一种处理盒的制作方法

本技术涉及电子照相成像，尤其涉及一种处理盒。

背景技术：

1、现有技术中公开了一种处理盒，其可拆卸的安装至成像设备中，其中，成像设备包括驱动单元，驱动单元包括驱动力施加构件和制动力施加构件，处理盒包括感光鼓和设置在感光鼓长度方向一端的耦合构件，耦合构件具有驱动力接收部分和制动力接收部分，驱动力接收部分可与驱动力施加构件耦合用以驱动感光鼓旋转，制动力接收部分可与制动力施加构件啮合用以接收制动力，该制动力用于抵抗耦合构件的旋转的载荷，也就是说，耦合构件可同时从驱动单元接收驱动力和制动力，可使得感光鼓旋转所需的扭矩增加，并且因此感光鼓的速度波动被抑制，感光鼓的旋转更加稳定。然而，现有技术的处理盒中用于接收驱动力和制动力的第一耦合构件的结构较为复杂，这将导致处理盒的制造成本升高。

技术实现思路

1、为解决上述问题，本实用新型提供了一种新的处理盒，主要是通过以下技术方案来实现的：

2、一种处理盒，包括：

3、框架；

4、感光鼓，可旋转的支撑在所述框架上，并可绕沿第一方向延伸的感光鼓旋转轴线旋转；

5、第一耦合构件，在第一方向上连接在所述感光鼓的第一末端，所述第一耦合构件可接收外力并可驱动所述感光鼓旋转；所述第一耦合构件包括第一突出部，所述第一突出部包括：

6、第一表面，在第一方向上朝着远离所述感光鼓的方向延伸；

7、第二表面，在所述第一耦合构件的旋转方向上位于所述第一表面的下游侧，所述第二表面朝着远离所述感光鼓的方向延伸并相对于第一方向倾斜布置；

8、第三表面，在第一方向上测量，从所述感光鼓的第一末端到所述第三表面的距离，沿着所述第三表面在所述第一耦合构件的旋转方向上的延伸而减小；

9、所述第三表面在所述第一耦合构件的旋转方向上延伸的起始位置在所述第一耦合构件的旋转方向上与所述第一表面平齐或位于所述第一表面的下游侧。

10、进一步的，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面延伸的终止位置邻近所述第二表面。

11、进一步的，所述第一耦合构件还包括第二突出部，所述第二突出部包括在所述第一耦合构件的旋转方向上延伸并在第一方向上面向远离所述感光鼓一侧的突出部表面，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述突出部表面布置在所述第三表面的上游侧并与所述第三表面间隔开。

12、进一步的，在所述第一耦合构件的旋转方向上所述突出部表面的的下游末端具有第一距离点，在垂直于第一方向的方向上测量，所述第一距离点为所述突出部表面上的到所述第一耦合构件的旋转轴线的最远距离点，在第一方向上投影后，作一条连接所述第一距离点和在所述第一耦合构件的旋转方向上位于所述第三表面的上游末端的点的第一线段，所述第一线段的最短长度为k，其中，0mm＜k＜4mm。

13、进一步的，在第一方向上，所述突出部表面的在所述第一耦合构件的旋转方向上的下游末端和所述第三表面的在所述第一耦合构件的旋转方向上的上游末端平齐，或比所述第三表面的在所述第一耦合构件的旋转方向上的上游末端更远离所述感光鼓。

14、进一步的，所述突出部表面包括相邻设置的第四表面和第五表面，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第四表面布置在所述第五表面的上游侧，在第一方向上测量，从所述感光鼓的所述第一末端到所述第四表面的距离，沿着所述第四表面在所述第一耦合构件的旋转方向上的延伸而增大，所述第五表面构造为与第一方向垂直的平面。

15、进一步的，所述第一耦合构件还包括围绕所述第一耦合构件的旋转轴线延伸的遮板表面，沿着第一方向投影，所述遮板表面和所述第四表面具有重叠部分，所述遮板表面与所述第五表面在第一方向上平齐。

16、进一步的，所述第一耦合构件还包括在所述第一耦合构件的旋转方向上位于所述第一突出部上游侧的第二突出部，所述第二突出部包括在所述第一耦合构件的旋转方向上延伸并在第一方向上面向远离所述感光鼓一侧的突出部表面，所述第一耦合构件还包括形成在所述第二突出部上的凹槽，在第一方向上，所述凹槽设置在比所述突出部表面更靠近所述感光鼓的位置。

17、进一步的，所述第一耦合构件还包括在所述第一耦合构件的旋转方向上布置在所述第二表面下游侧的第四表面，在第一方向上测量，从所述感光鼓的所述第一末端到所述第四表面的距离，沿着所述第四表面在所述第一耦合构件的旋转方向上的延伸而增大，作一条垂直于第一方向并连接所述第三表面和所述第四表面的第二线段，所述第二线段最短距离为m，其中，1mm＜m＜4mm。

18、进一步的，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面的上游末端具有第一点，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面的下游末端具有第二点，在垂直于第一方向的方向上测量，所述第一点和所述第二点均为所述第三表面上的到所述第一耦合构件的旋转轴线的最远距离点，作一条连接所述第一点和所述第二点的第三线段，所述第三线段的长度为w，其中，3mm＜w＜4mm。

19、在本实用新型中的处理盒中，在保证了第一耦合构件与成像设备的驱动力施加构件和制动力施加构件稳定啮合的前提下，一方面，通过减少第一耦合构件中的曲面斜面结构，简化了第一耦合构件的结构，提高了良品率；另一方面，并且通过减少了材料使用量，降低了生产成本；再一方面，第一耦合构件采用可伸缩结构，可提高第一耦合构件和驱动单元的耦合稳定性。

技术特征：

1.一种处理盒，包括：

2.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面延伸的终止位置邻近所述第二表面。

3.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于，所述第一耦合构件还包括第二突出部，所述第二突出部包括在所述第一耦合构件的旋转方向上延伸并在第一方向上面向远离所述感光鼓一侧的突出部表面，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述突出部表面布置在所述第三表面的上游侧并与所述第三表面间隔开。

4.根据权利要求3所述的处理盒，其特征在于，在所述第一耦合构件的旋转方向上所述突出部表面的下游末端具有第一距离点，在垂直于第一方向的方向上测量，所述第一距离点为所述突出部表面上的到所述第一耦合构件的旋转轴线的最远距离点，在第一方向上投影后，作一条连接所述第一距离点和在所述第一耦合构件的旋转方向上位于所述第三表面的上游末端的点的第一线段，所述第一线段的最短长度为k，其中，0mm＜k＜4mm。

5.根据权利要求3所述的处理盒，其特征在于，在第一方向上，所述突出部表面的在所述第一耦合构件的旋转方向上的下游末端和所述第三表面的在所述第一耦合构件的旋转方向上的上游末端平齐，或比所述第三表面的在所述第一耦合构件的旋转方向上的上游末端更远离所述感光鼓。

6.根据权利要求3所述的处理盒，其特征在于，所述突出部表面包括相邻设置的第四表面和第五表面，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第四表面布置在所述第五表面的上游侧，在第一方向上测量，从所述感光鼓的所述第一末端到所述第四表面的距离，沿着所述第四表面在所述第一耦合构件的旋转方向上的延伸而增大，所述第五表面构造为与第一方向垂直的平面。

7.根据权利要求6所述的处理盒，其特征在于，所述第一耦合构件还包括围绕所述第一耦合构件的旋转轴线延伸的遮板表面，沿着第一方向投影，所述遮板表面和所述第四表面具有重叠部分，所述遮板表面与所述第五表面在第一方向上平齐。

8.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于，所述第一耦合构件还包括在所述第一耦合构件的旋转方向上位于所述第一突出部上游侧的第二突出部，所述第二突出部包括在所述第一耦合构件的旋转方向上延伸并在第一方向上面向远离所述感光鼓一侧的突出部表面，所述第一耦合构件还包括形成在所述第二突出部上的凹槽，在第一方向上，所述凹槽设置在比所述突出部表面更靠近所述感光鼓的位置。

9.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于，所述第一耦合构件还包括在所述第一耦合构件的旋转方向上布置在所述第二表面下游侧的第四表面，在第一方向上测量，从所述感光鼓的所述第一末端到所述第四表面的距离，沿着所述第四表面在所述第一耦合构件的旋转方向上的延伸而增大，作一条垂直于第一方向并连接所述第三表面和所述第四表面的第二线段，所述第二线段最短距离为m，其中，1mm＜m＜4mm。

10.根据权利要求1所述的处理盒，其特征在于，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面的上游末端具有第一点，在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面的下游末端具有第二点，在垂直于第一方向的方向上测量，所述第一点和所述第二点均为所述第三表面上的到所述第一耦合构件的旋转轴线的最远距离点，作一条连接所述第一点和所述第二点的第三线段，所述第三线段的长度为w，其中，3mm＜w＜4mm。

技术总结本技术公开了一种处理盒，包括：框架；感光鼓；第一耦合构件，可接收外力并可驱动所述感光鼓旋转；所述第一耦合构件包括第一突出部，所述第一突出部包括：第一表面，在第一方向上朝着远离所述感光鼓的方向延伸；第二表面，在所述第一耦合构件的旋转方向上位于所述第一表面的下游侧，所述第二表面朝着远离所述感光鼓的方向延伸并相对于第一方向倾斜布置；第三表面，在第一方向上测量，从所述感光鼓的第一末端到所述第三表面的距离，沿着所述第三表面在所述第一耦合构件的旋转方向上的延伸而减小；在所述第一耦合构件的旋转方向上，所述第三表面延伸的起始位置与所述第一表面平齐或位于所述第一表面的下游侧。技术研发人员：敖仕平,龚小敏,徐荣力受保护的技术使用者：江西亿铂电子科技有限公司技术研发日：20230905技术公布日：2024/5/16