基板处理装置用遮蔽件的制作方法

技术特征：
1.一种基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，具备：圆弧状的底板；从所述底板直立的多个支柱；以及由所述多个支柱沿垂直方向以多层支承的圆弧状的多个隔断板。2.根据权利要求1所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述多个隔断板的轮廓与所述底板的轮廓相同或比所述底板的轮廓小。3.根据权利要求2所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，在基板处理装置的反应管内配置有晶舟支承台，所述多个隔断板配置在具有筒状外形的所述晶舟支承台与所述反应管之间。4.根据权利要求3所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述多个隔断板形成为具有内径大于所述晶舟支承台的外径且外径小于所述反应管的内径的规定宽度的圆弧状。5.根据权利要求4所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述多个隔断板在两端以宽度变小的方式形成有倒角。6.根据权利要求4所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述多个隔断板的圆弧为180度。7.根据权利要求3所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述反应管具有向内侧突出的缓冲室、和设在比所述缓冲室的下端低的位置的排气口，所述多个隔断板中的最上层的隔断板配置在与所述缓冲室的下端大致相同的高度或比所述缓冲室的下端高的位置。8.根据权利要求3所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述多个隔断板中的最下层的隔断板配置在与所述晶舟支承台的下端大致相同的高度或比所述晶舟支承台的下端高的位置。9.根据权利要求3所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述多个隔断板的圆弧为180度。10.根据权利要求3所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述基板处理装置用遮蔽件设在将所述反应管的下方的开口封堵的密封盖之上。11.根据权利要求3所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述基板处理装置用遮蔽件由耐热耐腐蚀性材料制成。12.根据权利要求10所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，所述底板具有用于固定到所述密封盖的多个螺纹孔。13.根据权利要求1-12中任一项所述的基板处理装置用遮蔽件，其特征在于，在所述多个隔断板中，在外周的对应位置形成有上下贯穿的切缺口，以供基板处理装置中使用的气体供给管穿过。

技术总结
本实用新型提供一种基板处理装置用遮蔽件，设置于基板处理装置的反应管的底部，防止从缓冲室供给的等离子体沿着相反侧的反应管的内表面向下流动而被排气，由此，能够改善晶舟的上下的基板处理的均匀性，并且，遮蔽加热器的辐射热，抑制与炉口部空间之间的气体的出入，能够提高炉口部的隔热性。该基板处理装置用遮蔽件具备：圆弧状的底板；从上述底板直立的多个支柱；以及由上述多个支柱沿垂直方向以多层支承的圆弧状的多个隔断板。多层支承的圆弧状的多个隔断板。多层支承的圆弧状的多个隔断板。


技术研发人员：森田慎也 中嶋诚世 村田慧
受保护的技术使用者：株式会社国际电气
技术研发日：2021.09.09
技术公布日：2022/2/19