吸力夹具、物体输送装置、平台设备和光刻设备的制作方法

吸力夹具、物体输送装置、平台设备和光刻设备
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求于2020年1月17日递交的欧洲申请20152451.9的优先权，所述欧洲申请的全部内容通过引用并入本文中。
技术领域
3.本发明涉及夹持诸如衬底或晶片之类的物体的技术领域。具体地，本发明涉及吸力夹具、物体输送装置、平台设备和光刻设备。


背景技术：

4.光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模)的图案(常常也被称为“设计布局”或“设计”)投影至被设置于衬底(例如晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
5.随着半导体制造过程继续进步，数十年来，电路元件的尺寸已持续地减小，而每器件的诸如晶体管之类的功能元件的量已在稳步地增加，这遵循通常被称为“摩尔定律”的趋势。为了紧跟摩尔定律，半导体行业正追求使得能够产生越来越小特征的技术。为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定被图案化于所述衬底上的特征的最小大小。当前在使用中的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm至20nm的范围内的波长(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(euv)辐射的光刻设备可以用以在衬底上形成较小特征。
6.当图案被投影于所述衬底上时，所述衬底通常被安装在衬底支撑件上。为了将所述衬底布置于所述衬底支撑件上，多个支撑构件被布置成接收所述衬底。所述支撑构件可以包括用于使用夹持力来夹持所述衬底的一个或更多个吸力夹具。在接收所述衬底之后，所述支撑构件同时竖直向下移动，直到所述衬底由所述衬底支撑件支撑为止。
7.通常，所述衬底由物体夹钳或物体夹持器布置至所述支撑构件上。所述夹钳或夹持器也可以包括用于使用夹持力来夹持所述衬底的一个或更多个吸力夹具。
8.近年来诸如所谓的3dnand和3d xpoint衬底之类的发展已导致衬底更经常地为不平坦的，而是具有平面外形状，例如翘曲或弯曲。这可能是例如具有内应力的层的数目增加的后果。已观察到，这样的翘曲或弯曲衬底不总被物体输送装置和/或支撑销的常规吸力夹具适当地夹持。


技术实现要素：

9.本发明的目的是至少提供用于现有技术装置的替代方案。本发明的目的是减轻现有技术装置的一个或更多个缺点。特别地，本发明的目的是提供针对弯曲的或翘曲的物体的有所改善的夹持。
10.根据本发明的第一方面，利用用于夹持物体的吸力夹具来实现以上目的中的一个
或更多个目的。所述吸力夹具包括：基部结构，所述基部结构包括基部和连接区域；和第一垫，所述第一垫用于接收所述物体。所述吸力夹具还包括弹性构件，所述弹性构件将所述第一垫连接至所述基部结构的所述连接区域，使得所述第一垫能够相对于所述基部在用于接收所述物体的接收位置与用于夹持所述物体的夹持位置之间移动，其中所述弹性构件适于将所述第一垫偏压至所述接收位置。所述吸力夹具还包括抽吸开口，所述抽吸开口被布置于所述基部中且适于连接至吸力装置，所述吸力装置用于提供吸力以供将所述物体夹持于所述第一垫上。
11.当所述弹性构件将所述第一垫朝向所述接收位置偏压时，则所述第一垫当所述物体被布置至所述吸力夹具上时被布置于所述接收位置中。所述物体可以例如是衬底或晶片。即使当所述物体具有翘曲表面时，也确保所述物体的所述翘曲表面的至少下部部分由所述第一垫接合。因为所述弹性构件允许所述第一垫朝向所述夹持位置移动，则至少在其与所述翘曲表面接合的情况下，所述翘曲表面的较高部分也由所述第一垫接合。当所述第一垫接着朝向所述夹持位置移动时，所述翘曲表面大致由所述吸力而被拉直。所述物体可以被适当地夹持在明确限定的位置中。
12.在实施例中，所述吸力夹具还包括压降构件，所述压降构件被布置成当经由所述抽吸开口提供所述吸力时，使所述压降构件下游的内部压力低于所述第一垫上游的环境压力。有利地，所述压降构件增大被施加于所述物体上的所述吸力。
13.在实施例中，所述压降构件相对于所述基部被布置于固定位置中，并且其中至少在所述第一垫的所述接收位置中，在所述第一垫与所述压降构件之间存在间隙。有利地，在这种实施例中，所述压降构件是耐磨的。
14.在实施例中，所述压降构件被布置于所述抽吸开口与所述第一垫之间。已发现，这种布置有益于所述压降构件对被施加于所述物体上的所述夹持力的效应。
15.在实施例中，所述压降构件被布置成与所述第一垫相邻，其中在所述第一垫的所述夹持位置中，所述第一垫和压降构件是邻接的。有利地，在所述夹持位置中，减少了吸入空气的任何泄漏。
16.在实施例中，所述第一垫是环形元件，可选地为圆形或椭圆环形；和/或其中所述压降构件是环形元件，可选地为圆形或椭圆环形。已发现这种布置对于夹持所述物体是有利的。
17.在实施例中，所述第一垫包括至少第一区和第二区，其中所述第一区适于能够从所述接收位置移动至所述夹持位置，而所述第二区保持处于所述接收位置。有利地，当所述物体具有翘曲表面时，所述第一区可以首先与所述翘曲表面的下部部分接合，而所述第二区当所述第一区已经移动至所述夹持位置时与所述翘曲表面的较高部分接合。如此，所述翘曲表面可以被更好地夹持。
18.在实施例中，所述基部结构包括垫接收区域，所述垫接收区域适于当所述第一垫处于所述夹持位置时与所述第一垫接合。有利地，所述第一垫的位置被明确限定于所述夹持位置中，并且如此同样也限定了所述物体的位置。
19.在实施例中，所述第一垫适于在所述接收位置与所述夹持位置之间移动的距离小于0.5mm、优选小于0.3mm，例如大致0.2mm。已发现，这对于相对翘曲的物体是足够的，而同时仍允许明确限定所述物体的位置。
20.在实施例中，所述弹性构件是弹簧，例如片簧。已发现这是在相对简单地生产的同时实现令人满意的结果的布置。
21.在实施例中，所述基部结构包括第一突起，其中所述第一突起包括所述连接区域。有利地，所述弹性构件可以容易地被附接至所述突起，例如在不妨碍其它部件或被其它部件妨碍的情况下。
22.在本发明的第二方面中，本发明涉及一种吸力夹具，所述吸力夹具至少具有第一垫，其中所述第一垫具有不对称形状，所述不对称形状当在所述吸力夹具的俯视图中查看时包括：具有第一质心的第一端、具有第二质心的第二端、中间部分，在所述第一端与所述第二端之间且具有第三质心，所述中间部分在第一侧上具有第一边界部分且在第二侧上具有第二边界部分，其中所述第一边界部分和所述第二边界垫部分彼此平行，其中当沿从所述第一侧至所述第二侧的方向查看时，所述第三质心位于所述第一质心与所述第二质心之间。已发现，利用根据所述第二方面的吸力夹具来批准所述夹持。
23.本发明的所述第二方面可以与所述第一方面组合，但本发明如此也涉及所述第二方面。
24.在实施例中，所述第一端包括第一非平行边界且所述第二端包括第二非平行边界，其中所述第一非平行边界和所述第二非平行边界被调适为与所述物体不同心。
25.在所述第二方面的另外的实施例中，当沿与从所述第一侧至所述第二侧的方向垂直的方向查看时，所述第二端比所述第一端更长。
26.本发明还涉及一种物体夹持器，所述物体夹持器至少包括根据本发明的所述第一和/或第二方面的第一吸力夹具。有利地，所述物体可以被更好地夹持，从而减少所述物体的在所述物体夹持器的移动期间相对于所述物体夹持器的移动。
27.在实施例中，所述物体夹持器还包括第二和第三根据本发明的所述第一和/或第二方面的吸力夹具。有利地，所述物体可以被更好地夹持，从而减少所述物体的在所述物体夹持器的移动期间相对于所述物体夹持器的移动。
28.本发明还涉及一种物体输送装置，所述物体输送装置包括根据本发明的物体夹持器，以及连接至第一吸力夹具和/或第二吸力夹具和/或第三吸力夹具的抽吸开口的吸力装置。有利地，所述物体可以被较好地夹持，从而允许所述物体输送装置更准确地定位所述物体。
29.本发明还涉及一种用于接收物体的平台设备，所述平台设备包括物体支撑件、和根据本发明的物体夹持器、物体输送装置，其中所述物体夹持器被配置成将所述物体布置于所述物体支撑件上方。有利地，所述物体可以更准确地被定位在所述物体支撑件上方。
30.本发明还涉及一种光刻设备，包括：根据本发明的平台设备，用于接收物体，所述物体包括衬底；和用于将图案保护至所述衬底上的投影系统。有利地，因为所述物体已被较为准确地定位，则所述图案可以被较为准确地投影。
附图说明
31.现在将仅通过示例，参考随附示意性附图来描述本发明的实施例，在所述附图中：
[0032]-图1描绘光刻设备的示意性概略图；
[0033]-图2描绘图1的光刻设备的部分的详细视图；
[0034]-图3示意性地描绘位置控制系统；
[0035]-图4a示出包括物体支撑件的平台设备的侧视图；
[0036]-图4b以俯视图示意性地示出物体输送装置；
[0037]-图5a示出物体夹持器和翘曲的物体的侧视图；
[0038]-图5b示出呈泄漏的大小的函数的吸力和变形力的曲线图；
[0039]-图6a至图6c以示意性横截面示出根据第一方面的吸力夹具；
[0040]-图6d示出如图6a至图6c中示出的吸力夹具的示意性俯视图；
[0041]-图7示出根据本发明的物体夹持器；
[0042]-图8a至图8b图示本发明的第二方面；
[0043]-图9a至图9c图示本发明的第三方面；
具体实施方式
[0044]
在本文献中，术语“辐射”和“束”用以涵盖所有类型的电磁辐射，包括紫外辐射(例如，具有为365nm、248nm、193nm、157nm、或126nm的波长)和euv(即，极紫外辐射，例如，具有在约5nm至100nm的范围内的波长)。
[0045]
如本文中所采用的术语“掩模版”、“掩模”或“图案形成装置”可以被广义地解释为是指可以用以向入射辐射束赋予经图案化的横截面的通用图案形成装置，所述经图案化的横截面对应于待在所述衬底的目标部分中产生的图案。在这样的情境下，也可以使用术语“光阀”。除经典掩模(透射式或反射式掩模、二元掩模、相移掩模、混合掩模等)以外，其它这样的图案形成装置的示例包括可编程反射镜阵列和可编程lcd阵列。
[0046]
图1示意性地描绘光刻设备la。所述光刻设备la包括：照射系统(也被称为照射器)il，所述照射系统被配置成调节辐射束b(例如uv辐射、duv辐射或euv辐射)；掩模支撑件(例如掩模台)mt，所述掩模支撑件被构造成支撑图案形成装置(例如掩模)ma且被连接至被配置成根据某些参数来准确地定位所述图案形成装置ma的第一定位器pm；衬底支撑件(例如晶片台)wt，所述衬底支撑件被构造成保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)w且被连接至被配置成根据某些参数来准确地定位所述衬底支撑件的第二定位器pw；以及投影系统(例如折射型投影透镜系统)ps，所述投影系统被配置成将由图案形成装置ma赋予至辐射束b的图案投影至所述衬底w的目标部分c(例如包括一个或更多个管芯)上。
[0047]
在操作中，所述照射系统il例如经由束传递系统bd从辐射源so接收辐射束。所述照射系统il可以包括用于引导、整形和/或控制辐射的各种类型的光学部件，诸如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型、和/或其它类型的光学部件，或其任何组合。所述照射器il可以用以调节所述辐射束b，以在所述图案形成装置ma的平面处在其横截面中具有期望的空间和角强度分布。
[0048]
本文中所使用的术语“投影系统”ps应被广义地解释为涵盖适于所使用的曝光辐射、和/或适于诸如浸没液体的使用或真空的使用之类的其它因素的各种类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、变形型、磁性型、电磁型和/或静电型光学系统，或其任何组合。可以认为本文中对术语“投影透镜”的任何使用都与更上位的术语“投影系统”ps同义。
[0049]
光刻设备la可以属于如下类型：其中所述衬底的至少一部分可以由具有相对较高
折射率的液体(例如水)覆盖，以便填充投影系统ps与衬底w之间的空间——这也被称为浸没光刻。以引用方式而被合并入本文中的us6952253中给出关于浸没技术的更多信息。
[0050]
所述光刻设备la也可以属于具有两个或更多个衬底支撑件wt(也称为“双平台”)的类型。在这样的“多平台”机器中，可以并行地使用所述衬底支撑件wt，和/或可以对位于所述衬底支撑件wt中的一个衬底支撑件上的所述衬底w执行准备衬底w的后续曝光的步骤，而同时将另一衬底支撑件wt上的另一衬底w用于在所述另一衬底w上曝光图案。
[0051]
除了所述衬底支撑件wt以外，所述光刻设备la也可以包括测量平台。所述测量平台被布置成保持传感器和/或清洁装置。所述传感器可以被布置成测量所述投影系统ps的性质或所述辐射束b的性质。所述测量平台可以保持多个传感器。所述清洁装置可以被布置成清洁所述光刻设备的部分，例如所述投影系统ps的部分、或系统的提供浸没液体的部分。所述测量平台可以当所述衬底支撑件wt远离所述投影系统ps时在所述投影系统ps下方移动。
[0052]
在操作中，辐射束b入射到被保持在所述掩模支撑件mt上的所述图案形成装置(例如掩模)ma上，并且由存在于所述图案形成装置ma上的图案(设计布局)进行图案化。在已穿越所述图案形成装置ma的情况下，辐射束b传递穿过所述投影系统ps，所述投影系统将所述束聚焦至所述衬底w的目标部分c上。借助于第二定位器pw和位置测量系统if，可以准确地移动所述衬底支撑件wt，例如以便使不同的目标部分c在辐射束b的路径中定位在被聚焦且对准的位置处。类似地，所述第一定位器pm和可能的另一位置传感器(其在图1中未明确地描绘)可以用以相对于所述辐射束b的路径来准确地定位所述图案形成装置ma。可以使用掩模对准标记m1、m2和衬底对准标记p1、p2来对准图案形成装置ma和衬底w。虽然如所图示的衬底对准标记p1、p2占据专用目标部分，但所述衬底对准标记p1、p2可以位于目标部分之间的空间中。当衬底对准标记p1、p2位于目标部分c之间时，这些衬底对准标记p1、p2被称为划线对准标记。
[0053]
为阐述本发明，使用笛卡尔坐标系。笛卡尔坐标系具有三个轴，即，x轴、y轴和z轴。三个轴中的每个轴与其它两个轴正交。围绕x轴的旋转被称为rx旋转。围绕y轴的旋转被称为ry旋转。围绕z轴的旋转被称为rz旋转。x轴和y轴限定水平平面，而z轴在竖直方向上。笛卡尔坐标系不限制本发明，而仅用于阐述。替代地，另一坐标系，诸如圆柱坐标系可以用以阐述本发明。笛卡尔坐标系的取向可以不同，例如，使得z轴具有沿水平平面的分量。
[0054]
图2示出图1的光刻设备la的一部分的更详细视图。光刻设备la可设置有基部框架bf、平衡质量bm、量测框架mf和隔振系统is。量测框架mf支撑投影系统ps。另外，量测框架mf可以支撑位置测量系统pms的部分。量测框架mf由基部框架bf经由隔振系统is支撑。隔振系统is被布置成防止或减小振动从基部框架bf传播至量测框架mf。
[0055]
第二定位器pw被布置成通过在衬底支撑件wt与平衡质量bm之间提供驱动力来加速所述衬底支撑件wt。驱动力使所述衬底支撑件wt在期望的方向上加速。由于动量的守恒，驱动力也被以相等的量值、但以与期望的方向相反的方向施加至平衡质量bm。通常，所述平衡质量bm的质量显著大于所述第二定位器pw和所述衬底支撑件wt的移动部分的质量。
[0056]
在实施例中，所述第二定位器pw由所述平衡质量bm支撑。例如，其中所述第二定位器pw包括用以使衬底支撑件wt悬浮于所述平衡质量bm上方的平面马达。在另一实施例中，所述第二定位器pw由基部框架bf支撑。例如，其中所述第二定位器pw包括线性马达并且其
中所述第二定位器pw包括用以使所述衬底支撑件wt悬浮于基部框架bf上方的轴承，如气体轴承。
[0057]
所述位置测量系统pms可以包括适于确定所述衬底支撑件wt的位置的任何类型的传感器。所述位置测量系统pms可以包括适于确定所述掩模支撑件mt的位置的任何类型的传感器。所述传感器可以是光学传感器，诸如干涉仪或编码器。所述位置测量系统pms可以包括干涉仪和编码器的组合系统。所述传感器可以是另一类型的传感器，诸如磁传感器、电容式传感器或电感传感器。所述位置测量系统pms可以确定相对于参考件(例如量测框架mf或投影系统ps)的位置。所述位置测量系统pms可以通过对衬底台wt和/或掩模支撑件mt的位置进行测量、或通过对衬底台wt和/或掩模支撑件mt的位置的时间导数(诸如速度或加速度)进行测量，来确定衬底台wt和/或掩模支撑件mt的位置。
[0058]
所述位置测量系统pms可以包括编码器系统。例如，根据由此以引用方式而被合并入的于2006年9月7日提交的美国专利申请us2007/0058173a1已知一种编码器系统。所述编码器系统包括编码器头、光栅和传感器。所述编码器系统可以接收初级辐射束和次级辐射束。所述初级辐射束以及所述次级辐射束两者源自同一辐射束，即原始辐射束。通过利用光栅衍射所述原始辐射束，形成所述初级辐射束和所述次级辐射束中的至少一种。如果通过利用光栅衍射所述原始辐射束来产生所述初级辐射束和所述次级辐射束两者，则所述初级辐射束需要具有与所述次级辐射束相比不同的衍射阶。例如，不同衍射阶是 1阶、-1阶、 2阶和-2阶。所述编码器系统将所述初级辐射束和所述次级辐射束以光学方式组合成经组合的辐射束。编码器头中的传感器确定经组合的辐射束的相位或相位差。所述传感器基于所述相位或相位差而产生信号。所述信号表示所述编码器头的相对于光栅的位置。编码器头和光栅中的一个可以被布置于衬底结构wt上。编码器头和光栅中的另一个可以布置于量测框架mf或基部框架bf上。例如，多个编码器头被布置于量测框架mf上，而光栅被布置于所述衬底支撑件wt的顶部表面上。在另一示例中，光栅被布置于所述衬底支撑件wt的底部表面上，并且编码器头被布置于衬底支撑件wt下方。
[0059]
所述位置测量系统pms可以包括干涉仪系统。例如，根据由此以引用方式而被并入的于1998年7月13日提交的美国专利us6,020,964已知一种干涉仪系统。所述干涉仪系统可以包括分束器、反射镜、参考反射镜、和传感器。辐射束由分束器拆分成参考束和测量束。测量束传播至反射镜且由所述反射镜反射回到所述分束器。所述参考束传播至参考反射镜且由参考反射镜反射回到所述分束器。在所述分束器处，所述测量束和所述参考束被组合成经组合的辐射束。经组合的辐射束入射到所述传感器上。所述传感器确定经组合的辐射束的相位或频率。所述传感器基于所述相位或所述频率产生信号。所述信号表示反射镜的位移。在实施例中，所述反射镜被连接至所述衬底支撑件wt。所述参考反射镜可以被连接至所述量测框架mf。在实施例中，由额外的光学部件而不是所述分束器，将所述测量束和所述参考束组合成经组合的辐射束。
[0060]
所述第一定位器pm可以包括长行程模块和短行程模块。所述短行程模块被布置成以高准确度相对于所述长行程模块来移动所述掩模支撑件mt经过小的移动范围。所述长行程模块被布置成以相对低准确度相对于投影系统ps来移动所述短行程模块经过大的移动范围。利用所述长行程模块和所述短行程模块的组合，所述第一定位器pm能够以高准确度相对于投影系统ps来移动所述掩模支撑件mt经过大的移动范围。类似地，所述第二定位器
pw可以包括长行程模块和短行程模块。所述短行程模块被布置成以高准确度相对于所述长行程模块来移动所述衬底支撑件wt经过小的移动范围。所述长行程模块被布置成以相对低准确度相对于投影系统ps来移动所述短行程模块经过大的移动范围。利用所述长行程模块和所述短行程模块的组合，所述第二定位器pw能够以高准确度相对于投影系统ps来移动所述衬底支撑件wt经过大的移动范围。
[0061]
所述第一定位器pm和所述第二定位器pw各自具备致动器，以分别移动所述掩模支撑件mt和所述衬底支撑件wt。所述致动器可以是用以沿单个轴线(例如y轴)提供驱动力的线性致动器。可以应用多个线性致动器以沿多个轴线提供驱动力。所述致动器可以是用以沿多个轴线提供驱动力的平面致动器。例如，所述平面致动器可以被布置成以6个自由度移动所述衬底支撑件wt。所述致动器可以是包括至少一个线圈和至少一个磁体的电磁致动器。所述致动器被布置成通过将电流施加至所述至少一个线圈来相对于所述至少一个磁体移动所述至少一个线圈。所述致动器可以是移动磁体型致动器，其具有分别联接至衬底支撑件wt、联接至掩模支撑件mt的所述至少一个磁体。致动器可以是移动线圈型致动器，其具有分别联接至衬底支撑件wt、联接至掩模支撑件mt的所述至少一个线圈。所述致动器可以是音圈致动器、磁阻致动器、洛伦兹致动器、或压电致动器，或者任何其它合适的致动器。
[0062]
所述光刻设备la包括如图3中示意性地描绘的位置控制系统pcs。所述位置控制系统pcs包括设定点产生器sp、前馈控制器ff和反馈控制器fb。所述位置控制系统pcs将驱动信号提供至所述致动器act。所述致动器act可以是所述第一定位器pm或所述第二定位器pw的致动器。所述致动器act驱动了设施或设备p，所述设备p可以包括所述衬底支撑件wt或所述掩模支撑件mt。所述设备p的输出是位置量，诸如位置或速度或加速度。利用所述位置测量系统pms来测量所述位置量。所述位置测量系统pms产生信号，所述信号是表示所述设备p的所述位置量的位置信号。所述设定点产生器sp产生信号，所述信号是表示所述设备p的所需的位置量的参考信号。例如，所述参考信号表示所述衬底支撑件wt的所需的轨迹。所述参考信号与位置信号之间的差形成所述反馈控制器fb的输入。基于所述输入，所述反馈控制器fb针对所述致动器act提供所述驱动信号的至少一部分。所述参考信号可以形成所述前馈控制器ff的输入。基于所述输入，所述前馈控制器ff针对所述致动器act提供所述驱动信号的至少一部分。前馈ff可以利用关于所述设备p的动力特性的信息，诸如质量、刚度、共振模态和本征频率。
[0063]
图4a示出平台设备101的侧视图，所述平台设备包括被配置成支撑物体105的物体支撑件102，所述物体例是衬底w或晶片。所述物体支撑件102可以例如由如图4a中所示出的另一支撑件支撑。所述平台设备101例如包括用于支撑所述物体105的多个支撑构件103，所述多个支撑构件被布置成从物体夹持器104接收物体105且将物体105布置于所述物体支撑件102上，和/或反之亦然。所述支撑构件103能够在与第一平面xy垂直的至少竖直方向z上移动。在所示出实施例中，所述平台设备101包括三个支撑构件103，其中两个支撑构件是在图4a中所示出的侧视图中可见的。所述三个支撑构件103优选被布置成使得当在俯视图中查看时，可以绘制假想等边三角形，其中所述支撑构件103位于拐角部上。然而，应注意，任何合适的数目的支撑构件103可以被应用于任何适合的布置中。
[0064]
装载所述物体105，即将所述物体105布置于所述物体支撑件102上，可以接着例如通过如下操作来实现。在图4a中所示出的情形中，物体105由支撑构件103支撑且物体夹持
器104已被部分地缩回。在这样的情形之前，所述物体105由所述物体夹持器104支撑，所述物体夹持器将所述物体105布置于所述物体支撑件102上方以将所述物体105提供至所述平台设备101。所述物体夹持器104可以例如由机器人(例如多轴机器人臂)驱动，所述机器人是所述物体输送装置的提供所述物体105的一部分。所述支撑构件103接着从缩回位置竖直向上移动至图4a中所示出的支撑位置，在所述缩回位置中，所述支撑构件被布置于所述物体支撑件102下方。在所述竖直向上移动期间，所述支撑构件103与所述物体105接合。一旦所述物体105由所述支撑构件103支撑，则所述夹持器104可以被缩回以对应于图4a中所示出的情形。当所述夹持器104在水平方向上被缩回时，所述支撑构件103接着竖直向下移动直到所述物体105被布置于所述物体支撑件102上为止，如由虚线105'所指示的。
[0065]
可以(例如)在图案已被投影于物体105上之后以类似的方式卸载所述物体105。当所述物体105被布置于所述物体支撑件102上时，所述支撑构件103在所述物体支撑件102的顶部表面下方的缩回位置。所述支撑构件103可以在竖直方向z上竖直向上移动直到它们与所述物体105接合为止，使得所述物体105由所述支撑构件103而不是由所述物体支撑件102支撑。所述支撑构件103可以接着在竖直方向z上进一步竖直向上移动，直到它们到达所述支撑位置为止，如图4a中再次所示出的。所述物体夹持器104可以接着在所述物体105下方移动以支撑所述物体105。例如，所述物体夹持器104可以在被布置于所述物体105之下之后竖直向上移动以便与所述物体接合。也可以在所述物体夹持器104已被布置于所述物体105下方之后竖直向下移动所述支撑构件103，直到所述物体夹持器104与所述物体105接合为止。替代地，物体夹持器104可以在所述物体105上方移动。例如，所述物体夹持器104可以在被布置于物体105上方之后竖直向下移动以便与所述物体接合。应注意，在实施例中，用于卸载所述物体105的所述物体夹持器可以是与用于提供所述物体105的物体夹持器104不同的物体夹持器，例如两个夹持器可以被布置于所述物体105的相反两侧上，例如在图4a中的左侧和右侧上。
[0066]
图4b以俯视图示意性地示出物体输送装置301。应注意，为清楚起见，图4b没有描绘所有部件，而是聚焦于对于以下的/随后的解释相关的那些部件。所述物体输送装置301包括被配置成将所述物体105提供至所述物体支撑件102的机器人臂304，和控制单元305。图4b还示出所述控制单元305具有用于利用第一控制信号305.1a控制所述机器人臂304的第一输出端子305.1。所述机器人臂304包括所述物体夹持器104，并且因而可以如此控制所述物体夹持器104的位置。因为所述物体夹持器104将所述物体105布置于所述物体支撑件102上方以用于使所述支撑构件与所述物体105接合，则可以如此控制所述物体105的相对于所述物体支撑件102的位置。所述机器人臂304还可以能够以高精度重复性地重复其移动，使得每个物体105可以相对于所述物体支撑件102被布置于大致相同的位置上。
[0067]
图4a还示出所述支撑构件103包括吸力夹具103.1，并且图4b示出了在所示出的实施例中的所述物体夹持器104包括第一吸力夹具104.1、第二吸力夹具104.2、和第三吸力夹具104.3。凹部104.4还可以被设置于所述物体夹持器104中，例如以允许所述平台设备的所述支撑构件与所述物体105相接合。吸力夹具103.1、104.1、104.2、104.3以流体方式连接至一个或更多个未示出的吸力源，所述吸力源在所述物体105上提供吸力。然而，当所述物体105具有翘曲表面时，吸力夹具103.1、104.1、104.2、104.3可能无法适当地夹持所述物体105。这由图5a图示，其中所述物体夹持器104以侧视图示出，其中第一吸力夹具104.1和第
三吸力夹具104.3是可见的。
[0068]
图5a示出，由于所述物体105的翘曲表面105.1，则第一吸力夹具104.1并未被物体105完全地覆盖，从而导致了泄漏部201。经由泄漏部201，环境空气由吸力源吸入，从而导致被施加至所述物体105上的较低吸力。
[0069]
为了适当地夹持所述物体105，所述第一吸力夹具104.1应被所述物体105尽可能地覆盖。图5b示出曲线图，其中在水平轴202上为泄漏部201的大小，并且在竖轴203上为以牛顿为单位所表示的力。第一曲线图204'示出被施加于所述物体105上的吸力204，其大致与所述泄漏部201成反比。第二曲线图205'示出使所述物体105变形且如此朝向所述第一吸力夹具104.1抽吸所述物体105所需的变形力205。所述变形力205与所述物体105的刚度大致成比例，物体的刚度继而随着所述泄漏部201减小而增大，这是因为需要更多力以供实现进一步变形。
[0070]
由于所述物体105的增大的翘曲，则可能发生如图5b中所示出的情形。在所述吸力204小于所述变形力205的区域206中，所述物体105将不再变形，且因此将不被充分夹持。当例如利用所述物体夹持器的所述第一吸力夹具104而发生这种情形时，则所述物体105可以在所述物体夹持器的例如在水平方向上的移动期间相对于所述物体夹持器移动。这可能导致所述物体105的相对于所述物体支撑件102的不准确的位置，并且最终导致所述图案不准确地投影至所述物体105上。
[0071]
根据第一方面，本发明因此提出一种吸力夹具501，所述吸力夹具的示例以示意性横截面在图6a至图6c中示出。图6d还示出吸力夹具501的示意性俯视图。所述吸力夹具501包括基部结构502。所述基部结构502包括基部511和连接区域503。所述吸力夹具501包括用于接收物体105的第一垫505。所述吸力夹具501还包括弹性构件509，所述弹性构件将所述第一垫505连接至所述基部结构502的所述连接区域503，以使得所述第一垫505能够相对于基部511在用于接收所述物体105的接收位置(如图6a中示出的情形)与用于夹持所述物体105的夹持位置(如图6c中示出的情形)之间移动。所述弹性构件509适于将第一垫505偏压至所述接收位置。所述吸力夹具501还包括抽吸开口507，所述抽吸开口被布置于所述基部511中且适于连接至吸力装置(图中未示出)以用于提供吸力以供将所述物体105夹持于所述第一垫505上。
[0072]
图6a示出处于所述接收位置的所述第一垫505。因为所述弹性构件509适于将所述第一垫505朝向这种位置偏压，则这将是在任何物体105与所述第一垫505接合之前的情形。所述弹性构件509将具有至少向上的分量的弹簧力施加于所述第一垫505上。所述物体105可以例如是具有翘曲表面的衬底或晶片。应注意，所述吸力夹具501显著小于所述物体105，并且所述翘曲表面的曲率在所述物体105的在图6a至图6c中所示出的部分上实际上可以是能够忽略的。所述物体105因此被示意性地示出为直线。然而，如可见的，因为所述物体105是翘曲的，则上述物体105不平行于所述基部511。这导致图6a中所示出的情形，其中所述物体105首先在图6a至图6c中的右侧上与所述第一垫505接合。
[0073]
所述第一垫505被暴露于向下的力即经受所述向下的力，所述向下的力包括经由吸入孔507提供的所述吸力，并且当所述物体105与所述第一垫接合时，所述第一垫被暴露于物体105的重量即承受所述物体105的重量。当所述向下的力超过由所述弹性构件509所施加的所述弹簧力的向上的分量时，所述第一垫505向下移动。优选地，所述弹性构件509允
许所述第一垫505的至少一部分朝向所述夹持位置移动，即使当不提供所述吸力时也是如此。因为在图6a中，所述物体105仅在右侧上与所述第一垫505接合，则所述第一垫505最初将仅在右侧上向下移动，直到出现图6b中的情形为止。在图6b中，第一垫505已在右侧上向下移动，直到所述物体505也在左侧上与所述第一垫505接合为止。
[0074]
有利地，因为所述弹性构件509允许所述第一垫505的一部分向下移动，则所述第一垫505的较大部分被物体105覆盖。因此与常规吸力夹具相比，任何泄漏部已被减小，并且由所述吸力装置经由所述抽吸开口507所提供的被施加至所述物体105上的吸力已被增大。现在，所述第一垫505的左侧也开始向下移动，直到已达到图6c中的情形为止。当被施加至所述物体105上的所述吸力大于所述变形力时，则上述物体105变形且也向下移动。图6c中的结果示出其中所述物体105已被令人满意地被夹持的情形。
[0075]
所述基部结构502可以例如被布置于所述物体夹持器上或所述支撑构件上，或被所述物体夹持器或所述支撑构件嵌入。在所示出示例中，所述基部结构502包括第一突起504。所述第一突起504包括所述连接区域503。虽然图6a至图6c示出在所述吸力夹具501中心的所述第一突起504，但这不是必需的。例如，所述第一突起504也可以从所述第一垫505径向向外布置。
[0076]
可选地，所述第一垫505由弹性体制成，例如非晶塑料，诸如聚醚酰亚胺。例如，所述第一垫505可以由在商标名semitron 410esd下可商购的材料制成。所述弹性构件509可以是弹簧，例如片簧。所述弹性构件509可以例如具有在1n/mm至3n/mm之间的弹簧常数，例如大致2n/mm。所述第一垫适于在所述接收位置与所述夹持位置之间移动的距离可以例如小于0.5mm、优选地小于0.3mm，例如大致0.2mm，使得实施物体105的位置在水平和竖直方向两者上被明确限定。
[0077]
所述抽吸开口507被连接至吸力装置，所述吸力装置可以例如是泵或压缩机，例如真空泵。所述吸力装置可以被布置成将空气抽吸入通道中、远离所述吸力夹具501，如由图6a至图6c中的箭头508所指示的。
[0078]
图6a至图6c示出可选地，所述吸力夹具501还包括压降构件506。所述压降构件506被布置成当经由所述抽吸开口507提供所述吸力时，使所述压降构件506的下游的内部压力532低于所述第一垫505的上游的环境压力531。所述物体105在外侧上暴露于即经受所述环境压力，并且在内侧上暴露于即经受所述内部压力或至少部分地由所述内部压力所确定的压力。通过利用所述压降构件506提供介于所述内部压力与环境压力之间的压降，则所述内部压力被减小。施加于所述物体105上的所述吸力如此被增大。
[0079]
在一些实施例中，所述压降构件506可以被体现为位于所述第一垫505与所述基部结构502之间的密封件。然而，在所示出的s示例中，所述压降构件506相对于所述基部511被布置于固定位置中，并且至少在所述第一垫505的所述接收位置中，在所述第一垫505与所述压降构件506之间存在间隙510。所述压降构件506可以例如被布置于所述基部511上，例如由与所述第一垫505相同的材料制成。替代地，所述压降构件506可以例如是所述基部结构502的一体式部分即所述基板结构502的集成部分，例如是从所述基部511延伸的突起。
[0080]
空气由所述吸力装置经由间隙510而被吸取进入所述抽吸开口507中。因为所述间隙510是相对较小的，则可以实现相对较高的压降。这种布置有时被称为“泄漏式密封”。有利地，这种实施例无需所述第一垫505与所述压降构件506之间的实体接触。如此，不同于例
如常规密封件，所述压降构件506不易由于所述第一垫505的移动而磨损。
[0081]
图6a至图6c示出在所述抽吸开口507与所述第一垫505之间，尤其从所述第一垫505径向向内的所述压降构件506。这已被发现是引起令人满意的结果的实际布置。然而，也可以将所述压降构件506从所述第一垫505径向向外布置。
[0082]
图6c还示出所述压降构件506被布置成与所述第一垫505相邻。可选地，在所述第一垫505的所述夹持位置中，所述第一垫505和所述压降构件506是邻接的。如此，闭合所述间隙510，并且在所述夹持位置中不存在通过所述间隙510的空气泄漏。
[0083]
图6d图示在所示出示例中，所述第一垫505和所述压降构件506是环形元件，特别是圆形。然而，所述环形元件可以被成形为椭圆形或呈其它合适的形状，如本文中将参考图8a至图8b进一步解释的。
[0084]
图6d也示出所述弹性构件509可以例如包括连接所述第一垫505与所述连接区域503的若干分支。
[0085]
在图6b中最佳可见的是，还可选地，所述第一垫505包括至少第一区505a和第二区505b，其中所述第一区505a适于能够从所述接收位置移动至所述夹持位置，而所述第二区505b保持处于所述接收位置。
[0086]
图6a至图6c还示出所述基部结构502包括可选的垫接收区域512，所述可选的垫接收区域当所述第一垫505处于所述夹持位置时适于接合所述第一垫505，如图6c中示出的。在所示出示例中，所述垫接收区域512被布置于所述基部511中，特别地布置为凹部。所述垫接收区域512是所述基部结构502上的固定的已知位置，并且因而相对于所述连接区域503处于固定的已知位置。当所述第一垫505在所述夹持位置中接合所述垫接收区域512时，所述第一垫505的位置如此也是已知的。因此，所述物体105能够以高准确度被定位。
[0087]
图7示出根据本发明的物体夹持器1104。在所示出的示例中，所述物体夹持器1104包括第一吸力夹具1104.1、第二吸力夹具1104.2、和第三吸力夹具1104.3，以及凹部1104.4。所述物体的中心可以布置于中心点1104.5上方。根据本发明，根据本发明体现了吸力夹具1104.1、1104.2、1104.3中的至少一个。特别地，在所示出的实施例中，根据本发明体现了所述第一吸力夹具1104.1和所述第二吸力夹具1104.2。
[0088]
在所示出示例中，所述第一吸力夹具1104.1和所述第二吸力夹具1104.2被布置于所述物体夹持器1104的外端处。所述第三吸力夹具1104.3被布置于所述物体夹持器1104的中心部分处。图7还示出所述第三吸力夹具1104.3可以例如小于所述第一吸力夹具1104.1和第二吸力夹具1104.2。另外，所述第三吸力夹具1104.3可以可选地没有根据本发明被体现/实施。即，实施第三吸力夹具1104.3可以被体现/实施为不具有允许第一垫在接收位置与夹持位置之间移动的弹性构件。
[0089]
图8a和图8a图示本发明的第二方面，其涉及具有特定形状的吸力夹具2104.1、2104.2。图8a示出具有根据第二方面而被体现/实施的第一吸力夹具2104.1和第二吸力夹具2104.2、且具有第三吸力夹具2104.3的物体夹持器2104。图8b示出所述第一吸力夹具2104.1的放大视图。应注意，为清楚起见，仅示出用于第一吸力夹具2104的第一垫2505.1。然而，所述第一垫2501.1可以根据本发明的第一方面而被体现/实施，但这不是必需的。
[0090]
根据第二方面的所述第一垫2501.1的形状可以被描述如下：所述第一垫2105.1具有不对称形状，所述不对称形状当在所述吸力夹具2104.1的俯视图中查看时，包括具有第
一质心702的第一端701，和具有第二质心708的第二端707。所述第一垫2105.1还具有在第一端701与第二端707之间的具有第三质心704的中间部分703。所述中间部分703在第一侧上具有第一边界部分705且在第二侧上具有第二边界部分706。所述第一边界部分705和所述第二边界部分706被布置于所述物体夹持器2104的在图8b中在x方向上的两边界处。在所示出的示例中，所述第一边界部分705是和第二边界部分706两者都是直的垫部分且彼此平行。在图8b中，所述第一侧是右侧且所述第二侧是左侧。根据第三方面，当沿从所述第一侧至所述第二侧的方向上查看时，所述第三质心704位于所述第一质心702与所述第二质心708之间。
[0091]
优选地，所述第一端701包括第一非平行边界711且所述第二端707包括第二非平行边界712，其中所述第一非平行边界711和所述第二非平行边界712被调适为与所述物体不同心。
[0092]
还可以看到，可选地，当沿与从所述第一侧至所述第二侧的方向垂直的方向查看时，所述第二端707比所述第一端701更长。
[0093]
若干因素可以有助于/促成根据第二方面的吸力夹具2104.1、2401.2的有利效应，特别是当用于夹持翘曲的物体时。第一，当与常规吸力夹具相比时，大致维持表面积。因此，维持总夹持力。第二，在图8b中在y方向上的介于所述第一垫2105.1的外部点与所述抽吸开口之间的距离增大。这增大了被施加于所述物体上的气动扭矩，并且如此增大了使所述物体在所需方向上变形的力。第三，所述第一端701具有第一非平行边界711，并且所述第二端707具有第二非平行边界712，所述第一非平行边界和所述第二非平行边界形成针对所述物体的支撑点。所述第一非平行边界711和所述第二非平行边界712被布置在与中心点1104.5相距的一定径向距离处，所述中心点与所述物体的中心相对应，在所述中心点处所述第一非平行边界711与所述第二非平行边界712之间的径向距离是相对较小的。当所述物体尚未被夹持时，总泄漏被最小化。如此，已发现碗形和伞形物体被更好地夹持。第四，所述第一非平行边界711和所述第二非平行边界712与所述物体不同心。这具有以下有利效应：翘曲的物体(尤其是碗形和伞形)在图8b中在 y和-y方向上与所述第一吸力夹具2104.1的中心相距尽可能远地与第一吸力夹具2104.1形成接触。这增大了被施加于所述物体上的气动扭矩。
[0094]
还应注意，针对伞形和碗形物体优化如图8a至图8b中所示出的第一吸力夹具2104.1和第二吸力夹具2104.2。通常，预期所述物体的翘曲在x方向和/或y方向上具有二次形形状(quadratic shape)。翘曲可以被描述为在x方向上的第一翘曲值和在y方向上的第二翘曲值。当第一翘曲值和第二翘曲值两者为正时，则所述物体呈碗形，即，局部物体曲率的中心位于所述物体上方。当第一翘曲值和第二翘曲值两者都为负时，则所述物体为伞形，即，局部物体曲率的中心位于所述物体下方。鞍形物体在x方向上具有正的第一翘曲值且在y方向上具有负的第二翘曲值，或反之亦然。半管形(halfpipe-shaped)物体仅使第一翘曲值和第二翘曲值中的一个为非零的。具有除碗和伞之外的形状的物体可能在不同部位处接触所述第一吸力夹具2104.1和/或第二吸力夹具2104.2。然而，这些物体较易于夹持，这是因为在一个方向上缺乏翘曲、或相反符号的翘曲会沿所述第一吸力夹具2104.1和/或第二吸力夹具2104.2的周边产生较小的局部泄漏，和/或这些物体由于所述物体中的较小应力而较为易于变形。
[0095]
图9a、图9b和图9c进一步图示本发明的第三方面。第三方面可以与第一和/或第二方面组合，但这不是必需的。
[0096]
图9a以侧视图示出也在图7中所示出的所述物体夹持器1104。根据这种示例中的第一方面所体现的所述第一吸力夹具1104.1、以及所述第三吸力夹具1104.3是可见的。支撑构件103也是可见的，其可以是平台设备的部分且可以被调适为经由所述物体夹持器1104.1的所述凹部与所述物体105接合。
[0097]
图9a示出所述第三吸力夹具1104.3的中心被布置于与所述第一吸力夹具1104.1的中心相距一定距离601处。所述距离601与常规布置相对应。如在图9a中可以看到，这可能导致与翘曲的物体105的弯曲表面相对应/相符的问题。因为所述物体105翘曲，则所述第三吸力夹具1104.3不能与所述物体105接合。如此形成泄漏部，这是因为环境空气经由所述第三吸力夹具1104.3而被吸入。被施加于所述物体105上的所述吸力减小且可能不足以使所述物体变形。因此，所述物体105可能没有被充分夹持。
[0098]
如图9b中示出的，所述第三方面发明因此提出将所述第三吸力夹具1104.3的中心布置于与所述第一吸力夹具1104.1的中心相距一定距离602处。距离602大于距离601。例如，距离602可以比距离601大25mm。在实施例中，距离602也可以比距离601大20mm至30mm。
[0099]
因为所述第三吸力夹具1104.3被布置成更远离所述第一吸力夹具，则与图9a中所示出的情形相比，在图9b中所示出的情形中从所述第三吸力夹具1104.3向上至所述物体105的距离实际上更大。然而，因为距离602大于距离601，则使所述物体105变形以使得所述第三吸力夹具1104.3被接合所需的所述变形力是较小的。所述物体105的刚度确定所需的变形力，其随着距离602增加而减小，例如与距离602成反比。因此，可以实现图9c中所示出的情形，其中所述第三吸力夹具1104.3被所述物体105覆盖。一旦所述物体105被布置于所述第三吸力夹具1104.3上，由于所述物体105的挠性，则将所述物体105保持夹持于所述第三吸力夹具上所需的力比上文提及的所述变形力低得多。
[0100]
如在图9a至图9c中还可以看到，所述第三吸力夹具1104.3优选地小于所述第一吸力夹具1104.1，并且可以小于所述第二吸力夹具1104.2。有利地，至少当所述物体105在至少一个部位中与所述第三吸力夹具1104.3相接触时，则在所述第三吸力夹具1104.3处的泄漏部比在所述第一吸力夹具1104.1处的泄漏部更小，并且所述吸力是更高的。当所述物体105由所述吸力夹具1104.1、1104.2、1104.3夹持时，则在所述第三吸力夹具1104.3处被施加于所述物体105上的所述吸力因而高于在所述第一吸力夹具1104.1处被施加于所述s物体105上的吸力。
[0101]
例如，常规值可以是以下各项：物体105具有50n/mm的刚度、第三吸力夹具1104.3的半径可以是约17mm，并且在夹持之前第三吸力夹具1104.3与物体105之间的向上距离可以是0.7mm，并且第三吸力夹具1104.3的最大吸力可以是5n。通常，距离601于是可以是大致130mm。根据第三方面，距离602可以例如增大至155mm。
[0102]
图9c中的情形还确保物体105在第一吸力夹具1104.1与第三吸力夹具1104.3之间是相对平坦的。所述支撑构件103将与物体105接合的位置处的高度因此被明确限定。因此，支撑构件103能够以高准确度将物体105定位在例如平台设备的物体支撑件上。
[0103]
本发明还涉及一种物体输送装置，包括根据本发明的一个或更多个方面中的物体夹持器，例如如图7中示出的。所述物体输送装置还可以包括与第一吸力夹具1104.1、和/或
第二吸力夹具1104.2、和/或第三吸力夹具1104.3的抽吸开口相连接的吸力装置。物体输送装置还可以包括如参考图4b中所示出的物体输送装置301所解释的部件，特别地为机器人臂304和控制单元305。
[0104]
本发明还涉及一种用于接收物体的平台设备。所述平台设备可以包括图4a中所示出的平台设备101的部件中的一个或更多个部件，诸如物体支撑件102、支撑构件103，等等。在实施例中，所述平台设备可以包括根据本发明的物体夹持器或物体输送装置。在实施例中，所述支撑构件103可以具备根据本发明的吸力夹具。
[0105]
本发明还涉及一种光刻设备，所述光刻设备可以包括图1中示出的光刻设备la的部件中的一个或更多个部件，诸如投影系统。所述光刻设备还可以包括根据本发明的平台设备。
[0106]
虽然可以在本文中具体地提及光刻设备在ic制造中的使用，但应理解，本发明所描述的光刻设备可以具有其它应用。可能的其它应用包括制造集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(lcd)、薄膜磁头等。
[0107]
虽然可以在本文中具体地提及在光刻设备的情境下的本发明的实施例，但本发明的实施例可以用于其它设备中。本发明的实施例可以形成掩模检查设备、量测设备、或测量或处理诸如晶片(或其它衬底)或掩模(或其它图案形成装置)之类的物体的任何设备的一部分。这些设备通常可以被称为光刻工具。这种光刻工具可以使用真空条件或环境(非真空)条件。
[0108]
虽然上文可以具体地提及在光学光刻术的情境下对本发明的实施例的使用，但应了解，本发明在情境允许的情况下不限于光学光刻术且可以用于其它应用(例如压印光刻术)中。
[0109]
在情境允许的情况下，本发明的实施例可以用硬件、固件、软件或其任何组合来实施。本发明的实施例也可以被实施为储存在机器可读介质上的指令，所述指令可以由一个或更多个处理器读取和执行。机器可读介质可以包括用于储存或传输呈能够由机器(例如计算装置)读取的形式的信息的任何机构。例如，机器可读介质可以包括只读存储器(rom)；随机存取存储器(ram)；磁性储存介质；光学储存介质；闪速存储器装置；电形式、光形式、声形式或其它形式的传播信号(例如载波、红外信号、数字信号等)，等等。另外，固件、软件、例程、指令可以在本文中被描述为执行某些动作。然而，应了解，这样的描述仅是出于方便起见，并且这些动作实际上源自计算装置、处理器、控制器或执行固件、软件、例程、指令等且在执行这种操作时可以使致动器或其它器件与实体世界相互作用的其它器件。
[0110]
虽然上文已描述本发明的特定实施例，但应了解，可以用与所描述的方式不同的其它方式来实践本发明。以上描述旨在是例示性的，而不是限制性的。因而，本领域技术人员将明白，可以在不背离下文所阐述的权利要求的范围的情况下对所描述的本发明进行修改。