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一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法与流程

  • 国知局
  • 2024-06-21 12:37:56

本发明属于板材曝光领域,具体涉及一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法。

背景技术:

1、板材曝光是板材加工的重要工艺之一,如:pcb(printed circuit board,印刷电路板)是各个电子元器件的重要载体,pcb板的两面需要分别进行曝光,如ldi的激光直写曝光或光刻等。

2、基于需要对pcb板的两面分别进行曝光,因此在完成板材的一面曝光后,需要利用翻转机构将板材进行翻转,以对其另一面进行曝光。现有自动化曝光设备整体尺寸过大,占地面积大,连线动作ct过长,整体产能低。交换板流程复杂需采用两台设备去曝光产品ab两面。而且,传统的双面曝光机,一般针对的板材型号或尺寸是固定的,或者针对几种不同尺寸需要停机手动变距更换相应的拾取或夹紧机构,这无疑导致了设备的通用性变差且效率变低。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法,其能解决上述问题。

2、设计原理:采用双平台配套单机实现产品ab两面曝光,直接出成品;采用单机内部a面曝光完,手臂对接翻面做b面;采用变距机构自动调节适配不同尺寸的板材。

3、一种尺寸自适应的板材双面曝光设备,板材双面曝光设备包括第一上下料站、第一搬运模组、曝光站、第二搬运模组、第二上下料站;在所述第一搬运模组和第二搬运模组之间设置翻转模组和翻转对接模组;在第一搬运模组、第二搬运模组、翻转模组和翻转对接模组上设置尺寸自动调整机构。

4、进一步的,所述第一上下料站和第二上下料站均包括滚筒流线组件、到位止挡组件和夹紧定位机构,用于对板材的滚动传输和定位;所述第一搬运模组设置在第一上下料站处,所述第二搬运模组设置在第二上下料站处,用于在上下料站和曝光站间的板材拾取和搬运。

5、进一步的,所述翻转模组临近所述第一上下料站或第二上下料站的内侧设置,用于拾取第一面曝光好的板材并将板材翻转;所述翻转对接模组的一侧临近的设置在翻转模组的下游测,且翻转对接模组的另一侧临近所述第二上下料站或第一上下料站设置,用于拾取第二面曝光好的板材并搬运板材下料。

6、进一步的,第一搬运模组、第二搬运模组、翻转模组和翻转对接模组均包括升降机构和板材拾取机构,且第一搬运模组、第二搬运模组和翻转对接模组上还设置横移机构。

7、进一步的,所述尺寸自动调整机构包括调整电机、丝杆和滑块,所述尺寸自动调整机构设置在板材拾取机构的拾取型材架处,临近调整电机处的拾取型材架下方设置固定拾取排组,在滑块的下方设置随滑块滑动的滑动调节拾取排组。

8、本发明还提供了一种板材的双面曝光方法,双面曝光方法基于前述的板材双面曝光设备实施,双面曝光方法包括以下步骤。

9、s1、上料,板材从上料车运至第一上下料站,并在第一上下料站上定位。

10、s2、移料,第一搬运模组将第一上下料站上的板材拾取搬运至第一面待曝光位。

11、s3、正面曝,曝光站的移栽机构移至第一面待曝光位对接拾取第一搬运模组上的板材,并移送至曝光站的曝光位进行正面曝光。

12、s4、移料,曝光站的移栽机构将正面曝光完的板材移送至第一面待曝光位,翻转模组拾取板材并进行翻转,翻转对接模组对接拾取翻转模组翻转后的板材,并将翻转后的板材运至第二面待曝光位。

13、s5、反面曝,曝光站的移栽机构移至第二面待曝光位对接拾取翻转对接模组供给的板材,并移送至曝光站的曝光位进行反面曝光。

14、s6、移料,曝光站的移栽机构将反面曝光完的板材移送至第二面待曝光位,第二搬运模组横移拾取反面曝光好的板材,转运至第二上下料站上。

15、s7、定位下料,第二上下料站支撑曝光好的板材并对其进行定位后下料。

16、相比现有技术,本发明的有益效果在于:本申请的方案可双侧可选的上下料,且移栽机构上设置针对不同尺寸或规格可自动调节的变距机构,设备通用性好,双面曝光效率高,便于在pcb、半导体等需要图形化的领域推广应用。

技术特征:

1.一种尺寸自适应的板材双面曝光设备,板材双面曝光设备包括第一上下料站(100)、第一搬运模组(200)、曝光站、第二搬运模组(300)、第二上下料站(600);其特征在于:

2.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备,其特征在于:

4.根据权利要求1所述的板材双面曝光设备,其特征在于:

5.根据权利要求4所述的板材双面曝光设备,其特征在于:

6.一种双面曝光方法,其特征在于:双面曝光方法基于权利要求1-5任一项所述的板材双面曝光设备实施,双面曝光方法包括:

技术总结本发明提供了一种尺寸自适应的板材双面曝光设备及双面曝光方法,属于板材曝光领域,板材双面曝光设备包括第一上下料站、第一搬运模组、曝光站、第二搬运模组、第二上下料站;在所述第一搬运模组和第二搬运模组之间设置翻转模组和翻转对接模组;在第一搬运模组、第二搬运模组、翻转模组和翻转对接模组上设置尺寸自动调整机构。本申请的方案可双侧可选的上下料,且移栽机构上设置针对不同尺寸或规格可自动调节的变距机构,设备通用性好,双面曝光效率高,便于在PCB、半导体等需要图形化的领域推广应用。技术研发人员:魏亚菲,张福贵,闻刘勇,冯旭章,祝锁,温延培受保护的技术使用者:苏州天准科技股份有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/11

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