一种应用于光学胶的清洗设备的制作方法

技术特征：
1.一种应用于光学胶的清洗设备，其特征在于，包括一结构主体，所述结构主体包括：悬空架、超声波清洗单元及静电吸附单元；所述悬空架的上端面设有对称分布的移动单元，所述移动单元包括移动滑轨及卡接于所述移动滑轨内的u字型连接柱，所述连接柱朝内一侧设有升降架，所述升降架卡接有滑动连接的承托件；所述静电吸附单元包括上静电力吸附辊及下静电力吸附辊，所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊分别设于所述悬空架的上下侧，所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊的同一侧设有y字型连接件，所述连接件内侧设有y字型的通线腔，所述通线腔内部放置有电源线，所述电源线将所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊与外接电源接通；所述超声波清洗单元包括超声波清洗箱及设于所述超声波清洗箱内部的支撑架，所述支撑架的两端设有挂耳，所述挂耳卡于所述超声波清洗箱的边缘。2.根据权利要求1所述的一种应用于光学胶的清洗设备，其特征在于：所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊与所述连接件的连接处设有旋转座，且所述旋转座的中心部挖有贯穿所述旋转座的通线孔，所述电源线通过所述通线孔。3.根据权利要求1所述的一种应用于光学胶的清洗设备，其特征在于：所述超声波清洗箱由箱体、超声波发生器及超声波发射器，所述超声波发生器设于箱体的下端，所述超声波发射器设于所述箱体的内壁上，所述超声波发射器与超声波发生器电性连接。4.根据权利要求1所述的一种应用于光学胶的清洗设备，其特征在于：所述上静电力吸附辊与下静电力吸附辊的外表面均设有粘层。5.根据权利要求1所述的一种应用于光学胶的清洗设备，其特征在于：所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊均为圆柱体。

技术总结
本实用新型公开一种应用于光学胶的清洗设备，包括一结构主体，所述结构主体包括：悬空架、超声波清洗单元及静电吸附单元；所述悬空架的上端面设有对称分布的移动单元，所述移动单元包括移动滑轨及卡接于所述移动滑轨内的U字型连接柱，所述连接柱朝内一侧设有升降架，所述升降架卡接有滑动连接的承托件；设置有超声波清洗单元及静电吸附单元，通过超声波清洗及静电吸附的方式对光学胶进行清洗处理，双重清洗的方式能够确保光学胶的清洗干净，同时整个过程采用不与光学胶接触的方式，能够保护到光学胶的表面。光学胶的表面。光学胶的表面。


技术研发人员：李敏 李程远 曾国财
受保护的技术使用者：东莞市优达控股有限公司
技术研发日：2021.09.25
技术公布日：2022/3/8