一种应用于光学胶的清洗设备的制作方法

1.本实用新型涉及光学胶制备领域，尤其涉及一种应用于光学胶的清洗设备。


背景技术：

2.光学胶是一种用于胶结透明光学元件的特种胶粘剂。要求具有无色透明、光透过率在90％以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点。有机硅胶、丙烯酸型树脂及不饱和聚酯、聚氨酯、环氧树脂等胶粘剂都可胶结光学元件。在配制时通常要加入一些处理剂，以改进其光学性能或降低固化收缩率。
3.光学胶在完成制备后由于其表面带有一定的粘度，常会附着上灰尘等污物而导致不符合出货要求，常规的方式是对光学胶进行擦拭，但清洁效果不够彻底。


技术实现要素：

4.为了克服现有技术方案的不足,本实用新型提供一种应用于光学胶的清洗设备，能够解决背景技术提出的问题。
5.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种应用于光学胶的清洗设备，包括一结构主体，所述结构主体包括：悬空架、超声波清洗单元及静电吸附单元；
6.所述悬空架的上端面设有对称分布的移动单元，所述移动单元包括移动滑轨及卡接于所述移动滑轨内的u字型连接柱，所述连接柱朝内一侧设有升降架，所述升降架卡接有滑动连接的承托件；
7.所述静电吸附单元包括上静电力吸附辊及下静电力吸附辊，所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊分别设于所述悬空架的上下侧，所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊的同一侧设有y字型连接件，所述连接件内侧设有y 字型的通线腔，所述通线腔内部放置有电源线，所述电源线将所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊与所述外界电源接通；
8.所述超声波清洗单元包括超声波清洗箱及设于所述超声波清洗箱内部的支撑架，所述支撑架的两端设有挂耳，所述挂耳卡于所述超声波清洗箱的边缘。
9.进一步的，所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊与所述连接件的连接处设有旋转座，且所述旋转座的中心部挖有贯穿所述旋转座的通线孔，所述电源线通过所述通线孔；
10.进一步的，所述超声波清洗箱由箱体、超声波发生器及超声波发射器，所述超声波发生器设于箱体的下端，所述超声波发射器设于所述箱体的内壁上，所述超声波发射器与超声波发生器电性连接；
11.进一步的，所述上静电力吸附辊与下静电力吸附辊的外表面均设有粘层；
12.进一步的，所述上静电力吸附辊及下静电力吸附辊均为圆柱体。
13.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型的一种应用于光学胶的清洗设备，设置有超声波清洗单元及静电吸附单元，通过超声波清洗及静电吸附的方式对光学胶进行清洗处理，双重清洗的方式能够确保光学胶的清洗干净，同时整个过程采用不与光学胶接触的方式，能够保护到光学胶的表面。
附图说明
14.图1为本实用新型整体结构示意图；
15.图2为本实用新型第一局部结构示意图；
16.图3为本实用新型第二局部结构示意图；
17.图4为本实用新型第三局部结构示意图。
18.图中标号：1-悬空架；2-超声波清洗单元；3-静电吸附单元；4-移动单元；5-移动滑轨；6-连接柱；7-升降架；8-承托件；9-上静电力吸附辊；10
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下静电力吸附辊；11-连接件；12-通线腔；13-电源线；14-超声波清洗箱； 15-支撑架；16-挂耳；17-旋转座；18-通线孔；19-箱体；20-超声波发生器； 21-超声波发射器。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.下面结合图1-4对本实用新型的一种应用于光学胶的清洗设备作详细的描述：一种应用于光学胶的清洗设备，包括一结构主体，所述结构主体包括：悬空架1、超声波清洗单元2及静电吸附单元3；
21.所述悬空架1的上端面设有对称分布的移动单元4，所述移动单元4包括移动滑轨5及卡接于所述移动滑轨5内的u字型连接柱6，所述连接柱6朝内一侧设有升降架7，所述升降架7卡接有滑动连接的承托件8；
22.所述静电吸附单元3包括上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10，所述上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10分别设于所述悬空架1的上下侧，所述上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10的同一侧设有y字型连接件11，所述连接件11内侧设有y字型的通线腔12，所述通线腔12内部放置有电源线 13，所述电源线13将所述上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10与所述外界电源接通；
23.所述超声波清洗单元2包括超声波清洗箱14及设于所述超声波清洗箱14 内部的支撑架15，所述支撑架15的两端设有挂耳16，所述挂耳16卡于所述超声波清洗箱14的边缘。
24.优选地，所述上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10与所述连接件11 的连接处设有旋转座17，且所述旋转座17的中心部挖有贯穿所述旋转座的通线孔18，所述电源线13通过所述通线孔18，利用旋转座17将上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10进行转动，能够均匀地将灰尘等颗粒吸附，尽最大化地吸附更多的颗粒；
25.所述超声波清洗箱14由箱体19、超声波发生器20及超声波发射器21，所述超声波发生器20设于箱体19的下端，所述超声波发射器21设于所述箱体19的内壁上，所述超声波发射器21与超声波发生器20电性连接，超声波发生器20产生超声波并通过超声波发射器21发出；
26.所述上静电力吸附辊9与下静电力吸附辊10的外表面均设有粘层，利用粘层的粘性将污物黏住；所述上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10均为圆柱体。
27.工作原理：将待清洗的光学胶放置在承托件8上，移动滑轨5将光学胶移动到静电
吸附单元3中的上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10之间，外界电源通过电源线13为上静电力吸附辊9及下静电力吸附辊10供电，使得其表面具有静电力，利用静电力的吸附作用对光学胶表面上灰尘等颗粒进行吸附；随后移动滑轨5将光学胶移动到超声波清洗箱14的正上方，通过升降架7将承托件8及放置在其上方的光学胶均放进到支撑架15内部，利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的，完成后升降架7将其升起完成清洗过程；
28.由于升降架7在经过静电吸附单元3时，升降架7会与下静电力吸附辊10发生干涉，因此在连接件11的一侧会安装有移动机构，控制静电吸附单元 3的前进与退出，防止出现运动干涉的情况。
29.综上所述，本实用新型的一种应用于光学胶的清洗设备，设置有超声波清洗单元及静电吸附单元，通过超声波清洗及静电吸附的方式对光学胶进行清洗处理，双重清洗的方式能够确保光学胶的清洗干净，同时整个过程采用不与光学胶接触的方式，能够保护到光学胶的表面。
30.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。