一种OLED显示面板及OLED显示面板的制备方法与流程

一种oled显示面板及oled显示面板的制备方法
技术领域
1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种oled显示面板及oled显示面板的制备方法。


背景技术：

2.现有的oled显示面板包括：一包含薄膜晶体管(thin film transistor，简称tft)驱动电路的tft基板，以及设置于tft基板上的多个oled器件，oled器件通常包括：设于tft基板上的阳极、设于阳极上的有机发光层及设于有机发光层上的阴极。oled器件的发光原理为有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。
3.其中，oled显示面板由于具有高开口率而应用于大尺寸高解析度显示面板，然而，oled器件的阴极一般采用薄层金属银制备，其电阻率较大，从而造成电压降较大，造成tft基板的实际驱动电压与电源电压有较大的差异，在大尺寸的oled显示面板上，表现为大面积的亮度不均匀，从而影响显示效果。
4.为了解决大尺寸的oled显示面板的电压降较大的问题，现有技术中通过在非显示区设有接触改善区，在接触改善区通过增加与oled器件的阴极相连接的改善电极从而改善电压降，而且有机发光层设在oled器件的阴极和改善电极之间。由于在喷墨打印形成有机发光层的过程中，有机发光层的有机发光材料会溢出并流入至显示面板的其他位置，而且有机发光材料的导电性欠佳，有机发光材料在溢出后通常会向下溅射在改善电极上，因此在接触改善区容易形成有机层从而导致改善电极与oled器件的阴极接触不佳，而影响显示面板显示效果的均匀性。


技术实现要素：

5.本技术提供一种oled显示面板及oled显示面板的制备方法，以提高显示面板显示效果的均匀性。
6.本技术提供一种oled显示面板，其包括：
7.基板；
8.辅助电极层，所述辅助电极层设在所述基板上，所述辅助电极层包括辅助阴极；
9.像素定义层，所述像素定义层设在所述辅助电极层上，所述像素定义层设有第一开口；
10.第一电极，所述第一电极设在所述第一开口内，所述第一电极与所述第一开口的内壁之间具有空隙，所述第一电极与所述辅助阴极连接；
11.阴极，所述阴极设在所述像素定义层上，并通过所述第一开口与所述第一电极连接。
12.可选的，在本技术一些实施例中，所述oled显示面板还包括平坦层，所述平坦层设在所述辅助电极层上，所述像素定义层设在所述平坦层上，所述平坦层设有与所述第一开口相连通的第二开口，所述第一电极设在所述第一开口和所述第二开口内，所述阴极通过
所述第一开口及所述第二开口与所述第一电极连接。
13.可选的，在本技术一些实施例中，所述第一电极与所述第二开口的内壁之间具有空隙。
14.可选的，在本技术一些实施例中，所述第一电极的数量为多个，多个所述第一电极相间隔设置。
15.可选的，在本技术一些实施例中，所述辅助阴极的数量为一个，一个所述辅助阴极与多个所述第一电极连接。
16.可选的，在本技术一些实施例中，所述辅助阴极包括连接面，所述连接面上设有凹槽，所述第一电极的一端设在所述凹槽内。
17.可选的，在本技术一些实施例中，所述辅助阴极的数量为多个，所述辅助阴极与所述第一电极一一对应连接，所述辅助阴极的一端向所述第一开口内伸出，所述第一电极包裹所述辅助阴极的一端。
18.可选的，在本技术一些实施例中，所述辅助阴极在厚度方向截面的形状为回型结构、u型结构、l型结构、s型结构和o型结构中的任一种。
19.可选的，在本技术一些实施例中，所述第一电极和所述辅助阴极在厚度方向截面的形状相同。
20.相应地，本技术还提供一种oled显示面板的制备方法，其包括以下步骤：
21.提供一基板；
22.在所述基板上制作形成辅助电极层，所述辅助电极层包括辅助阴极；
23.在所述辅助电极层上制作形成像素定义层，所述像素定义层设有第一开口；
24.在所述第一开口内制作形成第一电极，所述第一电极与所述第一开口的内壁之间具有空隙，所述第一电极与所述辅助阴极连接；
25.在所述像素定义层上制作形成阴极，所述阴极通过所述第一开口与所述第一电极连接。
26.本技术提供一种oled显示面板及oled显示面板的制备方法。其中，oled显示面板包括基板；辅助电极层，所述辅助电极层设在所述基板上，所述辅助电极层包括辅助阴极；像素定义层，所述像素定义层设在所述辅助电极层上，所述像素定义层设有第一开口；第一电极，所述第一电极设在所述第一开口内，所述第一电极与所述第一开口的内壁之间具有空隙，所述第一电极与所述辅助阴极连接；阴极，所述阴极设在所述像素定义层上，并通过所述第一开口与所述第一电极连接。本技术通过像素定义层设有第一开口，并在第一开口内设有第一电极，而且第一电极与所述第一开口的内壁之间具有空隙，因此在喷墨打印形成有机发光层的过程中，有机发光层的有机发光材料只会通过第一开口流入至第一电极与所述第一开口的内壁之间的空隙内，有机发光层的有机发光材料很难溅射至第一电极与阴极的接触面上，再将阴极通过所述第一开口与所述第一电极连接，因此不会在第一电极和阴极之间形成有机发光层，不会在第一电极和阴极之间形成有机发光层，而第一电极和阴极保持良好接触则能改善阴极的压降，从而提高显示效果的均匀性。
附图说明
27.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使
用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。
28.图1为本技术提供的oled显示面板的第一结构的示意图；
29.图2为本技术提供的oled显示面板的辅助阴极的截面示意图；
30.图3为本技术提供的oled显示面板的制备方法的流程图；
31.图4为本技术的oled显示面板的制备过程图；
32.图5为本技术提供的oled显示面板的第二结构的示意图；
33.图6为本技术提供的oled显示面板的第三结构的示意图；
34.图7为本技术提供的oled显示面板的第四结构的示意图；
35.图8为本技术提供的oled显示面板的第五结构的示意图。
具体实施方式
36.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所得到的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
37.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
38.本技术提供一种oled显示面板100及oled显示面板100的制造方法，以下进行详细说明。需要说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对本技术实施例优选顺序的限定。
39.请参阅图1，图1为本技术提供的oled显示面板100的第一结构的示意图。本技术提供一种oled显示面板100，其包括基板10、辅助电极层20、像素定义层30、第一电极40和阴极50；
40.所述基板10可以包括单层柔性有机层或者两层以及以上的柔性有机层。柔性有机层的材料选自聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺和聚醚砜中的一种或多种。
41.所述辅助电极层20设在所述基板10上，所述辅助电极层20包括辅助阴极21；所述辅助电极层20的材料包括铜、钼钛、钼和铟锡氧化物中的至少一种。
42.所述像素定义层30设在所述辅助电极层20上，所述像素定义层30设有第一开口31。所述像素定义层30的材料为有机材料，有机材料可以选自环氧树脂、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯酸酯等。
43.所述第一电极40设在所述第一开口31内，所述第一电极40与所述第一开口31的内
壁之间具有空隙311，所述第一电极40与所述辅助阴极21连接；所述阴极50设在所述像素定义层30上，并通过所述第一开口31与所述第一电极40连接。
44.其中，所述第一电极40的材料包括铟锌氧化物、铟锡氧化物、银、银合金、铝和铝合金中的至少一种。阴极50的材料包括电阻率大的透明氧化物。
45.而本技术通过像素定义层30设有第一开口31，并在第一开口31内设有第一电极40，而且第一电极40与所述第一开口31的内壁之间具有空隙311。因此在喷墨打印形成有机发光层的过程中，有机发光层的有机发光材料在溢出后只会通过第一开口31流入至第一电极40与所述第一开口31的内壁之间的空隙311内，有机发光层的有机发光材料很难溅射至第一电极40与阴极50的接触面上，再将阴极50通过所述第一开口31与所述第一电极40连接，因此不会在第一电极40和阴极50之间形成有机发光层，有机发光层不会影响第一电极40和阴极50之间的连接，而第一电极40和阴极50保持良好接触则能改善阴极50的压降，从而提高显示效果的均匀性。
46.所述oled显示面板100还包括钝化层80，所述钝化层80设在基板10上，所述钝化层80设有通孔81，所述辅助阴极21设在所述通孔81内。钝化层80使基板10的金属表面转化为不易被氧化的状态，而延缓腐蚀速度。钝化层80包括无机层或有机层。无机层的材料可以选自氧化铝、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳化硅、氧化钛、氧化锆、氧化锌等。有机层的材料可以选自环氧树脂、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯酸酯等。
47.所述oled显示面板100还包括阳极70和有机发光层60，所述像素定义层30设有第三开口32，所述阳极70设在第三开口32内，所述有机发光层60设在阳极70上，多个oled器件呈阵列状排布，所述阴极50通过第三开口32与所述有机发光层60连接。oled器件还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层等。本技术所使用的oled器件可以为顶发光型oled器件，也可以为底发光型oled器件。
48.另外，在一些实施例中，所述第一电极40的高度大于或等于20纳米。这样可以确保第一电极40与第一开口31的内壁之间具有足够大的空隙，空隙可以容纳足够多的有机发光层的有机发光材料。
49.进一步地，请参考图2，图2为本技术提供的oled显示面板的辅助阴极21的截面示意图，图2中给出a、b、c、d和e一共五种结构的辅助阴极在厚度方向截面的形状；在一些实施例中，所述辅助阴极21在厚度方向截面的形状为回型结构、u型结构、l型结构、s型结构和o型结构中的任一种。所述辅助阴极21的宽度为3微米至5微米，所述第一电极40与所述辅助阴极21相重叠且接触部分的宽度不低于3微米，这样可以保证所述第一电极40与所述辅助阴极21之间具有良好接触导电性能。例如，当所述第一电极40覆盖所述辅助阴极21，所述辅助阴极21为回型结构、u型结构和l型结构时，所述第一电极40与所述辅助阴极21相重叠且接触部分的最大宽度为l，此时l不低于3微米。例如，当所述第一电极40覆盖所述辅助阴极21，所述辅助阴极21为s型结构和o型结构时，所述第一电极40与所述辅助阴极21相重叠且接触部分的最大宽度为第一接触部分的宽度l1和第二接触部分的宽度l2两者的和，此时l1和l2相加的值不低于3微米。
50.请参考图3和图4，图3为本技术的oled显示面板100的制备方法的流程图，图4为本技术的oled显示面板100的制备过程图。本技术还提供一种oled显示面板100的制备方法，其包括以下步骤：
51.s10、提供一基板10。所述基板10可以包括单层柔性有机层或者两层以及以上的柔性有机层。柔性有机层的材料选自聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺和聚醚砜中的一种或多种。所述基板10具有衬底作用。
52.s20、在所述基板10上制作形成辅助电极层20，所述辅助电极层20包括辅助阴极21。所述辅助电极层20的材料包括铜、钼钛、钼和铟锡氧化物中的至少一种。
53.s30、在所述辅助电极层20上制作形成像素定义层30，所述像素定义层30设有第一开口31。所述像素定义层30的材料为有机材料，有机材料可以选自环氧树脂、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯酸酯等。所述第一开口31使得所述辅助阴极21裸露出来。
54.s40、在所述第一开口31内制作形成第一电极40，所述第一电极40与所述第一开口31的内壁之间具有空隙311，所述第一电极40与所述辅助阴极21连接。所述第一电极40的材料包括铟锌氧化物、铟锡氧化物、银、银合金、铝和铝合金中的至少一种。
55.s50、在所述像素定义层30上制作形成阴极50，所述阴极50通过所述第一开口31与所述第一电极40连接。阴极50的材料包括电阻率大的透明氧化物。
56.本技术的制备方法在第一电极40与第一开口31的内壁之间设有空隙311，因此在喷墨打印形成有机发光层的过程中，有机发光层的有机发光材料在溢出后只会通过第一开口31流入至第一电极40与所述第一开口31的内壁之间的空隙311内，有机发光层的有机发光材料很难溅射至第一电极40与阴极50的接触面上，再将阴极50通过所述第一开口31与所述第一电极40连接，因此不会在第一电极40和阴极50之间形成有机发光层，有机发光层不会影响第一电极40和阴极50之间的连接，而第一电极40和阴极50保持良好接触则能改善阴极50的压降，从而提高显示效果的均匀性。
57.请参考图5，图5为本技术提供的oled显示面板100的第二结构的示意图，本实施例与图1所提供的oled显示面板100的不同的是，所述第一电极40的数量为多个，多个所述第一电极40相间隔设置。具体地，多个所述第一电极40呈阵列排布。
58.本技术通过多个第一电极40相间隔设置，这样可以使得用于容纳有机发光层的有机发光材料的容纳空间不仅包括所述第一电极40和所述第一开口31的内壁之间的空隙，还包括多个所述第一电极40之间的空间，从而可以增大容纳空间的容量，有机发光层的有机发光材料填充在多个所述第一电极40之间以及所述第一电极40和所述第一开口31的内壁之间的空隙311，从而进一步避免在喷墨打印形成有机发光层的过程中，有机发光层的有机发光材料溅射至第一电极40与阴极50的接触面上。
59.由上可知，不仅可以通过设置所述第一电极40和所述第一开口31的内壁之间的空隙的大小来调节容纳空间，也可以通过设置相邻所述第一电极40之间的间距来调节容纳空间，从而使得有机发光层的有机发光材料始终位于较低的位置，避免有机发光层影响第一电极40与阴极50的接触效果。
60.在一些实施例中，辅助阴极21的数量为一个，第一电极40的数量为多个，一个所述辅助阴极21与多个所述第一电极40连接，可以减少制作时间，提高生产效率。进一步地，辅助阴极21包括连接面，所述连接面上设有凹槽22，所述第一电极40的一端设在所述凹槽22内。通过设有凹槽22，可以增加第一电极40和辅助阴极21的接触面积，而提高第一电极40和辅助阴极21的连接稳定性。其中，在一些实施例中，辅助阴极21和钝化层80保持齐平，在本
申请的其他实施例中，所述辅助阴极21的一端也可相对于所述钝化层80向所述第一开口31内伸出，辅助阴极21与所述第一开口31的内壁之间也具有空隙311，这样可以进一步增大空隙311的深度。
61.请参考图6，图6为本技术提供的oled显示面板100的第三结构的示意图，本实施例与图5所提供的oled显示面板100的不同的是，所述辅助阴极21的数量为多个，所述辅助阴极21与所述第一电极40一一对应连接，所述辅助阴极21的一端向所述第一开口31内伸出，所述第一电极40包裹所述辅助阴极21的一端。
62.本技术通过设置多个辅助阴极21，而且多个辅助阴极21与多个第一电极40一一对应连接，并通过第一电极40包裹在辅助阴极21的一端，这样可以增加第一电极40和辅助阴极21的接触面积，而提高第一电极40和辅助阴极21的连接稳定性，同时提高用于容纳有机发光层的有机发光材料的容纳空间。
63.具体地，在一些实施例中，所述辅助阴极21的一端相对于所述钝化层80向所述第一开口31内伸出。当然，在本技术其他实施例中，所述辅助阴极21的一端和所述钝化层80齐平。
64.在一些实施例中，所述辅助阴极21的宽度为3微米至5微米，所述相邻辅助阴极21之间的间距为4微米至5微米。所述辅助阴极21的高度大于或等于85纳米。
65.进一步地，在一些实施例中，所述第一电极40和所述辅助阴极21在厚度方向截面的形状相同。第一电极40和辅助阴极21的截面具有相同的形状，能保证第一电极40和辅助阴极21充分接触，从而提高接触面积。
66.请参考图7，图7为本技术提供的oled显示面板100的第四结构的示意图，本实施例与图1所提供的oled显示面板100的不同的是，所述oled显示面板100还包括平坦层90，所述平坦层90设在所述辅助电极层20上，所述像素定义层30设在所述平坦层90上，所述平坦层90设有与所述第一开口31相连通的第二开口91，所述第一电极40设在所述第一开口31和所述第二开口91内，所述阴极50通过所述第一开口31及所述第二开口91与所述第一电极40连接。
67.本技术通过设有与所述第一开口31相连通的第二开口91，可以增加开口的深度，从而增大第一电极40的设计空间，有利于减少显示面板的厚度。
68.在一些实施例中，所述第一电极40与所述第二开口91的内壁之间具有空隙311。
69.本技术通过在所述第一电极40与所述第二开口91的内壁之间设有空隙311，可以进一步增大所述第一电极40和开口的内壁之间的空隙311的容积，也即是所述第一电极40和开口的内壁之间的空隙311可以容纳更多的有机发光层的有机发光材料，进一步避免有机发光层在形成过程中有机发光层的有机发光材料溅射至第一电极40上。
70.请参考图8，图8为本技术提供的oled显示面板100的第五结构的示意图，本实施例与图1所提供的oled显示面板100的不同的是，所述辅助电极层20还包括薄膜晶体管的源极22以及漏极23。而且薄膜晶体管的源极22以及漏极23和辅助阴极21相绝缘隔开。所述薄膜晶体管的漏极23与所述阳极70连接。
71.通过将薄膜晶体管的源极22以及漏极23和辅助阴极21同时设在辅助电极层20上，也即是在形成薄膜晶体管的源极22以及漏极23的同时形成辅助阴极21，可以减少光刻工序，不需要新增膜层结构或者膜层材料。
72.以上对本技术实施例所提供的一种oled显示面板及oled显示面板的制造方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。