转台(x)显示出直径d
x
＝1000mm。工件支架(zn)位于转台(x)的外边缘处。利用此布置，在此实施例中所述机器的装载容量为100％。如果在所述“转台模式”中工作，则真空室
配备有四个处理源。具有高度h＝400mm的同一机器可被配备有本发明的并合平台，而转台(x)是具有直径d
x
＝1000mm的相同转台。不同于具有装载容量100％的情况，m＝1个转台(ym)被安装在转台(x)上。n＝4个工件支架zn安装在此转台(y1)上。这提供50％的装载容量。处理源的数量因此被改变为用于50％装载容量的两个处理源。比较这两种情况，容置体保持相同，转台(x)也保持不变。转台(ym)的数量m、工件支架(zn)的数量n和靶tk的数量k根据装载容量被改变。转台(ym)保持靶与基材之间的必需距离并且绕旋转轴线(r
ym
)以恒定的角速度转动。齿轮传动比根据所施加的涂层来调试。转台(x)可被转动某个角度以使转台(yi)从一个位置(一个加工步骤)移动到下一位置(第二加工步骤)，其中，0≤i≤m，并且使另一个转台(yj)移动到原先由转台(yi)占据的位置，其中，0≤j≤m，j≠i。
60.附图标记：
[0061][0062]