显示面板及其制备方法、显示装置与流程

1.本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。


背景技术：

2.有机发光二极管显示器件(organic light emission diode，oled)因其发光效应，且在显示上有厚度薄、可弯曲、色彩对比度高等优点，在显示技术行业受到广泛的青睐。
3.目前，参见图1，图1为现有技术中通过精细金属掩膜板蒸镀有机材料的结构示意图；在oled有机发光层的制备过程中，有机材料需要通过精细金属掩膜板将其蒸镀到制备有薄膜晶体管的基板上，以分别形成r/g/b的有机发光层。其中，在蒸镀腔室内，为防止精细金属掩膜板与基板直接接触划伤基板上的衬底膜层，会在基板的特定位置设置支撑柱，以对精细金属掩膜板进行支撑。
4.然而，现有显示面板，其支撑柱背离基板的一侧表面可能被掩模版划伤或累积有机材料，导致该表面凹凸不平，平整性较差；从而导致产品封装可靠性差、显示异常的问题。


技术实现要素：

5.本技术提供一种显示面板以及制备方法、显示装置，旨在解决现有显示面板，其支撑柱背离基板的一侧表面可能被掩模版划伤，导致该表面凹凸不平，平整性较差；从而导致产品封装可靠性差、显示异常的问题。
6.为解决上述技术问题，本技术采用的第一个技术方案是：提供一种显示面板。该显示面板包括：基板、像素限定层以及若干支撑柱；其中，像素限定层形成于所述基板，并定义形成若干像素区域；若干支撑柱设置于所述像素限定层背离所述基板的一侧表面，且位于相邻所述像素区域之间；其中，所述支撑柱上形成有避位部，以使掩膜板的开口边缘通过所述避位部悬空设置。
7.其中，所述避位部包括位于所述支撑柱的侧壁的若干凹陷结构，所述若干凹陷结构沿所述支撑柱的周向方向间隔设置。
8.其中，每一所述凹陷结构由所述支撑柱背离所述基板的一侧表面延伸至所述支撑柱靠近所述基板的一侧表面；
9.优选地，所述支撑柱沿垂直于所述显示面板的膜层堆叠方向的截面呈“x”型。
10.其中，所述若干支撑柱的沿垂直于所述显示面板的膜层堆叠方向横向的截面的面积总和与所述显示面板的显示区的面积的比值为2％-4％。
11.其中，所述凹陷结构的内凹面呈“v”形且具有第一夹角，所述掩膜板的开口的边缘对应所述凹陷结构的位置呈“v”形且具有第二夹角，所述第一夹角的角度不小于所述第二夹角的角度；
12.优选地，所述凹陷结构的内凹面呈弧形且具有第一曲率半径，所述掩膜板的开口的边缘对应所述凹陷结构的位置呈弧形且具有第二曲率半径，所述第一曲率半径大于所述第二曲率半径。
13.其中，所述避位部包括凹槽结构，所述凹槽结构开设于所述支撑柱背离所述基板的一侧表面，所述凹槽结构沿对应的所述掩膜板的开口的边缘延伸；
14.其中，所述凹槽结构沿垂直于所述显示面板的膜层堆叠方向的截面的面积，沿背离所述基板的方向逐渐增大。
15.为解决上述技术问题，本技术采用的第二个技术方案是：提供一种显示装置。该显示装置包括上述所涉及的显示面板。
16.为解决上述技术问题，本技术采用的第三个技术方案是：提供一种显示面板的制备方法。该方法包括：在基板上形成像素限定层；其中，所述像素限定层定义形成若干像素区域；在所述像素限定层上形成若干支撑柱；其中，所述支撑柱位于相邻所述像素区域之间，所述支撑柱上形成有避位部；在所述支撑柱上放置掩膜板，并使所述掩膜板的开口边缘通过所述避位部悬空。
17.其中，在所述掩膜板的开口与所述像素区域对位的情况下，所述支撑柱的凹陷结构和所述掩膜板接触的表面边缘与对应的所述掩模版的开口边缘之间的间隙a满足：其中，所述掩膜板的开口精度为
±
b，所述掩膜板的位置精度为
±
c。
18.本技术实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板通过设置基板、形成于基板的像素限定层，并使该像素限定层定义形成若干像素区域；同时，通过在像素限定层背离基板的一侧表面设置若干支撑柱，并使支撑柱上形成有避位部，以使掩膜板的开口边缘通过避位部悬空设置；这样不仅能够通过支撑柱对掩膜板进行支撑，且在掩膜板与基板对位以及形成有机发光层的过程中，由于掩膜板的开口边缘可以通过支撑柱上的避位部悬空设置，能够使支撑柱绕开掩膜板的开口边缘，从而能够有效避免掩膜板的开口边缘划伤支撑板使支撑板表面出现凹坑的问题，进而能够有效提高支撑柱背离基板的一侧表面的平整性，提高产品封装的可靠性，降低产品显示异常问题的发生概率。
附图说明
19.图1为现有技术中通过精细金属掩膜板蒸镀有机材料的结构示意图；
20.图2为现有技术中支撑柱与掩膜板的开口边缘之间的位置关系示意图；
21.图3为现有技术中支撑柱被划伤的结构示意图；
22.图4为现有技术中支撑柱上沉积有机材料的结构示意图；
23.图5为本技术一实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；
24.图6为本技术一实施例提供的避位部为凹陷结构的支撑柱与掩膜板的开口边缘之间的位置示意图；
25.图7为本技术一实施例提供的在支撑柱上放置掩膜板的结构示意图；
26.图8为本技术另一实施例提供的避位部为凹陷结构的支撑柱与掩膜板的开口边缘之间的位置示意图；
27.图9为本技术一实施例提供的避位部为凹槽结构的支撑柱与掩膜板的开口边缘之间的位置示意图；
28.图10为在图9所示支撑柱上放置掩膜板的结构示意图；
29.图11为本技术一实施例提供的在避位部为台阶的支撑柱上放置掩膜板的结构示意图。
具体实施方式
30.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
31.本技术中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
32.在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本技术的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
33.下面结合附图和实施例对本技术进行详细的说明。
34.目前，参见图2，图2为现有技术中支撑柱与掩膜板的开口边缘之间的位置关系示意图。为了使同一个支撑柱11可以对多种像素区域101，比如r、g、b像素区域101对应的不同掩膜板12同时起到支撑作用；一般将支撑柱11设置在不同掩膜板12的开口121的交叉位置。然而，参见图3，图3为现有技术中支撑柱被划伤的结构示意图；本技术发明人研究发现，上述方案在精细金属掩膜板12与基板10a对位过程中，支撑柱11可能被r、g、b中的其中一个、两个或三个像素区域101对应的掩膜板12的开口边缘122划伤，导致支撑柱11表面产生凹坑，严重影响产品的封装效果，使得产品显示异常。同时，参见图4，图4为现有技术中支撑柱上沉积有机材料的结构示意图；在蒸镀有机材料形成有机发光层的过程中，支撑柱11背离基板10a的一侧表面(以下定义为支撑柱11的顶面)可能累积有机材料导致支撑柱11表面产生凸起，进而导致支撑柱11表面平整性较差，在后续进行化学气相沉积(cvd)沉积其他功能层之后，出现cvd膜质差、更为甚者导致cvd产生裂纹，使得在cvd膜层异常位置，无法对产品进行有效封装，最终导致产品封装可靠性差而出现显示区暗斑，影响产品的正常使用的问题。
35.本技术实施例提供一种显示面板的制备方法以及由该方法制备得到的显示面板，该显示面板能够有效防止支撑柱11背离基板10a的一侧表面被掩膜板12划伤，以及避免发生有机材料沉积在支撑柱11背离基板10a的一侧表面的问题，进而能够有效保证支撑柱11背离基板10a的一侧表面的平整性，提高产品可靠性，避免发生显示面板显示异常的问题。
36.请参阅图5，图5为本技术一实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；该显示面板的制备方法具体包括：
37.步骤s1：在基板上形成像素限定层。
38.其中，基板10a可以为薄膜晶体管基板。薄膜晶体管基板包括衬底和设于衬底上的若干薄膜晶体管(thin film transistor，tft)。其中，薄膜晶体管的外围，也就是非显示区内还设置有薄膜晶体管外围走线。其中衬底可以由具有柔性的任意合适的绝缘材料形成，例如，可以由聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、聚对苯二甲酸乙-醇酯(pet)、聚萘-甲酸乙二醇酯(pen)、多芳基化合物(par)或玻璃纤维增强塑料(frp)等聚合物材料形成。衬底可以是透明的、半透明的或不透明的。薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极、有源层，在有源层和栅极之间可设置栅极绝缘层，在栅极和源极、漏极之间可设置层间绝缘层，在源极和漏极远离栅极一侧可设置钝化层，钝化层远离源极和漏极一侧可设置平坦化层，其中，平坦化层可以为压克力、聚酰亚胺或苯并环j烯等有机层。
39.像素限定层10b可以采用蒸镀或沉积等方式由聚酰亚胺(pi)、聚酰胺、苯并环j烯(bcb)、压克力树脂或酚醛树脂等有机材料形成。在具体实施例中，参见图6，图6为本技术一实施例提供的避位部为凹陷结构的支撑柱与掩膜板的开口边缘之间的位置示意图；像素限定层10b定义形成若干像素区域101，若干像素区域101包括红色、绿色、蓝色像素区域101；且若干像素区域101可呈阵列分布。每个像素区域101可对应设置一个发光单元。
40.步骤s2：在像素限定层上形成若干支撑柱；其中，支撑柱位于相邻像素区域之间，支撑柱上形成有避位部。
41.其中，支撑柱11上形成有避位部，在执行步骤s3的过程中，参见图7，图7为本技术一实施例提供的在支撑柱11上放置掩膜板12的结构示意图；可使掩膜板12的开口边缘122通过支撑柱11的避位部悬空设置，这样能够有效避免掩膜板12的开口边缘122划伤支撑柱11背离基板10a的一侧表面的问题发生。在具体实施例中，为使该支撑柱11能够同时对多种不同的像素区域101对应的掩膜板12起到支撑作用，比如，在放置第一种掩膜板12可通过该支撑柱11进行支撑，在去除该第一种掩膜板12后，放置第二种或第三种掩膜板12时，该支撑柱11同样可对第二种掩膜板12或第三种掩膜板12进行支撑，且多种不同的掩膜板12的开口边缘122不会对支撑柱11造成划伤。
42.如图6所示，该避位部具体可包括位于支撑柱11的侧壁的若干凹陷结构111，若干凹陷结构111沿支撑柱11的周向方向间隔设置，且每一凹陷结构111使多种不同掩膜板12的其中一种掩膜板12的开口121悬空设置。
43.在一具体实施例中，一个支撑柱11可同时对四种不同的掩膜板12进行支撑，可以理解的是，此时，支撑柱11的避位部包括四个凹陷结构111，每一凹陷结构111对应使其中一种掩膜板12的开口边缘122悬空。具体的，在该实施例中，参阅图6，支撑柱11沿垂直于显示面板的膜层堆叠方向的截面呈“x”型。当然，支撑柱11的横截面也可成矩形、三角形、五边形等。
44.在具体实施例中，该方法还包括：通过掩膜板12在若干像素区域101沉积有机材料以形成对应的有机发光层；具体形成可参见现有技术。在具体实施过程中，为避免有机材料累积在支撑柱11背离基板10a的表面，影响后续封装层的平整性，可进一步使每一凹陷结构111由支撑柱11背离基板10a的一侧表面延伸至支撑柱11靠近基板10a的一侧表面，该实施例所对应的支撑柱11与该支撑柱11所能支撑的不同掩膜板12的开口121的俯视图具体可参见图6。可以理解的是，此时，凹陷结构111即为开设在支撑柱11的侧壁上的沿其长度方向延
伸的通槽；当然，在其它实施例中，该凹陷结构111也可从支撑柱11背离基板10a的一侧表面朝向基板10a的方向延伸，但不延伸至支撑柱11背离基板10a的一侧表面，即凹陷结构111为开设在支撑柱11的侧壁上的一端开口121，一端封闭的凹槽，该凹槽的侧视图可参见下图11，本技术对此并不加以限制，只要能够使掩膜板12的开口边缘122悬空，并使有机材料能够累积于该凹陷结构111内而非支撑柱11背离基板10a的表面即可。
45.本领域技术人员可以理解的是，支撑柱11的横截面一般为规则形状，其一般为方形，若想要避开掩膜板12的开口边缘122，则需要将支撑柱11的横截面沿其长度方向和/或宽度方向整体缩小，然而这样支撑柱11对掩膜板12的支撑效果就会变差；且若支撑柱11的横截面面积缩短太小，支撑柱11的高度就会降低，而若支撑柱11的高度降低较多，增加支撑柱11的个数则无法对提升支撑柱11的支撑效果起太多作用。为此，本技术实施例通过将支撑柱11的横截面设置成不规则的内凹型结构。该异形结构设计，可以在满足支撑柱11不与掩膜板12的开口边缘122接触的基础上，将支撑柱11面积最大化，既可以满足支撑柱11不划伤，也能最大程度保证支撑效果。
46.具体的，该不规则内凹型结构可采用halftone工艺，通过在同一张光罩的不同区域设置多种透过率形成。具体的，可采用曝光显影的方法将支撑柱11内凹区域的材料刻蚀掉，保留“中心”的部分对掩膜板12进行支撑。其中，采用halftone工艺制备支撑柱11，无需增加复杂工艺流程，即可实现支撑柱11的不规则的图案化，节约生产成本，具备量产性。
47.具体的，在像素限定层10b上形成若干支撑柱11的步骤具体包括：在像素限定层10b上形成膜层；然后使用掩膜板12进行曝光以形成若干支撑柱11。其中，掩膜板12的预设位置的透光率不同，这样能够通过一次曝光即可制得呈倒梯形的支撑柱11，工艺简单，成本较低。其中，掩膜板12的预设位置与支撑柱11的位置对应。具体的，支撑柱11的横截面尺寸沿背离像素限定层10b的方向逐渐减小；这样能够增强支撑柱11对后续设置的掩膜板12的支撑作用。
48.当然，支撑柱11也可通过蒸镀、沉积、喷墨等方式形成，只要能够形成上述结构即可。
49.其中，如图6所示；支撑柱11的凹陷结构111和掩膜板12接触的表面边缘与对应的掩模版的开口边缘122之间的间隙为零。在另一具体实施例中，参见图8，图8为本技术另一实施例提供的避位部为凹陷结构111的支撑柱11与掩膜板12的开口边缘122之间的位置示意图；支撑柱11的凹陷结构111和掩膜板12接触的表面边缘与对应的掩模版的开口边缘122间隔设置。其中，在掩膜板12的若干开口121与像素区域101对位的情况下，支撑柱11的凹陷结构111和掩膜板12接触的表面边缘与对应的掩膜板12的开口边缘122之间的间隙a满足：其中，掩膜板12的开口121精度为
±
b，掩膜板12的开口121位置精度为
±
c。这样能够在掩膜板12的开口121与对应的像素区域101的位置出现偏差时，仍保持支撑柱11的边界外扩于掩膜板12的开口边缘122，即保持支撑柱11的边界绕开掩膜板12的开口边缘122，以防止支撑柱11的顶面被划伤或沉积有机材料，保证支撑柱11的顶面的平整性。其中，a具体可不小于1毫米。当然，也可能不小于1.2毫米、1.5毫米等。
50.具体的，如图8所示，支撑柱11的凹陷结构111的内凹面与掩膜板12的开口121边缘形状匹配。在一实施方式中，凹陷结构111的内凹面呈“v”形且具有第一夹角α，掩膜板12的开口121的边缘对应凹陷结构111的位置呈“v”形且具有第二夹角β，第一夹角的角度α夹角
不小于第二夹角的角度β。在另一实施方式中，凹陷结构111的内凹面呈弧形且具有第一曲率半径，掩膜板12的开口121的边缘对应凹陷结构111的位置呈弧形且具有第二曲率半径，第一曲率半径大于第二曲率半径。上述两种方式能够有效保证在后续沉积有机材料的过程中，有机材料不会累计在支撑柱11的顶面，并避免发生支撑柱11的顶面被划伤的问题。
51.在另一实施例中，参见图9至图10，其中，图9为本技术一实施例提供的避位部为凹槽结构112的支撑柱11与掩膜板12的开口边缘122之间之间的位置示意图；图10为在图9所示支撑柱11上放置掩膜板12的结构示意图。避位部包括凹槽结构112，凹槽结构112开设于支撑柱11背离基板10a的一侧表面，凹槽结构112沿对应的掩膜板12的开口121的边缘延伸。这样在执行步骤s3的过程中，可使掩膜板12的开口边缘122通过支撑柱11上的凹槽结构112悬空设置，即，掩膜板12的开口边缘122与支撑柱11的表面不接触，从而避免掩膜板12与支撑柱11对位过程中，掩膜板12的开口边缘122划伤支撑柱11的顶面的问题发生，进而有效保证支撑柱11的顶面的平整性，提高产品封装的可靠性，降低产品显示异常问题的发生概率。同时，如图10所示，在沉积有机材料形成有机发光层的过程中，能够使沉积在支撑柱11的顶面的有机材料收集在该凹槽结构112内，相比于现有技术中，直接累积在支撑柱11的顶面的方案，避免了支撑柱11表面因沉积有机材料导致支撑柱11的顶面凸起的问题，影响后续封装及显示效果的问题。具体的，该凹槽结构112也可采用上述凹陷结构111的制备方式进行制备，具体可参见上文。
52.具体的，相邻两个开口121所对应的掩膜板12还可以通过两个或三个、四个等支撑柱11进行支撑，以在避免支撑柱11被划伤或沉积有机材料的同时，提高支撑柱11对后续掩膜板12的支撑作用。
53.进一步地，为了在实现支撑柱11表面平整性的同时，保证支撑柱11与掩膜板12之间的接触面积不低于甚至大于现有支撑柱11与掩膜板12的接触面积，以保证支撑柱11对掩膜板12的支撑效果，可增大像素限定层10b上支撑柱11的密度；具体的，可使若干支撑柱11的沿垂直于显示面板的膜层堆叠方向横向的横截的面积总和与显示面板的显示区的面积的比值为2％-4％。
54.可以理解，在步骤s2之前还包括，在每个像素区域101形成对应像素单元的阳极电极步骤。具体可以通过图案化金属层的方法。
55.步骤s3：在支撑柱上放置掩膜板，并使掩膜板的开口边缘通过避位部悬空。
56.支撑柱11上放置掩膜板12的结构可参见图7。其中，掩膜板12可以是金属掩膜板12，一种掩膜板12可对应一种像素区域101，掩膜板12上具有若干开口121。其中，一个开口121对应一个像素区域101。在具体实施例中，开口121的周向边缘形状与像素区域101的周向边缘形状相同。具体的，一种像素区域101可对应一个掩膜板12或多个掩膜板12。比如像素限定层10b上的所有红色像素区域101对应一个特定的掩膜板12；像素限定层10b上的所有蓝色像素区域101对应另一掩膜板12；此时，若干像素区域101的同一种像素区域101全部通过掩膜板12上的若干开口121暴露，以通过同一张掩膜板12形成对应的有机发光层，工艺简单，成本较低。
57.在具体实施例中，掩膜板12的遮挡部将若干支撑柱11的顶面全部覆盖；这样能够有效防止在沉积有机材料形成有机发光层的过程中，有机材料沉积在支撑柱11的顶面的问题发生。其中，掩膜板12的遮挡部指掩膜板12上区别于开口121的位置。
58.当然，在具体实施例种，该方法还包括在有机发光层上形成阴极。最后对产品进行封装。其中，形成阳极、阴极、封装工艺以及制备显示面板的其它工艺与现有技术相同或相似，且可实现相同或相似的技术效果，在此不再赘述。
59.本技术实施例提供的显示面板的制备方法，该方法通过在基板10a上形成像素限定层10b；在像素限定层10b上形成若干支撑柱11，并使若干支撑柱11上形成有避位部，以在支撑柱11上放置掩膜板12，能够使掩膜板12的开口边缘122通过避位部悬空，从而不仅能够通过支撑柱11对掩膜板12进行支撑，且能使支撑柱11绕开掩膜板12的开口边缘122，有效避免了掩膜板12的开口边缘122划伤支撑板使支撑板表面出现凹坑的问题，以及避免在形成有机发光层的过程中，有机材料沉积在支撑柱11背离基板10a的一侧表面的问题，进而能够有效保证支撑柱11背离基板10a的一侧表面的平整性，提高产品封装的可靠性，降低产品显示异常问题的发生概率。
60.在一实施例中，还提供一种采用上述显示面板的制备方式制得的显示面板。参见图6至图10。该显示面板包括基板10a、像素限定层10b、若干发光单元以及若干支撑柱11。
61.其中，基板10a可为薄膜晶体管基。像素限定层10b形成于基板10a，并定义形成若干像素区域101；像素限定层10b可以由聚酰亚胺(pi)、聚酰胺、苯并环j烯(bcb)、压克力树脂或酚醛树脂等有机材料形成。
62.若干发光单元对应设置于若干像素区域101，且每一发光单元对于设置于一个像素区域101。其中，若干发光单元包括蓝光发光单元、绿光发光单元和红光发光单元。在具体实施例中，每一发光单元包括阳极、有机发光层以及阴极。进一步地，每一发光单元还包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层和阴极中的至少一个。在一实施例中，阳极、空穴注入层以及空穴传输层位于有机发光层接近基板10a的一侧，电子传输层、电子注入层和阴极位于有机发光层远离基板10a的一侧。
63.若干支撑柱11设置于像素限定层10b背离基板10a的一侧表面，且支撑柱11上形成有避位部，用于使掩膜板12的开口边缘122通过支撑柱11的避位部悬空设置，这样能够有效避免掩膜板12的开口边缘122划伤支撑柱11背离基板10a的一侧表面的问题发生。在具体实施例中，为使该支撑柱11能够同时对多种不同的像素区域101对应的掩膜板12起到支撑作用，比如，在放置第一种掩膜板12可通过该支撑柱11进行支撑，在去除该第一种掩膜板12后，放置第二种或第三种掩膜板12时，该支撑柱11同样可对第二种掩膜板12或第三种掩膜板12进行支撑，且多种不同的掩膜板12的开口边缘122不会对支撑柱11造成划伤，该避位部具体可包括位于支撑柱11的侧壁的若干凹陷结构111，若干凹陷结构111沿支撑柱11的周向方向间隔设置，且每一凹陷结构111使多种不同掩膜板12的其中一种掩膜板12的开口121悬空设置。
64.在一具体实施例中，支撑柱11的避位部包括四个凹陷结构111，每一凹陷结构111使一种掩膜板12的开口边缘122悬空；这样能够使一个支撑柱11可同时对四种不同的掩膜板12进行支撑。具体的，参阅图6或图7，支撑柱11沿垂直于显示面板的膜层堆叠方向的截面呈“x”型。当然，支撑柱11的横截面也可成矩形、三角形、五边形等。
65.在具体实施例中，为避免显示面板在制备过程中有机材料累积在支撑柱11背离基板10a的表面，影响后续封装层的平整性，每一凹陷结构111由支撑柱11背离基板10a的一侧表面延伸至支撑柱11靠近基板10a的一侧表面，该实施例所对应的支撑柱11与该支撑柱11
所能支撑的不同掩膜板12的开口121的俯视图具体可参见图6。可以理解的是，此时，凹陷结构111即为开设在支撑柱11的侧壁上的沿其长度方向延伸的通槽；当然，在其它实施例中，该凹陷结构111也可从支撑柱11背离基板10a的一侧表面朝向基板10a的方向延伸，但不延伸至支撑柱11背离基板10a的一侧表面，即凹陷结构111为开设在支撑柱11的侧壁上的一端开口121，一端封闭的凹槽，本技术对此并不加以限制，只要能够使掩膜板12的开口边缘122悬空，并使有机材料能够累积于该凹陷结构111内而非支撑柱11背离基板10a的表面即可。
66.具体的，支撑柱11的横截面尺寸沿从支撑柱11的底面(即支撑柱11靠近基板10a的表面)到顶面(即支撑柱11背离基板10a的表面)的方向逐渐减小，以保证支撑柱11对掩膜板12的支撑效果；当然，支撑柱11的横截面尺寸沿其高度方向也可相同，即呈柱状。
67.具体的，如图8所示，支撑柱11的凹陷结构111的内凹面与掩膜板12的开口边缘122形状匹配。在一实施方式中，凹陷结构111的内凹面呈“v”形且具有第一夹角α，掩膜板12的开口121的边缘对应凹陷结构111的位置呈“v”形且具有第二夹角β，第一夹角的角度α夹角不小于第二夹角的角度β。在另一实施方式中，凹陷结构111的内凹面呈弧形且具有第一曲率半径，掩膜板12的开口121的边缘对应凹陷结构111的位置呈弧形且具有第二曲率半径，第一曲率半径大于第二曲率半径。上述两种方式能够有效保证在制备显示面板的过程中，有机材料不会累计在支撑柱11的顶面，并避免发生支撑柱11的顶面被划伤的问题。
68.具体的，为了在实现支撑柱11表面平整性的同时，保证支撑柱11与掩膜板12之间的接触面积不低于甚至大于现有支撑柱11与掩膜板12的接触面积，以保证支撑柱11对掩膜板12的支撑效果，若干支撑柱11的沿垂直于显示面板的膜层堆叠方向横向的横截的面积总和可与显示面板的显示区的面积的比值为2％-4％。
69.在另一具体实施例中，参见图9至图10，避位部包括凹槽结构112，凹槽结构112开设于支撑柱11背离基板10a的一侧表面，凹槽结构112沿对应的掩膜板12的开口121的边缘延伸。这样放置掩膜板12时，可使掩膜板12的开口边缘122通过支撑柱11上的凹槽结构112悬空设置，即，掩膜板12的开口边缘122与支撑柱11的表面不接触，从而避免掩膜板12与支撑柱11对位过程中，掩膜板12的开口边缘122划伤支撑柱11的顶面的问题发生，进而有效保证支撑柱11的顶面的平整性，提高产品封装的可靠性，降低产品显示异常问题的发生概率。同时，在沉积有机材料形成有机发光层的过程中，能够使沉积在支撑柱11的顶面的有机材料收集在该凹槽结构112内，相比于现有技术中，直接累积在支撑柱11的顶面的方案，避免了支撑柱11表面因沉积有机材料导致支撑柱11的顶面凸起的问题，影响后续封装及显示效果的问题。
70.具体的，该凹槽结构112沿垂直于显示面板的膜层堆叠方向的截面的面积沿背离基板10a的方向逐渐增大；当然，也可呈矩形或锥形等。在另一实施例中，参见图11，图11为本技术一实施例提供的在避位部为台阶的支撑柱11上放置掩膜板12的结构示意图。凹陷111为台阶；台阶位于支撑柱11背离像素限定层10b的一侧表面的边缘；且台阶的侧面沿着对应的开口121的周向边缘延伸。
71.其中，该显示面板还包括封装层以及其它现有显示面板所包括的结构，其具体结构与功能与现有显示面板中的相关结构与功能相同或相似，且可实现相同或相似的技术效果，在此不再赘述。
72.本实施例提供的显示面板通过设置基板10a、形成于基板10a的像素限定层10b，并
使该像素限定层10b定义形成若干像素区域101；同时，通过在像素限定层10b背离基板10a的一侧表面设置若干支撑柱11，并使支撑柱11上形成有避位部，以使掩膜板12的开口边缘122通过避位部悬空设置；这样不仅能够通过支撑柱11对掩膜板12进行支撑，且在掩膜板12与基板10a对位以及形成有机发光层的过程中，由于掩膜板12的开口边缘122可以通过支撑柱11上的避位部悬空设置，能够使支撑柱11绕开掩膜板12的开口边缘122，从而能够有效避免掩膜板12的开口边缘122划伤支撑柱11使支撑柱11表面出现凹坑的问题，进而能够有效提高支撑柱11背离基板10a的一侧表面的平整性，提高产品封装的可靠性，降低产品显示异常问题的发生概率。
73.在一实施例中，还提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一实施例所所涉及的显示面板。
74.以上仅为本技术的实施方式，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本技术的专利保护范围内。