阵列基板及其制备方法、显示面板与流程

技术特征：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底层；栅极，设于所述衬底层上；绝缘层，设于所述衬底层上，并覆盖所述栅极；有源层，设于所述绝缘层上；像素电极，设于所述绝缘层上；源漏极层，设于所述有源层上，并与所述像素电极电连接；钝化层，设于所述绝缘层上，并覆盖所述有源层、所述像素电极以及所述源漏极层；其中，所述像素电极包括至少两层叠层设置的导电膜层，且与所述绝缘层相接触的一所述导电膜层的材料与所述有源层的材料相同。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电膜层包括：第一导电层，设于所述绝缘层远离所述栅极的一表面上；第二导电层，设于所述第一导电层远离所述绝缘层的一表面上；所述第一导电层的导电率小于所述第二导电层的导电率。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述有源层和所述第一导电层的材料均包括透明半导体材料；所述第二导电层的材料包括透明导电材料。4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏极层包括：源极部，设于所述有源层远离所述像素电极的一端上；漏极部，设于所述有源层靠近所述像素电极的一端上，并从所述有源层延伸至所述第二导电层上，与所述第二导电层电连接。5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：走线，设于所述衬底层与所述绝缘层之间；所述像素电极在所述衬底层上的正投影位于所述栅极与所述走线之间。6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括：公共电极层，设于所述钝化层上，并依次穿过所述钝化层和所述绝缘层与所述走线电连接。7.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在一衬底层上形成栅极；在所述栅极上形成绝缘层；通过同一道光刻制程在所述绝缘层上形成有源层和具有多层导电膜层的像素电极；在所述有源层和所述像素电极上形成源漏极层；在所述绝缘层上形成覆盖所述有源层、所述像素电极以及所述源漏极层的钝化层；其中，与所述绝缘层相接触的一所述导电膜层的材料与所述有源层的材料相同。8.如权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，通过同一道光刻制程在所述绝缘层上形成有源层和像素电极的步骤包括：在所述绝缘层远离所述栅极的一表面上形成半导体层；在所述半导体层远离所述绝缘层的一表面上形成透明导电层；在所述透明导电层远离所述半导体层的一表面上形成光阻层；
通过所述光阻层将所述透明导电层图案化；通过所述光阻层将所述半导体层图案化；去除位于所述有源层上的光阻层和透明导电层，形成所述有源层和层叠设置的第一导电层和第二导电层；去除位于所述第二导电层上的光阻层。9.如权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：在形成所述栅极的同时形成走线；对钝化层进行图案化，以在与所述走线对应的位置处形成过孔；在所述钝化层上形成图案化的公共电极层，所述公共电极层通过位于所述钝化层上的过孔与所述走线连接。10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-6中任意一项所述的阵列基板。

技术总结
本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板。所述阵列基板包括：设于一衬底层上的栅极、覆盖所述栅极的绝缘层、设于所述绝缘层上的有源层、设于所述绝缘层上的像素电极、设于所述有源层上的源漏极层、覆盖所述有源层、所述像素电极和所述源漏极层的钝化层。所述有源层和所述像素电极通过同一张光罩图案化，从而缩减光罩数量，降低所述阵列基板的生产成本并提高生产效率。产成本并提高生产效率。产成本并提高生产效率。


技术研发人员：戴星强
受保护的技术使用者：广州华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2022.11.07
技术公布日：2023/2/6