眼镜镜片、防污剂组合物、以及眼镜镜片的制造方法与流程

本发明涉及眼镜镜片、防污剂组合物、以及眼镜镜片的制造方法。

背景技术：

1、眼镜镜片在使用时，由手印、指纹、汗、化妆品等的附着引起的污垢容易变得明显。因此，为了使污垢不易产生或容易将污垢擦去，可在表面设置防污层。例如，在专利文献1中记载了在表面具有含氟防污膜的眼镜镜片，其中，该眼镜镜片的表面自由能为10.0mj/m2以下、表面自由能的碱成分为0.95mj/m2以下。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2018-004921号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、对于专利文献1中示出的具有防污层的眼镜镜片而言，容易将指纹等表面附着物擦去。另一方面，存在耐久性变低的问题。

3、本申请的一个实施方式涉及擦去性优异、并且耐久性优异的眼镜镜片、防污剂组合物、以及眼镜镜片的制造方法。

4、解决问题的方法

5、本发明人发现，通过对以给定范围含有在单末端具有甲硅烷基并且在其它末端具有反应性基团、而且具有聚硅氧烷链结构的化合物(b)的防污剂组合物进行蒸镀而形成防污层，能够得到擦去性优异、并且耐久性优异的眼镜镜片。

6、本申请的一个实施方式涉及一种眼镜镜片，其具备防污层，上述防污层是防污剂组合物的缩合物，

7、所述防污剂组合物含有：

8、具有甲硅烷基及氟代烷基的化合物(a)10～70质量％、和

9、在单末端具有甲硅烷基并且在其它末端具有反应性基团、而且具有聚硅氧烷链结构的化合物(b)30～90质量％。

10、本申请的一个实施方式涉及一种防污剂组合物，其含有：

11、具有甲硅烷基及氟代烷基的化合物(a)10～70质量％、和

12、在单末端具有甲硅烷基并且在其它末端具有反应性基团、而且具有聚硅氧烷链结构的化合物(b)30～90质量％。

13、本申请的一个实施方式涉及一种眼镜镜片的制造方法，该方法包括：

14、利用防污剂组合物在眼镜镜片形成防污层的工序，

15、上述防污剂组合物包含：

16、具有甲硅烷基及氟代烷基的化合物(a)、和

17、在单末端具有甲硅烷基并且在其它末端具有反应性基团、而且具有甲硅烷氧基链部位的化合物(b)。

18、发明的效果

19、根据本申请的一个实施方式，能够提供擦去性优异、并且耐久性优异的眼镜镜片、防污剂组合物、以及眼镜镜片的制造方法。

技术特征：

1.一种眼镜镜片，其具备防污层，所述防污层是防污剂组合物的缩合物，

2.根据权利要求1所述的眼镜镜片，其中，

3.根据权利要求1所述的眼镜镜片，其中，

4.根据权利要求3所述的眼镜镜片，其中，

5.根据权利要求1所述的眼镜镜片，其中，

6.根据权利要求1所述的眼镜镜片，其中，

7.根据权利要求6所述的眼镜镜片，其中，

8.根据权利要求5所述的眼镜镜片，其中，

9.根据权利要求1～8中任一项所述的眼镜镜片，其中，

10.根据权利要求1～8中任一项所述的眼镜镜片，其中，

11.一种防污剂组合物，其含有：

12.一种眼镜镜片的制造方法，该方法包括：

技术总结本申请的一个实施方式涉及眼镜镜片，其具备防污层，上述防污层是含有具有甲硅烷基及氟代烷基的化合物(A)10～70质量％、和在单末端具有甲硅烷基并且在其它末端具有反应性基团、而且具有聚硅氧烷链结构的化合物(B)30～90质量％的防污剂组合物的缩合物。技术研发人员：关口雄辅,川上宏典,石川正和受保护的技术使用者：豪雅镜片泰国有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/16