一种减反射结构体及其制作方法、光学器件与流程

技术特征：
1.一种减反射结构体，其特征在于，包括：基底；位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的排列。2.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述微结构的上表面为平面状。3.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述基底和所述微结构的材料相同。4.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述基底和所述微结构的材料不同。5.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述微结构阵列呈螺旋排列、圆形排列、类矩形排列、拼接排列中的任一种。6.如权利要求2所述的减反射结构体，其特征在于，所述微结构的形状为圆柱体、棱台、棱柱中的任一种。7.如权利要求1至6任一项所述的减反射结构体，其特征在于，微结构阵列的等效折射率的平方等于所述基底的折射率和空气的折射率的乘积。8.一种减反射结构体的制作方法，其特征在于，包括：获得基底；在所述基底的上表面制备微结构阵列，其中，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的排列。9.如权利要求8所述的减反射结构体的制作方法，其特征在于，当所述微结构和所述基底的材料相同时，在所述基底的上表面制备微结构阵列包括：在所述基底的上表面涂覆光刻胶，并烘烤所述光刻胶；曝光所述光刻胶，并再次烘烤所述光刻胶；显影所述光刻胶；刻蚀所述基底形成所述微结构阵列，并去除所述光刻胶。10.一种光学器件，其特征在于，所述光学器件包括如权利要求1至7任一项所述的减反射结构体。

技术总结
本申请公开了一种减反射结构体，包括：基底；位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的矩形排列。本申请中的减反射结构体包括基底和设置在基底上的微结构阵列，由于微结构阵列中多个微结构呈不规则的排列，微结构阵列可以使散射光线在空间中均匀分布，所有角度的反射光强均比较小，从而防止减反射结构体表面产生眩光。此外，本申请还提供一种具有上述优点的减反射结构体制作方法和光学器件。优点的减反射结构体制作方法和光学器件。优点的减反射结构体制作方法和光学器件。


技术研发人员：王兴祥 陈文礼 胡汉林 李松华 包悦 赵文广 刘继伟 刘文霞 王金华 孙俊伟
受保护的技术使用者：烟台睿创微纳技术股份有限公司
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2022/2/8