匀光片、其制造方法及光学镜头与流程

本发明涉及一种光学元件，且特别涉及一种匀光片、其制造方法及光学镜头。

背景技术：

1、现有的匀光片主要是利用均匀分散在其中的扩散粒子的光散射效应将线光源或点光源转变为面光，然而由于重力、黏滞力或静电等因素的影响，使得扩散粒子难以均匀分布在黏着剂中，从而导致匀光层中的扩散粒子分布不均，影响匀光片的匀光效果，虽然可以通过增加匀光片中匀光层的厚度提升匀光性，但厚度增加会降低匀光片的透光性，现有技术缺少一种兼顾透光性和匀光性的匀光片。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足提供一种匀光片、其制造方法及光学镜头，以改善现有的匀光片或包含匀光片的现有的光学镜头的匀光性。

2、为了解决上述的技术问题，本发明所采用的其中一技术方案是提供一种匀光片，包括：一遮光层，包含有一遮蔽区及被所述遮蔽区围绕的一透光孔；以及至少一匀光层，通过r次网印程序形成的包含多个无机粒子的所述匀光层设置于所述遮光层的一侧；其中，r为正整数，且r大于等于2，于r次网印程序中，彼此相近的两次网印程序的夹角相差360/r度；所述透光孔填充有多个所述无机粒子。

3、在一实施例中，所述匀光层包括：至少一第一匀光层，设置于所述遮光层的一侧且包含多个第一无机粒子，并且各个所述第一无机粒子具有一第一粒径；以及至少一第二匀光层，设置于所述遮光层的一侧且包含多个第二无机粒子；其中，各个所述第二无机粒子具有一第二粒径，所述第二粒径大于所述第一粒径，并且所述第二粒径与所述第一粒径之间的比值介于2.5至40之间； 其中，所述透光孔填充有多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子中的至少其中一者。

4、在一实施例中，至少一所述第一匀光层还包含多个所述第二无机粒子，在单个包含多个所述第二无机粒子的所述第一匀光层中，多个所述第一无机粒子的总质量与多个所述第二无机粒子的总质量之间的比值介于0.25至4之间。

5、在一实施例中，所述第一匀光层的数量为多个；其中，多个所述第一匀光层还区分为仅包含多个所述第一无机粒子的至少一第一子匀光层以及包含多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子的至少一第二子匀光层。

6、在一实施例中，所述第二匀光层的厚度与所述第一匀光层的厚度之间的比值介于1至10之间，和/或，所述匀光片的厚度介于10微米至250微米之间。

7、在一实施例中，所述第一粒径介于0.2微米至0.8微米之间，所述第二粒径介于2微米至8微米之间。

8、在一实施例中，所述匀光片彼此相反的两侧面分别定义为一入光侧及一出光侧；其中，于所述第一匀光层及所述第二匀光层中，最邻近于所述出光侧的为所述第一匀光层。

9、在一实施例中，所述遮光层的所述透光孔的孔径不大于0.4毫米，和/或，所述第一匀光层的数量与所述第二匀光层的数量的总和介于2至15之间。

10、在一实施例中，所述匀光片应用于一感光组件，所述感光组件包含多个像素，并且所述第一粒径与各个所述像素的尺寸之间的比值介于1/2至1/20之间。

11、为了解决上述的技术问题，本发明所采用的另外一技术方案是提供一种光学镜头，包括：一匀光片，彼此相反的两侧面分别定义为一入光侧及一出光侧；其中，所述匀光片包含：一遮光层，包含有一遮蔽区及被所述遮蔽区围绕的一透光孔；至少一匀光层，通过r次网印程序形成的包含多个无机粒子的所述匀光层设置于所述遮光层的一侧；其中，r为正整数，且r大于等于2，于r次网印程序中，彼此相近的两次网印程序的夹角相差360/r度；所述透光孔填充有多个所述无机粒子；以及一感光组件，邻近于所述匀光片的所述出光侧设置且包含多个像素。

12、在一实施例中，所述匀光片与所述感光组件之间的距离不大于1.5毫米。

13、在一实施例中，所述匀光层包括：至少一第一匀光层，设置于所述遮光层的一侧且包含多个第一无机粒子，并且各个所述第一无机粒子具有一第一粒径；及至少一第二匀光层，设置于所述遮光层的一侧且包含多个第二无机粒子；其中，各个所述第二无机粒子具有一第二粒径，所述第二粒径大于所述第一粒径，并且所述第二粒径与所述第一粒径之间的比值介于2.5至40之间；其中，所述透光孔填充有多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子中的至少其中一者。

14、在一实施例中，至少一所述第一匀光层还包含多个所述第二无机粒子，在单个包含多个所述第二无机粒子的所述第一匀光层中，多个所述第一无机粒子的总质量与多个所述第二无机粒子的总质量之间的比值介于0.25至4之间。

15、在一实施例中，所述第一匀光层的数量为多个；其中，多个所述第一匀光层还区分为仅包含多个所述第一无机粒子的至少一第一子匀光层以及包含多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子的至少一第二子匀光层。

16、在一实施例中，所述第二匀光层的厚度与所述第一匀光层的厚度之间的比值是介于1至10之间，和/或，所述匀光片的厚度介于10微米至250微米之间。

17、在一实施例中，所述第一粒径介于0.2微米至0.8微米之间，所述第二粒径介于2微米至8微米之间。

18、在一实施例中，于所述第一匀光层及所述第二匀光层中，最邻近于所述出光侧的为所述第一匀光层。

19、在一实施例中，所述遮光层的所述透光孔的孔径不大于0.4毫米，和/或，所述第一匀光层的数量与所述第二匀光层的数量的总和介于2至15之间。

20、在一实施例中，所述第一粒径与各个所述像素的尺寸之间的比值介于1/2至1/20之间。

21、为了解决上述的技术问题，本发明所采用的再一技术方案是提供一种匀光片的制造方法，包括：一准备步骤，提供一遮光层，并且所述遮光层包含有一遮蔽区及被所述遮蔽区围绕的一透光孔；其中，所述透光孔填充有多个无机粒子；一匀光层形成步骤，于所述遮光层的一侧以r次网印程序形成包含多个所述无机粒子的所述匀光层；其中，r为正整数，且r大于等于2，于r次网印程序中，彼此相近的两次网印程序的夹角相差360/r度。

22、在一实施例中，所述匀光片的制造方法包括：一第一匀光层形成步骤，于所述遮光层的一侧以m次网印程序形成包含多个第一无机粒子的一第一匀光层；其中，m为正整数，于m次网印程序中，彼此相近的两次网印程序的夹角相差360/m度；以及一第二匀光层形成步骤，于所述遮光层的一侧以n次网印程序形成包含多个第二无机粒子的一第二匀光层且得到一匀光片；其中，n为正整数，于n次网印程序中，彼此相近的两次网印程序的夹角相差360/n度；其中，各个所述第一无机粒子具有一第一粒径，各个所述第二无机粒子具有一第二粒径，所述第二粒径大于所述第一粒径，并且所述第二粒径与所述第一粒径之间的比值是介于2.5至40之间；所述透光孔填充有多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子中的至少其中一者。

23、在一实施例中，所述第一匀光层形成步骤中形成的所述第一匀光层包含多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子，在单个包含多个所述第二无机粒子的所述第一匀光层中，多个所述第一无机粒子的总质量与多个所述第二无机粒子的总质量之间的比值介于0.25至4之间。

24、在一实施例中，所述第一匀光层形成步骤被执行多次以形成多个所述第一匀光层；其中，多个所述第一匀光层进一步区分为仅包含多个所述第一无机粒子的至少一第一子匀光层以及包含多个所述第一无机粒子及多个所述第二无机粒子的至少一第二子匀光层。

25、在一实施例中，所述遮光层的所述透光孔的孔径不大于0.4毫米。

26、本发明的有益效果在于，本发明所提供的匀光片、其制造方法及光学镜头，其能通过多次多角度的网印程序改善匀光片的匀光性，且能兼顾匀光片的透光性。

27、为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而所提供的附图仅用于提供参考与说明，并非用来对本发明加以限制。